DD279251A1 - PROCESS FOR PRODUCING HAERTBARER LAYERS - Google Patents

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DD279251A1
DD279251A1 DD32485489A DD32485489A DD279251A1 DD 279251 A1 DD279251 A1 DD 279251A1 DD 32485489 A DD32485489 A DD 32485489A DD 32485489 A DD32485489 A DD 32485489A DD 279251 A1 DD279251 A1 DD 279251A1
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spiroorthoester
structural members
crosslinking
meth
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Inventor
Elisabeth Klemm
Ludwig Haase
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Univ Schiller Jena
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung haertbarer Schichten, die aufgrund ihrer spezifischen Reaktivitaet als Schutzschichten, Klebstoffe, Resistmaterialien oder fuer optische Speichersysteme anwendbar sind. Es ist das Ziel der Erfindung, die extrem niedrige Volumenkontraktion polymerisierender Spiroorthoester-Systeme auszunutzen in Form thermisch oder photochemisch spannungsfrei vernetzender Schichten. Die Aufgabe wird erfindungsgemaess dadurch geloest, dass eine Polymerschicht hergestellt wird, die Spiroorthoester-Strukturglieder und weitere Zusaetze enthaelt und als reaktive Schicht thermisch oder strahleniduziert vernetzt wird.The invention relates to a process for the preparation of hair-hardenable layers, which are applicable due to their specific reactivity as protective layers, adhesives, resist materials or optical storage systems. It is the object of the invention to exploit the extremely low volume contraction of polymerizing spiroorthoester systems in the form of thermally or photochemically stress-free crosslinking layers. The object is achieved according to the invention in that a polymer layer is produced which contains spiroorthoester structural members and further additives and is crosslinked as a reactive layer by thermal or radiation-induced crosslinking.

Description

CH3JCH 3 J

3 C-J- 3 CJ-

0=c n ;. = ii, i:ii.5, οιι.,χ (\=ιιΓ/ οι), 0 = c n ;. = ii, i: ii. 5 , οιι., Χ (\ = ιι Γ / οι),

.5,, 5 ,

CH3 O H-C-C — CH O-CH-RCH 3 O HCC - CH O-CH-R

H2C—O N0-CH2 FormellH 2 C-O N 0-CH 2 Formal

3. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß als Zusätze Initiatoren, vorzugsweise Aryloniumsalze und/oder photoaktive Radikalbildner, beispielsweise Benzoinether, Benzilketal oder Benzpinakol, verwendet werden.3. The method according to claim 1, characterized in that are used as additives initiators, preferably arylium salts and / or photoactive radical formers, for example benzoin ethers, benzil ketal or benzopinacol.

4. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß als Zusätze radikalisch vernetzende Monomere, vorzugsweise 2,2-Bis-[4-(2-hydroxy-3-methacryloyloxypropoxy)phenyl]propan (Bis-GMA), Trimethyiolproparitri(meth)acryiat oder Pentaerythrittetra(meth)acrylat, verwendet werden.4. The method according to claim 1, characterized in that as additives radically crosslinking monomers, preferably 2,2-bis [4- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropoxy) phenyl] propane (bis-GMA), Trimethyiolproparitri (meth) acryiat or pentaerythritol tetra (meth) acrylate.

5. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß als Zusätze radikalisch und/oder kationisch polymerisierbar Monomere, vorzugsweise Oxirane, Dioxolane, Glycidyl(meth)acrylat oder Dioxolan(meth)acrylat, verwendet werden.5. The method according to claim 1, characterized in that are used as additives radically and / or cationically polymerizable monomers, preferably oxiranes, dioxolanes, glycidyl (meth) acrylate or dioxolane (meth) acrylate.

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur He'stellung härtbarer Schichten mit Spiroorthoester-Strukturgliedern. Solche Schichten sind nach Hinzufügen von Zusätzen aufgrund ihrer spezifischen Reaktivität vielseitig einsetzbar.The invention relates to a method for He'stellung curable layers with Spiroorthoester structural members. Such layers are versatile in the use of additives due to their specific reactivity.

Sie lassen sich anwenden als Schutzschichten für unterschiedlichste Werkstoffe, als Klebstoffe zum Fügen von Linsen oder anderen optischen Baugruppen oder als Resistmaterial.They can be used as protective layers for a wide variety of materials, as adhesives for joining lenses or other optical assemblies or as resist material.

Derartige reaktive Schichten (aktive Medien) finden daher vorrangig in der Elektrotechnik/Elektronik und in der feinmechanischoptischen Industrie Verwendung. Sie können gleichermaßen Bestandteil von Substratmaterialien für optische Speichersysteme (Plattenspeicher) sein, die in der Datentechnik zunehmend genutzt werden.Such reactive layers (active media) are therefore used primarily in electrical engineering / electronics and in the fine mechanical-optical industry. They can equally be part of substrate materials for optical storage systems (disk storage), which are increasingly used in data technology.

Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art

Es sind keine Herstellungsverfahren für härtbare Schichten bekannt, die der Erfindung nahe stehen.There are no known methods for producing curable layers which are close to the invention.

Ziel der ErfindungObject of the invention

Es ist das Ziel der Erfindung, die vorteilhaften Eigenschaften der Spiroorthoester, speziell die der Poly-Spiroorthoester, ohne nennenswerte Volumenkontraktion zu polymerisieren, auszunutzen und derartige Poly-Spiroorthoester in Form reaktiver Schichten anzuwenden, die thermisch oder strahlenchemisch spannungsfrei vernetzer. Es ist weiterhin Ziel der Erfindung, die positiven Eigenschaften von Epoxid-Spiroorthoester-Copolymeren, wie sie in der Patentschrift DD 203623 ausgeführt sind, hinsichtlich der ausgezeichneten Adhäsion beizubehalten, aber gleichzeitig die guten Fiirr.i.ildungseigenschaften der Polymere mit Spiroorihoester-Gruppen gemäß DD 233577 A1 für die Verwendung als rssktive Schicht auszunutzen.It is the object of the invention to exploit the advantageous properties of the spiroorthoesters, especially those of the poly-spiroorthoesters, without any appreciable volume contraction, and to use such poly-spiroorthoesters in the form of reactive layers, which crosslink thermally or by radiation crosslinking. It is a further object of the invention to maintain the positive properties of epoxy-spiroorthoester copolymers, as described in the patent DD 203623, in terms of excellent adhesion, but at the same time the good Fiirr.i.ildungseigenschaften the polymers with Spiroorihoester groups according to DD 233577 A1 for use as an active layer.

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Es ist Aufgabe der Erfindung, Poly-Spiroorthoester so zu verwenden, daß die volumenkontraktionsfrein Polymerisation der Spiroorthoester-Monomere und das gute Filmbildungs- und Adhäsionsverhalten der Polymere vereinigt werden in einer reaktiven Schicht (aktives Medium). Weiterhin s-.llen Schichten verwendet werden, in denen die Spiroorthoester-Eigenschaften vorteilhaft mit denen weiterer Sauerstoffheterocyclen und/oder filmbildender ungesättigter Monomerer kombiniert sind.It is an object of the invention to use poly-spiroorthoester so that the volume contraction-free polymerization of the spiroorthoester monomers and the good film-forming and adhesion behavior of the polymers are combined in a reactive layer (active medium). Furthermore, layers can be used in which the spiroorthoester properties are advantageously combined with those of other oxygen heterocycles and / or film-forming unsaturated monomers.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß härtbare Schichten hergestellt werden, die Spiroorthoester-Strukturglieder enthalten und nach Hinzufügen von Zusätzen in Form von Initiatoren und/oder Monomeren als reaktive Schichten verwendet und thermisch oder strahleninduziert ringöffnend vernetzt werden.According to the invention the object is achieved in that curable layers are prepared containing spiroorthoester structural members and used after addition of additives in the form of initiators and / or monomers as reactive layers and crosslinked ring opening or thermal or radiation induced.

Das Einbringen der Spiroorthoester-Strukturglieder in die reaktive Schicht erfolgt in Form von Polymeren, vorzugsweise von Poly-Spiroorthoestern der Formel 1, deren Herstellung in DD 233577 A1 beschrieben ist.The introduction of the spiroorthoester structural members into the reactive layer takes place in the form of polymers, preferably of poly-spiroorthoesters of the formula 1, whose preparation is described in DD 233577 A1.

O = V, " Il - II, CIL5, CII0X1Cx = Rc, Cl), O = V, " II- II, CIL 5 , CII 0 X 1 Cx = Rc, Cl),

C!lo0(CII2)3CII:3,C! L o 0 (CII 2 ) 3 CII : 3 ,

CiL, η cn0ocii0cii(cn.,)0,CiL, η cn 0 ocii 0 cii (cn.,) 0 ,

H C-C — "M O-CII-:: Cllo0HuMiylH CC - "M O-CII- :: Cll o 0HuMiyl

II.,·: — '.) 'J-CiL, locniel i II., ' : - '.) 'J-CiL, locniel i

Die Spiroorthcsster-Strukturglieder können aber auch im Prozeß des Schichtaufbaus unter Verwendung der zugehörigen monomeren 2-substituierten 8,8-Dimethyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxa-spiro[4.4]nonane, deren Synthese in DD 223715 A1 und DD-WP C 07 D/302 737 4 beschrieben ist, in die reaktive Schicht eingebracht werden.However, the Spiroorthcsster structural members can also in the process of layering using the associated monomeric 2-substituted 8,8-dimethyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxa-spiro [4.4] nonane, their synthesis in DD 223715 A1 and DD-WP C 07 D / 302 737 4 is introduced into the reactive layer.

Die härtbaren Schichten enthalten als Zusätze Initiatoren, die bei Einwirkung von Wärme oder Strahlung die Vernetzung der Schichten bewirken.The curable layers contain as additives initiators that cause the crosslinking of the layers when exposed to heat or radiation.

Als Initiatoren werden vorzugsweise Aryloniumsalze, beispielsweise Diaryliodonium- oder Triarylsulfonii msalze allein oder in Anwesenheit von Rauikalbildern, beispielsweise Benzpinakol, Benzoinethern oder Benzilketal, verwendet. Vorteilhaft enthalten die härtbaren Schichten 1-5Ma.-% der genannten Initiatoren.As initiators, it is preferred to use arylonium salts, for example diaryliodonium or triarylsulfonium salts, alone or in the presence of rough-flow images, for example benzopinacol, benzoin ethers or benzil ketal. Advantageously, the curable layers 1-5Ma .-% of said initiators.

Als radikalisch vernetzende Monomere werden vorzugsweise Trimethylolpropantri(meth)acrylat oder Pentaerythritte'ira(meth)acrylat allein oder in Kombination mit 2,2-Bis[4-(2-hydroxy-3-methacryloyloxypropoxy)phenyl|propan (Bis-GMA) verwendet. Die Verwendung erfolgt vorteilhaft als Lösung in monomeren (2-substituierten) 8,8-Dimothyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxaspiro[4.4]nonanen. Diese Lösungen werden auf geeignete Träger aufgebracht und durch kurzzeitige radikalisch-vernetzende Copolymerisation in Form einer reaktiven Schicht mit Spiroorthoester-Strukturgliedern fixiert. Als radikalisch und/oder kationisch polymerisierbare Monomere werden vorzugsweise Oxirane, Dioxolane, Dioxo!an(meth)acrylat oder Glycidyl(meth)3crylat aliein oder kombiniert verwendet. Die Verwendung erfolgt vorteilhaft in der Form, daß Polymere der Formel 1 in diesen Monomeren gelöst und diese Lösungen zur Filmbildung verwendet werden.The free-radically crosslinking monomers used are preferably trimethylolpropane tri (meth) acrylate or pentaerythritol'ira (meth) acrylate, alone or in combination with 2,2-bis [4- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropoxy) phenylpropane (Bis-GMA) , The use advantageously takes place as a solution in monomeric (2-substituted) 8,8-dimothyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxaspiro [4.4] nonanes. These solutions are applied to suitable supports and fixed by short-term free-radical crosslinking copolymerization in the form of a reactive layer with spiroorthoester structural members. Preferred free-radically and / or cationically polymerizable monomers are preferably oxiranes, dioxolanes, dioxo (meth) acrylate or glycidyl (meth) acrylate or in combination. The use is advantageously in the form that polymers of formula 1 are dissolved in these monomers and these solutions are used for film formation.

Zur Erzeugung härtbarer Schichten in Form von Filmen können beispielsweise Lösungen der beteiligten Komponenten in Aceton, Dichlormethan, Toluen u.a. verwendet werden. Die Härtung erfolgt in der Weise, daß die Schichten mit Licht der Wellenlänge 250-420nm bestrsMt werden. Die Schichten sind dann an den durch Licht getroffenen Stellen vernetzt, und unlöslich.To form curable layers in the form of films, for example, solutions of the components involved in acetone, dichloromethane, toluene and the like may be used. be used. The curing is carried out in such a way that the layers are irradiated with light of the wavelength 250-420nm. The layers are then crosslinked at the sites of light hit, and insoluble.

Die Bestrahlungszaiten betragen 3-5 min, wenn die Polymere der Formel 1 allein verwendet werden. Sie verkürzen sich drastisch (Sekundenbereich), wenn Oxirane, beispielsweise Diandiglycidylether, in der Schicht enthalten sind oder wenn die Schicht Bis-GMA und/oder Trimethylolpropantri(meth)acrylat beziehungsweise Pentaerythrittetra(meth)acryla'( enthält.The irradiation teas are 3-5 minutes when the polymers of formula 1 are used alone. They shorten dramatically (seconds) when oxiranes, such as diandiglycidyl ethers, are included in the layer or when the layer contains bis-GMA and / or trimethylolpropane tri (meth) acrylate or pentaerythritol tetra (meth) acrylate.

Wenn es für die Anwendung erforderlich ist, können die unbelichteten Stellen der härtbaren Schichten abgelöst werden. Die Vernetzung kann bei der erfindungsgemäßen Verwendung auch thermisch, vorzugsweise in einem Temperaturbereich von 80-120°C, erfolgen. Das Verfahren zur Herstellung härtbarer Schichten soll nachstehend an 3 Beispielen erläutert werden.If necessary for the application, the unexposed areas of the curable layers can be peeled off. In the case of the use according to the invention, the crosslinking can also be effected thermally, preferably in a temperature range of 80-120 ° C. The process for producing curable layers will be explained below with 3 examples.

Ausführungsbeispieleembodiments Beispiel 1example 1

1,0g Polymer der Formell (R = CH2OPhenyl) werden zusammen mit 2 Ma.-%Dito!yliodonium-totrafiuoroborat und 5Ma.-% Benzildimethylketal in 9,0g AZ-Lösungsmittel gelöst. Mit dieser Lösung wird auf einer chrombedampften Glasplatte ein Film Hergestellt. Der Film wird durch eine Maske 5min mit dem ungefilterten Licht einer Quecksilberhochdrucklampe HBO 2OC bestrahlt. An den bestrahlten Stellen wird die reaktive Schicht vernetzt und auf dem Film wird die Abbildung der Maske sichtbar. Die unvernetzten Stellen des Films lassen sich mit Aceton, Toluen o. ä. Lösungsmitteln weglösen.1.0 g of polymer of the formula (R = CH 2 OPhenyl) are dissolved in 9.0 g of AZ solvent together with 2% by weight of di-iodoiodonium tolueno-fluoroborate and 5% by weight of benzil dimethyl ketal. With this solution, a film is produced on a chrome-evaporated glass plate. The film is irradiated through a mask for 5 minutes with the unfiltered light of a high pressure mercury lamp HBO 2OC. At the irradiated sites, the reactive layer is crosslinked and on the film, the image of the mask is visible. The uncrosslinked areas of the film can be dissolved away with acetone, toluene or similar solvents.

Bei spiel 2At game 2

1,5ρ Polymer der Formel 1 |R = CH2OCH2CH(CHj)2), 1,0g Diandiglycidylether und 2,5g 2-lsobutoxymethyl-8,8-dimethyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxaspiro[4.4)nonan werden in dor Wärme homogen ineinander gelöst. Vor der Verwendung werden 3Ma.-% Ditolyliodonium-hexafluoroantimonat zugesetzt. Die Mischung wird als dünne Schicht zwischen Quarz/Quarz, Glas/ Metall oder Metall/Metall gebracht und durch 5minütiges Bestrahlen mit dem ungefilterten Licht einer HBO 200 oder bei nichttransparenten Fügeteilen durch Erwärmen auf 100°C vernetzend ausgehärtet. Die Fügeteile sind dann fest miteinander verbunden.1.5ρ polymer of the formula 1 | R = CH 2 OCH 2 CH (CHj) 2 ), 1.0 g of diandiglycidyl ether and 2.5 g of 2-isobutoxymethyl-8,8-dimethyl-9-methacryloyloxy-1,4,6-trioxaspiro [4.4) nonane are homogeneously dissolved in heat. Before use, 3% by weight ditolyl iodonium hexafluoroantimonate is added. The mixture is brought as a thin layer between quartz / quartz, glass / metal or metal / metal and cured by irradiating with the unfiltered light of HBO 200 for 5 minutes or by heating to 100 ° C for non-transparent parts. The parts to be joined are then firmly connected.

Beispiel 3Example 3

1,0g 2-Methyl-8,8-dimethyl-9-methacn/ioyloxy-1,4,6-trioxaspiro[4.4]nonan werden mit einer Mischung aus 10g Pentaerythrittetraacrylat/Triglycolbisacrylat (im Verhältnis 1:1) zu einer homogenen Lösung aufbereitet und mit 0,1 g Ditolyliodonium-hexafluoroantimonat und 1,0g Benzildimethylketal versetzt. Die viskose Lösung wird bis zur vollständigen Auflösung der Initiatoren gerührt und ist danach einsatzfähig Die Bestrahlungszeit zur Fixierung einer daraus hergestellten Schicht beträgt 10s. Die vollständige Vernetzung der Spiroorthoester-Strukturglieder erfolgt durch zusätzliche Bestrahlung oder Temperung bei 80°C.1.0 g of 2-methyl-8,8-dimethyl-9-methacn / ioyloxy-1,4,6-trioxaspiro [4.4] nonane are made into a homogeneous solution with a mixture of 10 g of pentaerythritol tetraacrylate / triglycol bisacrylate (in a ratio of 1: 1) prepared and treated with 0.1 g Ditolyliodonium hexafluoroantimonate and 1.0 g of benzil dimethyl ketone. The viscous solution is stirred until complete dissolution of the initiators and is then ready for use. The irradiation time for fixing a layer produced therefrom is 10 s. The complete crosslinking of the spiroorthoester structural members takes place by additional irradiation or heat treatment at 80.degree.

Claims (2)

Patentansprüche:claims: 1. Verfahren zur Herstellung härtbarer Schichten, gekonnzeichnet dadurch, daß sie Spiroorthoester-Strukturglieder enthalten und nach Hinzufügen von Zusätzen in Form von Initiatoren und/oder Monomeren als reaktive Schichten verwendet und thermisch oder strahleninduziert ringöffnend vernetzt werden.1. A process for the preparation of curable layers, characterized in that they contain spiroorthoester structural members and are used after addition of additives in the form of initiators and / or monomers as reactive layers and thermally or radiation-induced ring-opening crosslinking. 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß als Spiroorthoester-Strukturglieder Polyspiroorthoester, vorzugsweise Polymere der Formel 1, verwendet werden2. The method according to claim 1, characterized in that are used as Spiroorthoester structural members Polyspiroorthoester, preferably polymers of formula 1
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