DD295825A5 - CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF - Google Patents

CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Download PDF

Info

Publication number
DD295825A5
DD295825A5 DD33015989A DD33015989A DD295825A5 DD 295825 A5 DD295825 A5 DD 295825A5 DD 33015989 A DD33015989 A DD 33015989A DD 33015989 A DD33015989 A DD 33015989A DD 295825 A5 DD295825 A5 DD 295825A5
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
mass
screen
printable
celsian
parts
Prior art date
Application number
DD33015989A
Other languages
German (de)
Inventor
Gerhard Solow
Christa Koecher
Manfred Wetzko
Wolfgang Haessler
Klaus Steinacker
Original Assignee
Akad Wissenschaften Ddr
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akad Wissenschaften Ddr filed Critical Akad Wissenschaften Ddr
Priority to DD33015989A priority Critical patent/DD295825A5/en
Publication of DD295825A5 publication Critical patent/DD295825A5/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

Erfindungsbetreff sind Celsian enthaltende, glasig-kristalline Isolations- und Abdeckschichten, die unter anderem zur elektrischen Trennung von gedruckten Leitbahnen in mikroelektronischen Mehrebenen-Schaltkreisen und zum Oberflaechenschutz mikroelektronischer Schaltkreis- und Bauelementanordnungen einsetzbar sind. Erfindungsgemaesz besteht das zu brennende Material aus einem siebdruckfaehigen, innigen Gemisch von 50 bis 80 Masseanteile in % eines Glases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in %) 30 bis 50 BaO, 15 bis 30 B2O3, 5 bis 15 Al2O3 und 20 bis 45 SiO2, das einen mittleren linearen thermischen AK (293 K bis 573 K) von 6,010 6 K 1 bis 7,510 6 K 1 hat, und 20 bis 50 Masseanteile in % kristallines alpha-Aluminiumoxid, mit einer Korngroesze kleiner 10 mm, davon mindestens 50 Masseanteile in % kleiner oder gleich 3 mm, besteht. Das siebdruckfaehige, innige Gemisch kann eine einen fluessigen organischen, makromolekularen Drucktraeger enthaltende siebdruckfaehige Paste sein. Das erfindungsgemaesze Herstellungsverfahren beruht insbesondere auf der Verarbeitung erfindungsgemaeszer reduktionsstabiler, bis zur Temperatur von kleiner oder gleich 1 173 K nicht zur Eigenkristallisation faehiger Glaeser mit einer Temperatur der beginnenden Sinterung bei groeszer oder gleich 953 K und dem linearen thermischen AK (293 K bis 573 K) von 6,010 6 K 1 bis 7,510 6 K 1.{Celsian; Isolationsschichten; Abdeckschichten; Leitbahnen, gedruckte; Mehrebenen-Schaltkreise, mikroelektronische; Gemisch, siebdruckfaehiges; alpha-Aluminiumoxid, kristallines; Drucktraeger, fluessiger organischer makromolekularer;}The invention relates to Celsian-containing, glassy-crystalline insulating and capping layers which can be used inter alia for the electrical separation of printed interconnects in microelectronic multi-level circuits and for surface protection of microelectronic circuit and component arrangements. According to the invention, the material to be fired consists of a screen-printable, intimate mixture of 50 to 80 parts by weight in% of a glass of the chemical composition (in mass fractions in%) 30 to 50 BaO, 15 to 30 B2O3, 5 to 15 Al2O3 and 20 to 45 SiO2, which has a mean linear thermal AK (293 K to 573 K) of 6.010 6 K 1 to 7.510 6 K 1, and 20 to 50 parts by weight in% crystalline alpha-alumina, with a particle size of less than 10 mm, of which at least 50% by mass less than or equal to 3 mm. The screen-printable, intimate mixture may be a screen-printable paste containing a liquid organic macromolecular print carrier. The production method according to the invention is based, in particular, on the processing of glasses which are stable to reduction and less than or equal to 1173 K and which do not crystallize spontaneously, at a sintering temperature of greater than or equal to 953 K and the linear thermal AK (293 K to 573 K). from 6.010 6 K 1 to 7.510 6 K 1. {Celsian; Insulation layers; covering layers; Interconnects, printed; Multi-level circuits, microelectronic; Mixture, screen-printable; alpha alumina, crystalline; Print carrier, liquid organic macromolecular;}

Description

35 bis 45BaO 15 bis 25 B2O3 5 bis 15AI2O3 25 bis 42SiO2,35 to 45 BaO 15 to 25 B 2 O 3 5 to 15Al 2 O 3 25 to 42SiO 2 ,

das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten fur den Temperaturbereich von 293K bis 573Kzwischen 6,0 x 10"6K"1 und 7,5 x 10"6K ' hat, und 30 bis 45 Masseanteile in % zerkleinertes kristallines alpha-Aluminiumoxid, mit einer Korngroße kleiner 10μιη, davon mindestens 50 Masseanteile in % kleiner oder gleich Зцтwhich has an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range of 293K to 573Kzwischen 6.0 x 10 "6 K" 1 and 7.5 x 10 "6 has K ', and 30 to 45% by mass of crushed crystalline alpha-alumina, with a Grain size smaller 10μιη, of which at least 50 parts by mass in% less than or equal to Зцт

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Die Erfindung betrifft Celsian enthaltende, glasig kristalline Isolations und Abdeckschichten, die zur elektrischen Trennung von gedruckten Leitbahnen in mikroelektrischen Mehrebenen Schaltkreisen sowie auch zur äußeren Abdeckung und zum Oberflachenschutz mikroelektronischer Schaltkreis und Bauelementanordnungen gegenüber äußeren Einflüssen einsetzbar sindThe invention relates to Celsian-containing, glassy crystalline insulation and cover layers, which are used for electrical separation of printed interconnects in micro-electrical multi-level circuits as well as the outer cover and surface protection microelectronic circuit and component assemblies against external influences

Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art

In der Dickschicht Mikroelektronik sind bereits Materialsysteme bekannt geworden deren technische Aufgabe dann besteht nach Durchlaufen eines technologischen Brennregimes die Bildung von Celsian, ein in mehreren polymorphen Modifikationen auftretendes kristallines Bariumaluminiumsilikat der Zusammensetzung BaAI2Si2O8, als den (im wesentlichen) eigenschaftsbestimmenden Bestandteil einer Isolations und Abdeckschicht, zu ermöglichen Generell besitzen Celsian enthaltende Isolations und Abdeckschichten neben der Eigenschaft der kontrollierten Thermoplastizitat, d h der Fähigkeit wiederholte thermische Belastungen einer bereits eingebrannten Schicht bis in den Bereich der ursprünglichen Brenntemperatur ohne Deformation überdauern zu können (eine fur die Realisierung von Mehrebenenstrukturen unabdingbare Forderung), weitere vorteilhafte Eigenschaften wie ζ B hohe Isolationswiderstande und niedrige dielektrische Verlustfaktoren sowie die prinzipielle Möglichkeit, das Warmedehnungsverhalten der resultierenden Isolations und Abdeckschichten in Abhängigkeit von der Art der jeweils vorliegenden Kristallmodifikation ι η gewissem Umfang beeinflussen zu könnenIn the thick-film microelectronics material systems are already known whose technical task is then after passing through a technological Brennregimes the formation of Celsian, a occurring in several polymorphs crystalline barium aluminum silicate composition BaAI 2 Si 2 O 8 , as the (essentially) property-determining component of a In general, Celsian-containing insulation and cover layers have the property of controlled thermoplasticity, ie the ability to survive repeated thermal stresses on an already baked layer to the original firing temperature without deformation (which is indispensable for the realization of multi-level structures) Requirement), further advantageous properties such as Isol B high insulation resistances and low dielectric loss factors as well as the possibility in principle, the thermal expansion V get the resulting insulation and cover layers depending on the nature of the respective present crystal modification ι η to influence a certain extent

Die zur Herstellung Celsian enthaltender Isolationsschichten benotigten glasig-kristallinen Ausgangsmatenalien werden in der DE OS 2330381 sowie im US P 3586522 und US P 3837869 beschrieben In der Fachliteratur (Xl Intern Glas Kongreß PragThe glassy-crystalline starting materials required for the preparation of Celsian insulating layers are described in DE OS 2330381 and in US Pat. No. 3,558,652 and US Pat. No. 3,837,869. In the specialist literature (XI International Glas Congress Prague

1977) behandelt BROUKAL den Kristallisationsprozeß von kristallisierenden Glasern mit Celsian als kristallinem Hauptbestandteil1977) BROUKAL treats the crystallization process of crystallizing glasses with Celsian as the main crystalline component

Erfindungsgegenstand der DE OS 2330381 sind kristallisierende Glaser fur die Herstellung von Uberkreuzungsdielektnka die wahrend des Brennvorganges im Bereich zwischen 850 und 9000C neben Titanit und Zinkorthosilikat im wesentlichen aus Celsian bestehende Kristallphasen ausbilden und durch folgenden Bereich ihrer chemischen Zusammensetzung in Ma % charakterisiert werden 25-40 SiO2 5-15TiO2 7-12AI2O3 10-30BaO 10-20ZnO, 2-10 CaO, 2-8 B2O3, 0-2 MgO 0-4 Bi2O3 Im US P 3586522 wird eine Glaskeramikzusammensetzung als Dielektrikumsschicht mit der Hauptkristallphase Celsian in Mengenanteilen zwischen 20 und 40% beschrieben (außerdem Titanit als Nebenbestandteil), basierend auf einem kristallisierendem Ausgangsglas aus dem Zusammensetzungsbereich (Ma %) 22-32 SiO2, 22-42 PbO, 9-13 AI2O3 3-15 TiO2 4-12BaO 0-20ZnO, 0-1OPbF2, 0-4 SrO, 0-4 ZrO2, 0-4Ta2O5 0-4 WO3, 0-4 CdO 0-4 SnO2, 0-4 Sb2O3 Das US P 3837869 schützt eine glasig kristalline Materialzusammensetzung die eine Mischung aus 10—75Ma % bereits vorgebildeter Celsiankristalle sowie zwei glasige Phasen umfaßt, wobei eine der Glasphasen mit dem zur Celsiankristallisaiion fähigem Glas gemäß der Lehre des о g US P 3586522 identisch istThe subject of the invention of DE OS 2330381 are crystallizing glasses for the production of Überkreuzungsdielektnka which form during the firing process in the range between 850 and 900 0 C in addition to titanite and zinc orthosilicate consisting essentially of Celsian crystal phases and characterized by the following range of their chemical composition in Ma% 25- 40 SiO 2 5-15TiO 2 7-12AI 2 O 3 10-30BaO 10-20ZnO, 2-10 CaO, 2-8 B 2 O 3 , 0-2 MgO 0-4 Bi 2 O 3 In US Pat Glass ceramic composition as a dielectric layer with the main crystal phase Celsian in proportions between 20 and 40% described (also titanate as minor ingredient), based on a crystallizing starting glass from the composition range (Ma%) 22-32 SiO 2 , 22-42 PbO, 9-13 AI 2 O 3 3-15 TiO 2 4-12 BaO 0-20 ZnO, 0-1OPbF 2 , 0-4 SrO, 0-4 ZrO 2 , 0-4Ta 2 O 5 0-4 WO 3 , 0-4 CdO 0-4 SnO 2 , 0-4 Sb 2 O 3 US Pat. No. 3,337,869 protects a glassy crystalline material composition which comprises a mixture of 10-75% by weight of already preformed Celsian crystals and two glassy phases, one of the glass phases being identical to the glass capable of Celsian crystallization according to the teaching of US Pat. No. 3,589,522

Schließlich beschreibt BROUKAL(S о ) den Mechanismus der Celsianknstallisation in einer aus (in Ma %) 27SiO2, 13AI2O3 31 PbO, 9,3ZnO 13,5TiO2 und 6,2BaO bestehenden kristallisierenden Glaszusammensetzung fur die Herstellung von Isolationsschichten in der DickschichthybndtechnikFinally, BROUKAL (S о) describes the Celsianknstallization mechanism in a crystallizing glass composition consisting of (in Ma%) 27SiO 2 , 13AI 2 O 3 31 PbO, 9,3ZnO 13,5TiO 2 and 6,2BaO for the preparation of insulating layers in the Dickschichthybndtechnik

Die genannten Losungen des Standes der Technik sind zum einen dadurch charakterisiert, daß sie als siebdruckfahiges Ausgangsmatenal fur die Herstellung von Celsian enthaltenden Isolationsschichten stets zur gesteuerten Eigenkristallisation fähige Glaszusammensetzungen zum Typ der Sintervitrokeramik verwenden Der Nachteil derartiger nicht stabiler Glaszusammensetzungen besteht generell darin daß sie in der Regel nur ein sehr enges Sintertemperaturintervall aufweisen und die dazu häufig in Konkurrenz ablaufenden Volumen und ggf auch Oberflachenkristallisationsprozessezu einer vorzeitigenThe above-mentioned solutions of the prior art are characterized on the one hand by the fact that they always use controlled self-crystallization glass compositions of the sintered vitroceramic type as a screen-printable starting material for the production of insulating layers containing Celsian. The disadvantage of such non-stable glass compositions is generally that they generally have only a very narrow sintering temperature interval and the volume often running in competition with it and possibly also surface recrystallization processes to a premature

Sinterblockade fuhren können Dadurch kann die Ausbildung einer dichtgesinterten porenarmen Isolationsschicht mit reproduzierbar elektrisch isolierenden bzw hermetisch kapselnden Eigenschaften erheblich beeinträchtigt werden, dies geschieht vor allem dann, wenn durch Nichteinhalten der optimalen Teilchengroßeverteilung des Glaspulvers das Sinter und Kristallisationsverhalten des Materials in unkontrollierbarer Weise verändert wird Darüber hinaus besteht ein weiterer einschränkender Gesichtspunkt fur die Verwendung kristallisierender Glaser vom Typ des Sintervitrokerams darin, daß sie zur (im Bezug auf Menge und Große der Kristalle) optimalen Kristallausbildung einem relativ sensiblen Zeit Temperatur-Regime mit vergleichsweise niedrigen Aufheizarten und zwei Haltepenoden bei unterschiedlichen Temperaturen (jeweils im Bereich der maximalen Keimbildungsgeschwindigkeit und der maximalen Knstallwachstumsgeschwindigkeit) ausgesetzt werden müssen Da das technologische Regime des Dichtschichtpasteneinbrandes vor allem aus ökonomischen Gründen auf hohe Aufheizraten und nur eine Haltepenode bei der jeweiligen Spitzenbrenntemperatur orientiert wird, ergeben sich fur die resultierende Isolationsschicht generell zusatzliche Probleme hinsichtlich einer vollständigen maximalen Knstallphasenausscheidung unter den gegebenen nichtoptimalen Bedingungen des BrennregimesAs a result, the formation of a densely sintered, low-pore insulation layer having reproducibly electrically insulating or hermetically encapsulating properties can be significantly impaired, especially if the sintering and crystallization behavior of the material is changed in an uncontrollable manner by non-compliance with the optimum particle size distribution of the glass powder Another limiting consideration for the use of sintered vitroceramic crystallizing glasses is that they provide for the (in terms of amount and size of crystals) optimal crystal formation a relatively sensitive time temperature regime with comparatively low heating modes and two holding molds at different temperatures (respectively in the range of the maximum nucleation rate and the maximum cyst growth rate) must be exposed as the technological regime of the seal layered paste firing is oriented, especially for economic reasons, to high heating rates and only one holding pen at the respective peak firing temperature, additional problems generally arise for the resulting insulating layer with regard to complete maximum precipitation of potash under the given nonoptimal conditions of the firing regime

Schließlich besteht ein weiteres Merkmal der Losungen des Standes der Technik dann, daß die dort verwendeten Grundglaszusammensetzungen in der Regel reduzierbare Bestandteile wie PbO, CdO Bi2O3 bzw TiO2 enthalten Diese können bei einem nichtoxi die rend eingestellten technologischen Brennregime, wie es ζ B bei der Verarbeitung eines Pastensystems auf Basis edelmetallfreier Leitpasten angewendet werden mußte, in niedrigen Wertigkeitsstufen (Ti4+ —* Ti3+) bzw den metallischen Zustand (Pb2+ —» Pb+0) übergehen, wodurch die resultierenden Isolationsschichten in ihren dielektrischen Eigenschaften verändert werden konnen, so daß die Losungen des Standes der Technik nur sehr bedingt als Bestandteil eines edelmetallfreien Dickschichtpastensystems einsetzbar warenFinally, another feature of the prior art solutions is that the base glass compositions used therein typically contain reducible components such as PbO, CdO Bi 2 O 3, and TiO 2 , respectively. These can be used in a non-oxidative technological firing regime, such as B had to be applied in the processing of a paste system based on noble metal-free conductive pastes, in low valence states (Ti 4+ - * Ti 3+ ) or the metallic state (Pb 2+ - »Pb +0 ) pass over, whereby the resulting insulating layers in their dielectric properties can be changed, so that the solutions of the prior art were very limited use as part of a noble metal-free thick-film paste system

Ziel der ErfindungObject of the invention

Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung einer siebdruckfahigen Mischung, aus der unter weitestgehender Vermeidung der N achteile des Standes der Technik, Celsia η enthaltende, glasig kristalline Isolations und Abdeckschichten auf Tonerdekeramik Substrate vorteilhafter herstellbar sindThe aim of the invention is to provide a screen printable mixture, from which, while largely avoiding the disadvantages of the prior art, Celsia η-containing, glassy crystalline insulation and cover layers on alumina ceramic substrates are produced more advantageously

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, zur Herstellung von Celsian enthaltende glasig kristalline Isolations- und Abdeckschichten auf Tonerdekeramik Substrate eine neuartige siebdruckfahige Mischung zu entwickeln, deren Glaskomponente ein gegenüber dem Stand der Technik vor allem gunstigeres Sinter und Knstallisationsverfahren aufweist und fur das technologische Regime des Dickschichtpasteneinbrandes erforderliche höhere Aufheizraten mit nur einer Haltepenode ermöglichtThe invention has for its object to develop for the production of Celsian containing crystalline insulating and cover layers on alumina ceramic substrates to develop a novel screen printable mixture whose glass component has a comparison with the prior art, especially cheaper sintering and Knstallisationsverfahren and for the technological regime of thick film paste brand required higher heating rates with only one holding pen allows

Es wurde gefunden, daß erfindungsgemaß das fur die Celsian enthaltenden, glasig-kristallinen Isolations- und Abdeckschichten auf Tonerdekeramik-Substrate zu brennende Material aus einem siebdruckfahigen, innigen GemischIt has been found that, according to the invention, the glassy-crystalline insulating and covering layers containing Celsian on alumina ceramic substrates are to be fired from a screen-printable, intimate mixture

- von 50 bis 80 Masseanteile in % eines zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)- from 50 to 80 parts by weight in% of a crushed glass of chemical composition (calculated in% by weight and based on oxides)

30 bis 50 BaO 15 bis 30 B2O3 5 bis 15 AI2O3 20 bis 45 SiO2,30 to 50 BaO 15 to 30 B 2 O 3 5 to 15 Al 2 O 3 20 to 45 SiO 2 ,

das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten fur den Temperaturbereich von 293K bis 573 K zwischen 6 0 χ 10"6K"1 und 7,5 χ 10"6K"1 hat und 20 bis 50 Masseanteile in % zerkleinertes kristallines alpha Aluminiumoxidwhich has a mean linear thermal expansion coefficient for the temperature range from 293 K to 573 K between 6 0 χ 10 " 6 K" 1 and 7.5 χ 10 " 6 K" 1 and 20 to 50 mass% in% crushed crystalline alpha alumina

- mit einer Korngroße kleiner ΙΟμιτι, davon mindestens 50 Masseanteile in % kleiner oder gleich Зцт besteht und- With a grain size smaller ΙΟμιτι, of which at least 50 parts by mass in% is less than or equal to Зцт and

- das siebgedruckte, gebrannte Material- the screen-printed, fired material

• neben der glasigen Phase eine kristall ine al pha-Aluminiumoxidphase mit bis zu 30 Masseanteile in % der Gesamtmasse der gebrannten Materials und eine monokline und hexagonale Celsianphase mit mindestens 10 Massenanteile in % an monokliner Celsianphase enthalt,In addition to the glassy phase, a crystalline alpha-alumina phase containing up to 30% by mass in% of the total mass of the fired material and a monoclinic and hexagonal Celsian phase containing at least 10% by mass of monoclinic Celsian phase,

• einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten fur den Temperaturbereich von 293 K bis 573 K zwischen 5.1 x 10"6K ' und 7,5 x 10'6K"1,A mean linear thermal expansion coefficient for the temperature range from 293 K to 573 K between 5.1 × 10 -6 K 'and 7.5 × 10 -6 K -1 ,

• einen elektrischen Isolationswiderstand von großer 10!2Ohm [293K] und• an electrical insulation resistance of large 10 ! 2 ohms [293K] and

• einen dielektrischen Verlustfaktor von kleiner oder gleich 10 2 [1 kHz] hat• has a dielectric loss factor of less than or equal to 10 2 [1 kHz]

Eine bevorzugte Ausfuhrungsform des siebdruckfahigen, innigen Gemisches besteht aus 55 bis 70 Masseanteile in % eines zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Massenanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)A preferred embodiment of the screen-printable, intimate mixture consists of 55 to 70 parts by weight in% of a comminuted glass of the chemical composition (in% by weight and calculated on an oxide basis)

35 bis 45 BaO 15 bis 25 B2O3 5 bis 15 AI2O3 25 bis 42 SiO2,35 to 45 BaO 15 to 25 B 2 O 3 5 to 15 Al 2 O 3 25 to 42 SiO 2 ,

das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten fur den Temperaturbereich von 293 K bis 573 K zwischen 6,0 χ 10"6K"1 und 7,5 χ 10"6K"1 hat, und 30 bis 45 Masseantede in % zerkleinertes kristallines alpha Aluminiumoxid Das siebdruckfahige, innige Gemisch kann eine einen flussigen organischen, makromolekularen Drucktrager enthaltende siebdruckfahige Paste seinthe χ an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range of 293 K to 573 K between 6.0 10 "6 K" 1 and 7.5 χ 10 "6 K" 1 has, and 30 to 45% in Masseantede comminuted crystalline alpha alumina The screen-printable, intimate mixture may be a screen-printable paste containing a liquid organic macromolecular printing support

Weiterhin wurde ein Verfahren zur Herstellung von Celsian enthaltende, glasig kristalline Isolations- und Abdeckschichten auf Tonerdekeramik-Substrate gefunden Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man ein siebdruckfahiges inniges Gemisch bereitet, bestehend aus 50 bis 80 Masseanteile in %, vorzugsweise 55 bis 70 Masseanteile in %, eines zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)Furthermore, a process for the preparation of Celsian-containing, glassy crystalline insulating and covering layers on alumina ceramic substrates has been found. This process is characterized in that a screen-printable intimate mixture is prepared, consisting of 50 to 80 parts by mass in%, preferably 55 to 70 parts by mass in %, of a crushed glass of chemical composition (in% by mass and calculated on an oxide basis)

30 bis 50 BaO, vorzugsweise 35 bis 45 BaO, 15 bis 30 B2O3, vorzugsweise 15 bis 25 B2O3, 5 bis 15 AI2O3, 20 bis 45 SiO2, vorzugsweise 25 bis 42 SiO2,30 to 50 BaO, preferably 35 to 45 BaO, 15 to 30 B 2 O 3 , preferably 15 to 25 B 2 O 3 , 5 to 15 Al 2 O 3 , 20 to 45 SiO 2 , preferably 25 to 42 SiO 2 ,

das einen mittleren linearen technischen Ausdehnungskoeffizienten fur den Temperaturbereich von 293K bis 573K zwischen 6,0 χ 10 6K"1 und 7,5 χ 10~6K~' hat, und 20 bis 50 Masseanteile in %, vorzugsweise 30 bis 45 Masseanteile in %, zerkleinertes kristallines alpha-Alumimumoxid, mit einer Korngroße kleiner 10 цт, davon mindestens 50 Masseanteile in % kleiner oder gleich 3μΓη, das innige Gemisch in einem flussigen organischen makromolekularen Drucktrager zu einer siebdruckfahigen Paste dispergiert, die Paste auf Tonerdekeramik-Substrate siebverdruckt und nach dem Trocknen die bedruckten Substrate mit einer Geschwindigkeit zwischen lOKmin"1 und 50Kmin~' auf eine Brenntemperatur zwischen 1 073K und 1 173K aufheizt bei dieser Temperatur zwischen 10 und 20 Minuten tempert und anschließend abkühltwhich has an average linear technical coefficient of expansion for the temperature range of 293K to 573K between 6.0 χ 10 6 K "1 and 7.5 χ 10 -6 K 'has ~, and 20 to 50% by mass, preferably 30 to 45 parts by mass in %, crushed crystalline alpha-alumina, with a particle size smaller than 10 цт, of which at least 50 parts by mass in% less than or equal to 3μΓη, the intimate mixture dispersed in a liquid organic macromolecular Drucktrager to a screen-printable paste, the paste screen printed on alumina ceramic substrates and after drying the printed substrates at a rate between lOKmin " 1 and 50Kmin ~ 'heated to a firing temperature between 1 073K and 1 173K tempered at this temperature for 10 to 20 minutes and then cooled

Untersuchungen mit dem erfindungsgemaßen siebdruckfahigen, innigen Gemisch ergaben, daß Mengenanteile von großer 80 Masseanteile in % des in diesem Gemisch enthaltenden Glases bereits beim Erstbrand generell zu unkontrollierbaren plastischen Deformationen und zum Verlaufen der gedruckten Linienstrukturen fuhren, andererseits werden bei Glasanteilen von kleiner 50 Masseanteile in % infolge nicht ausreichender Sinterfahigkeit unter den Bedingungen des technologischen Brennregimes nur poröse Schichten mit ungenügenden Isolations- und Abdeckeigenschaften erhalten Gegenüber den Glasern des Standes der Technik existieren innerhalb des erfindungsgemaßen Bereiches der chemischen Glaszusammensetzung reduktionsstabile, bis zu einer Temperatur von kleiner oder gleich 1173 K nicht zur Eigenkristallisation fähige Glaser mit einer Temperatur der beginnenden Sinterung im Bereich von großer oder gleich 953 K und dem mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten zwischen 6,0 x 10"6K"1 und 7,5 χ 10"6K"1 im Temperaturbereich zwischen 293 K und 573 K Diese Glaser enthalten im Unterschied zu den bekannten Glasern keine reduzierbaren Bestandteile wie PbO CdO, Bi2O3 oderTiO2 Investigations with the inventive screen-printable, intimate mixture showed that proportions of large 80 parts by mass in% of the glass contained in this mixture already lead to uncontrollable plastic deformation and bleeding of the printed line structures during initial firing, on the other hand glass contents of less than 50% by weight in% As a result of insufficient sinterability under the conditions of the technological firing regime, only porous layers with insufficient insulation and covering properties are obtained. Compared with the glasses of the prior art, reduction-stable up to a temperature of less than or equal to 1173 K do not exist for self-crystallization within the range of the chemical glass composition according to the invention capable glaziers with incipient sintering temperature in the range of greater than or equal to 953 K and the mean linear thermal expansion coefficient between 6.0 x 10 -6 K " 1 and 7.5 χ 10" 6 K " 1 in the temperature range between 293 K and 573 K Unlike conventional glasses, these glasses do not contain any reducible components such as PbO CdO, Bi 2 O 3 or TiO 2

Außerhalb des erfindungsgemaßen Bereiches der chemischen Glaszusammensetzung liegende BaO-Gehalte von großer 50 Masseanteile in % verschieben den mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten zu Werte großer 7,5 χ 10"6K"1 und den Sinterbeginn zu Temperaturen kleiner 953K, BaO Gehalte kleiner 30 Masseanteile in%, B2O3-Gehalte kleiner 15 Masseanteile in % und SiO2-Gehalte großer 45 Masseanteile in % verzogern dagegen den Sinterprozeß insgesamt und beeinträchtigen damit die Ausbildung dichter und porenfreier Schichten Glaszusammensetzungen mit AI2O3-Gehalten kleiner 5 Masseanteile in % neigen bereits erheblich zu Eigenkristallisation, wahrend AI2O3-Gehalte großer 15 Masseanteile in % die notwendige chemische Reaktivität des Glases mit der kristallinen Komponente Aluminiumoxid bereits merklich vermindern und gleichzeitig den Sinterprozeß behindernMove lying outside of the inventive scope of the chemical glass composition, BaO contents of great 50% by mass of the average linear thermal expansion coefficient to values larger 7.5 χ 10 "6 K" 1 and the start of sintering at temperatures below 953K, BaO contents of less than 30 parts by mass in %, B 2 O 3 contents of less than 15 mass fractions in% and SiO 2 contents of large 45 mass fractions in% delay the overall sintering process and thus impair the formation of dense and pore-free layers Glass compositions with Al 2 O 3 contents less than 5 mass fractions in% Already significantly crystallize to self-crystallization, while Al 2 O 3 contents of large 15 parts by mass in% already significantly reduce the necessary chemical reactivity of the glass with the crystalline component alumina and at the same hinder the sintering process

AusfuhrungsbeispieleExemplary embodiments

Im folgenden wird die Erfindung durch Ausfuhrungsbeispiele weiter erläutert, wobei die Anwendung der Erfindung nicht auf dieses Beispiele beschrankt istIn the following the invention is further explained by exemplary embodiments, wherein the application of the invention is not limited to this example

Das erfindungsgemaße siebdruckfahige Gemisch wird in an sich bekannter Weise unter Zusatz von in der Dichtschichttechnik üblicherweise verwendeten flussigen organischen makromolekularen Drucktragern zu siebdruckfahigen Pasten aufbereitet, auf Tonerdekeramik-Substraten verdruckt, getrocknet und einem üblichen technologischen Brennregime ausgesetzt Es ist ein Kennzeichen der Erfindung, daß die erfinderische Wirkung, d h die Ausbildung einer Celsian enthaltenden, glasig kristallinen Isolations- und Abdeckschicht dann erreicht wird, wenn der Brennprozeß über mindestens 10 Minuten im Temperaturbereich zwischen 1 073 K und 1173 K erfolgt, wobei die Aufheizgeschwindigkeit bis zum Erreichen der jeweiligen Spitzentemperatur bis zu 50Kmin~' betragen kannThe novel screen-printable mixture is prepared in known manner with the addition of liquid-organic macromolecular pressure transducers commonly used in the screen printing pastes, printed on alumina ceramic substrates, dried and exposed to a conventional technological firing regime Effect, ie the formation of a Celsian-containing, glassy crystalline insulation and cover layer is achieved when the firing process for at least 10 minutes in the temperature range between 1 073 K and 1173 K occurs, the heating up to reaching the respective peak temperature up to 50Kmin ~ 'may amount

Die folgende Tabelle I und Il zeigen Beispiele fur den Versatzaufbau der siebdruckfahigen Gemische, fur die chemische Zusammensetzung der in den Gemischen verwendeten Glaser sowie fur ausgewählte Eigenschaftskennwerte der verwendeten Glaser und der resultierenden Isolations und AbdeckschichtenThe following Tables I and II show examples of the offset composition of the screen-printable mixtures, the chemical composition of the glasses used in the mixtures, as well as selected characteristic values of the glasses used and the resulting insulating and covering layers

Die Beispiele A bis E stellen eine fur die Realisierung der erfinderischen Zielstellung repräsentative Auswahl dar, wahrend die Beispiele G und H im bezug auf die chemische Zusammensetzung und das Entglasungsverhalten der Glaskomponente als Beispiele fur außerhalb des Umfangs der Erfindung liegende und zur Erreichung des Erfindungsziels ungeeignete Varianten zu betrachten sindExamples A to E represent a selection representative of the realization of the inventive objective, while Examples G and H in terms of the chemical composition and the devitrification behavior of the glass component are examples of variants outside the scope of the invention which are not suitable for achieving the goal of the invention to be considered

Tabelle ITable I Beispielexample

Versatzaufbau des GemischesOffset composition of the mixture

Chem. Zusammensetzung der GlaskomponenteChem. Composition of the glass component

Eigenschaftskennwerte der GlaskomponenteProperty characteristics of the glass component

Krist.Krist. Glas-Glass- BestandDuration kompocom teilpart nentecomponent AI2O3 Al 2 O 3

Masseanteile in %Mass shares in%

Entglas.Entglas. Temperaturtemperature Mittlerermiddle verhaltenbehavior der bethe be linearerlinear ginnendenbeginning end therm. Austherm. off Sinterungsintering dehn.koeffdehn.koeff [Kl[Kl IK 1IIK 1 I

Massenanteile in %Mass shares in% 7070 BaOBaO AI2O3 Al 2 O 3 B2O3 B 2 O 3 SiO2 SiO 2 stabilstable 10031003 6,1 10"6 6.1 10 " 6 AA 3030 6565 3838 55 1515 4242 stabilstable 983983 6,9 · 10"6 6.9 x 10 " 6 BB 3535 7070 4040 1010 1515 3535 stabilstable 993993 6,1 · 10~6 6.1 x 10 -6 CC 3030 8080 4040 55 1515 4242 stabilstable 993993 6,1 · 10"6 6.1 x 10 " 6 DD 2020 6060 4040 55 1515 4040 stabilstable 963963 6,3 · 10"6 6.3 x 10 " 6 Ee 4040 7575 3535 1010 2525 3030 stabilstable 953953 6,6· 10"6 6.6 x 10 " 6 FF 2525 4040 1515 2020 2525 nicht stabilnot stable 933933 7,8 10"6 7,8 10 " 6 GG 5050 00 3030 2020 nicht stabilnot stable 943943 6,4 · 10"6 6.4 · 10 " 6 HH 4040 00 3535 2525 Tabelle IlTable II Versatzaufbau des GemischesOffset composition of the mixture Chem. Zusammensetzung der Eigenschaftskennwerte der Glaskomponente vorliegenden SchichtChem. Composition of the characteristic properties of the glass component present layer nach dem Brennprozeßafter the firing process Beispielexample

Krist.Krist. GlasGlass Masseanteile in %Mass shares in% ReI. MengenRel. amounts MasseDimensions Isoiso diel.diel. mittl.av. * -* - BeBe kompocom anteil CeI-proportion of anteil in%percentage ownership% lations-.lations-. VerVer linearerlinear standwas standing nentecomponent sian (mono-sian (mono- Ci-AI2O3 anCi-AI 2 O 3 on widercontrary lustlust ,therm. Aus, Therm. Out teilpart klin)anGe-klin) appropriateness Gesamt-Total- standwas standing faktorfactor dehn, koeffstretch, coeff AI2O3 Al 2 O 3 samt-Celsi-velvet Celsi- massedermass eder [Ω][Ω] (bei 1(at 1 IK-1IIK- 1 I angehalt[%]is just [%] Schicht nachShift to (293K)(293K) kHz)kHz) dem Brennthe Brenn prozeßprocess

Masseanteile in %Mass shares in% 7070 BaOBaO AI2O3 Al 2 O 3 B2O3 B 2 O 3 SiO2 SiO 2 3030 1717 2 10""2 10 "" 2· 1014 2 · 10 14 5,9- 10~6 5.9-10 ~ 6 AA 3030 6565 3838 55 1515 4242 1111 2525 2· 1014 2 · 10 14 3· 10~3 3 · 10 ~ 3 7,3· 1(T6 7.3 · 1 (T 6 BB 3535 7070 4040 1010 1515 3535 4343 1616 2· 10'"2 · 10 '" 4 ΙΟ"4 4 ΙΟ " 4 5,7 · 10"6 5.7x10 " 6 CC 3030 8080 4040 55 1515 4242 1414 88th 5-10'3 5-10 ' 3 8 10"3 8 10 " 3 6,7 · 10"6 6.7 x 10 " 6 DD 2020 6060 4040 55 1515 4040 1616 2323 8· 1013 8 · 10 13 9-1(T3 9-1 (T 3 6,5 · 10"6 6.5 x 10 " 6 Ee 4040 7575 3535 1010 2525 3030 >90> 90 1919 1 10"1 10 " 8· ΙΟ"4 8 · ΙΟ " 4 5,2· 10"6 5.2 x 10 " 6 FF 2525 4040 1515 2020 2525 GG 5050 00 3030 2020 HH 4040 00 3535 2525

Claims (5)

1. Celsian enthaltende, glasig-kristalline Isolations- und Abdeckschichten aus siebgedrucktem, gebranntem Material, auf Tonerdekeramik-Substrate, dadurch gekennzeichnet, daß1. Celsian-containing, glassy-crystalline insulating and covering layers of screen-printed, fired material, on alumina ceramic substrates, characterized in that - das zu brennende Material aus einem siebdruckfähigen, innigen Gemisch- The material to be burned from a screen-printable, intimate mixture • von 50 bis 80 Masseanteile in % eines zerkleinerten Gases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)• from 50 to 80 parts by mass in% of a comminuted gas of chemical composition (in% by mass and calculated on an oxide basis) 30 bis 50 BaO 15 bis 30 B2O3 5 bis 15AI2O3 20 bis 45 SiO2,30 to 50 BaO 15 to 30 B 2 O 3 5 to 15Al 2 O 3 20 to 45 SiO 2 , das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten für den Temperaturbereich von 293K bis 573K zwischen 6,0 x 10"6K"1 und 7,5 x 10"6K"1 hat, und bis 50 Masseanteile in % zerkleinertes kristallines alpha-Aluminiumoxid,which has an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range from 293K to 573K is between 6.0 x 10 "6 K" 1 and 7.5 x 10 "6 K" 1, and up to 50% by mass of crushed crystalline alpha-alumina, • mit einer Korngröße kleiner ΙΟμηη, davon mindestens 50 Masseanteile in % kleiner oder gleich Зцгп,• having a particle size smaller than ,μηη, of which at least 50% by mass is less than or equal to ЗЗgp, besteht undexists and - das siebgedruckte, gebrannte Material- the screen-printed, fired material • neben der glasigen Phase eine kristalline alpha-Aluminiumoxidphase mit bis zu Masseanteile in % der Gesamtmasse des gebrannten Materials und eine monokline und hexagonale Celsianphase mit mindestens 10 Masseanteile in % an monokliner Celsianphase enthält,In addition to the glassy phase, a crystalline alpha-alumina phase containing up to% by mass of the total mass of the fired material and a monoclinic and hexagonal Celsian phase containing at least 10% by mass of monoclinic Celsian phase, • einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten für den Temperaturbereich von 293K bis 573Kzwischen 5,1 x 10"6K1 und 7,5 χ 10 6K"1,• an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range of 293K to 573Kzwischen 5.1 x 10 "6 1 K and 7.5 χ 10 6 K" 1, • einen elektrischen Isolationswiderstand von größer 1012Ohm [293K] und• an electrical insulation resistance greater than 10 12 ohms [293K] and • einen dielektrischen Verlustfaktor von kleiner oder gleich 10"2 [1 kHz] hat.• has a dielectric loss factor of less than or equal to 10 " 2 [1 kHz]. 2. Isolations- und Abdeckschichten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das sjebjdruckfähige, innige Gemisch aus55 bis 70 Masseanteile in %eine$ zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)2. Insulating and covering layers according to claim 1, characterized in that the sjebjdruckfähige, intimate mixture of 55 to 70 parts by mass in% of a $ crushed glass of the chemical composition (in mass fractions in% and calculated on an oxide basis) 35 bis 45 BaO 15 bis 25 B2O3 5 bis 15AI2O3 25 bis 42SiO2,35 to 45 BaO 15 to 25 B 2 O 3 5 to 15AI 2 O 3 25 to 42SiO 2 , das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten für den Temperaturbereich von 293K bis 573Kzwischen 6,0 x 10"6K"1 und 7,5 x 10"6K"1 hat, und 30 bis 45 Masseanteile in % zerkleinertes kristallines alpha-Aluminiumoxid besteht.which has an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range of 293K to 573Kzwischen 6.0 x 10 "6 K" 1 and 7.5 x 10 "6 K" 1 has, and 30 to 45% by mass of crushed crystalline alpha-alumina. 3. Isolations- und Abdeckschichten nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das siebdruckfähige, innige Gemisch eine einen flüssigen organischen, makromolekularen Druckträger enthaltende siebdruckfähige Paste ist.3. insulation and cover layers according to claim 1 and 2, characterized in that the screen-printable, intimate mixture is a liquid organic, macromolecular print carrier containing screen-printable paste. 4. Verfahren zur Herstellung von Celsian enthaltende, glasig-kristalline Isolations- und Abdeckschichten auf Tonerdekeramik-Substrate, dadurch gekennzeichnet, daß man ein siebdruckfähiges, inniges Gemisch bereitet, bestehend aus 50 bis 80 Masseanteile in % eines zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Masseanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)4. A process for the preparation of Celsian-containing, glassy-crystalline insulating and covering layers on alumina ceramic substrates, characterized in that one prepares a screen-printable, intimate mixture consisting of 50 to 80 parts by mass in% of a comminuted glass of the chemical composition (in parts by mass calculated in% and on oxide basis) 30 bis 5OBaO 15 bis 30 B2O3 5 bis 15AI2O3 20 bis 45SiO2,30 to 30 BaO 15 to 30 B 2 O 3 5 to 15Al 2 O 3 20 to 45SiO 2 , das einen mittleren linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten für den Temperaturbereich von 293K bis 573K zwischen 6,0 χ 10"6K"1 und 7,5 x 10"6K"1 hat, und 20 bis 50 Masseanteile in %which has an average linear thermal expansion coefficient for the temperature range of 293K to 573K between 6.0 χ 10 "6 K" 1 and 7.5 x 10 "6 K" has 1, and 20 to 50% by mass zerkleinertes kristallines alpha-Aluminiumoxid, mit einer Korngroße kleiner 10μη-ι, davon mindestens 50 Masseanteile in % klemeroder gleich Зцт, das innige Gemisch in einem flussigen organischen makromolekularen Drucktrager zu einer siebdruckfahigen Paste dispergiert, die Paste auf Tonerdekeramik-Substrate siebverdruckt und nach dem Trocknen die bedruckten Substrate mit einer Geschwindigkeit zwischen lOKmin"1 und50Kmin 1 auf eine Brenntemperatur zwischen 1 073 K und 1173 K aufheizt, bei dieser Temperatur zwischen 10 und 20 Minuten tempert und anschließend abkühltCrushed crystalline alpha-alumina, with a particle size smaller than 10μη-ι, of which at least 50 parts by mass in% klemeroder equal to Зцт, the intimate mixture dispersed in a liquid organic macromolecular Drucktrager to a screen-print paste, the paste screen printed on alumina ceramic substrates and after drying the printed substrates at a rate between lOKmin "1 und50Kmin 1 is heated to an internal temperature between 1073 K and 1173 K, tempered at this temperature for between 10 and 20 minutes and then cooled 5 Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man ein siebdruckfahiges, inniges Gemisch bereitet, bestehend aus 55 bis 70 Masseanteile in % eines zerkleinerten Glases der chemischen Zusammensetzung (in Massenanteile in % und auf Oxidbasis berechnet)5. The method according to claim 4, characterized in that one prepares a screen-printable, intimate mixture consisting of 55 to 70 parts by mass in% of a comminuted glass of the chemical composition (in% by mass and calculated on an oxide basis)
DD33015989A 1989-06-29 1989-06-29 CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF DD295825A5 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD33015989A DD295825A5 (en) 1989-06-29 1989-06-29 CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD33015989A DD295825A5 (en) 1989-06-29 1989-06-29 CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD295825A5 true DD295825A5 (en) 1991-11-14

Family

ID=5610367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD33015989A DD295825A5 (en) 1989-06-29 1989-06-29 CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Country Status (1)

Country Link
DD (1) DD295825A5 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2519990A4 (en) * 2009-12-31 2015-08-05 Saint Gobain Ceramics Thin, fine grained and fully dense glass-ceramic seal for sofc stack
US10658684B2 (en) 2013-03-29 2020-05-19 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Sanbornite-based glass-ceramic seal for high-temperature applications

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2519990A4 (en) * 2009-12-31 2015-08-05 Saint Gobain Ceramics Thin, fine grained and fully dense glass-ceramic seal for sofc stack
US10658684B2 (en) 2013-03-29 2020-05-19 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Sanbornite-based glass-ceramic seal for high-temperature applications

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3227657C2 (en) Multilayer ceramic circuit board and process for its manufacture
DE3151206C2 (en) Glazed, ceramic carrier material
DE69514633T2 (en) Cadmium-free and lead-free thick-film composition
DE2746320C2 (en) Copper-glass composition of matter and its uses
US7740899B2 (en) Electronic device having lead and cadmium free electronic overglaze applied thereto
DE3317963C2 (en) Ceramic capacitor with layer structure
DE2347709C3 (en) Dielectric ground
DE1771503C3 (en) Thermally crystallizable glass and glass ceramics based on SiO2-PbO-BaO-Al2O3-TiO2 and their use
DE3026200A1 (en) NON-LINEAR RESISTANCE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
EP0163004B1 (en) Electrical-resistance composition and method of making electrical-resistance elements
DE2330381C3 (en) Finely divided glass mass, which forms a dense glass ceramic body during heat treatment, to achieve multilayer circuit arrangements with low dielectric constants
DE2609356A1 (en) RESISTANCE MATERIAL AND RESISTANCE MANUFACTURED FROM IT AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURING
DE2714196C3 (en) Coated alumina substrate and powder mixture for coating such substrates
DE19622690B4 (en) Process for producing a monolithic ceramic capacitor
EP0443323B1 (en) Lead-zinc-borosilicate glass and its use
DE1596851A1 (en) Resistance material and resistor made from this resistance material
DE2946753A1 (en) RESISTANCE MATERIAL, ELECTRICAL RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
DE69011806T2 (en) Sintered glass ceramic body and process.
DE3886802T2 (en) Process for accelerated burnout of organic materials.
DE60304036T2 (en) DIELECTRIC COMPOSITION BASED ON BARIUM TITANATE
DE2305728B2 (en) SCREEN-PRINTABLE, FOR THE MANUFACTURE OF ELECTRICAL SWITCHING DEVICES, IN PARTICULAR HOT CONDUCTOR ELEMENTS, SUITABLE, AIR-BURNABLE, GLASS-CONTAINING MASS
EP0395799B1 (en) Pyrochlore related oxide and resistive paste comprising it
DD295825A5 (en) CELSIAN-CONTAINING GLASS-CRYSTALLINE INSULATION AND COATING LAYERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
DE1496544B2 (en) ELECTRICAL RESISTANCE FROM A CERAMIC BODY AND A GLASSY RESISTANT LAYER
EP0432353B1 (en) Resistor paste and its use

Legal Events

Date Code Title Description
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee