DD279077A1 - CONTROLLABLE LOAD GRID - Google Patents
CONTROLLABLE LOAD GRID Download PDFInfo
- Publication number
- DD279077A1 DD279077A1 DD32442988A DD32442988A DD279077A1 DD 279077 A1 DD279077 A1 DD 279077A1 DD 32442988 A DD32442988 A DD 32442988A DD 32442988 A DD32442988 A DD 32442988A DD 279077 A1 DD279077 A1 DD 279077A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- lattice girder
- diffraction grating
- grid
- controllable diffraction
- profiles
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 11
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 7
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 abstract 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000001015 abdomen Anatomy 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004643 material aging Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
- G01J3/1804—Plane gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0808—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more diffracting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/292—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection by controlled diffraction or phased-array beam steering
Abstract
Die Erfindung betrifft ein steuerbares Beugungsgitter, das als Bauelement optischer und spektroskopischer Geraete eingesetzt wird. Das erfindungsgemaesse Gitter ist dadurch gekennzeichnet, dass sein Gittertraeger aus elektromechanisch wandelbarem Material mit transversalem Effekt besteht. Grossflaechige Elektroden gestatten das Anlegen elektrischer Felder an die beiden Hauptflaechen des Gittertraegers. Spannungsaenderungen sorgen fuer elastische Verformungen des Gittertraegers und der eingepraegten optisch wirksamen Gitterprofile. Die resultierenden Aenderungen der Furchendichte haben Winkelaenderungen der gebeugten Strahlung zur Folge, die zur Feindurchstimmung spektraler Linienprofile benutzt werden. Fig. 1The invention relates to a controllable diffraction grating, which is used as a component of optical and spectroscopic devices. The grid according to the invention is characterized in that its grid carrier consists of electromechanically convertible material with a transverse effect. Large-area electrodes allow the application of electric fields to the two main surfaces of the lattice girder. Changes in tension ensure elastic deformation of the lattice girder and the inserted optically effective lattice profiles. The resulting changes in groove density result in angular changes in the diffracted radiation used to fine tune spectral line profiles. Fig. 1
Description
Hierzu 2 Seiten ZeichnungenFor this 2 pages drawings
Die Erfindung betrifft steuerbare Beugungsgitter, die vorzugsweise als Bauelemente optischer und spektroskopischer Geräte eingesetzt werden sowie als Durchstimmelemente in breitbandig durchstimmbaren Lasern.The invention relates to controllable diffraction gratings, which are preferably used as components of optical and spectroscopic devices and as tuning elements in broadband tunable lasers.
Beugungsgitter für die optische Spektroskopie sind seit langem bekannt und in ihrer Wirkungsweise beschrieben (Handbuch der Physik XXIX, Hrsg. S. Flügge, Springer Bln. 1S67, Born, M., und Wolf, E., Principles of Optics, Pergamon P., OxfcJ 1965). Ihre Wirkung für die Spektroskopie besteht in der Dispersion der üuellenstrahlung. Die Dispersion ist eine Funktion der Furchendichte des Gitters. Der Einsatz des Gitters im Spektrometer führt in Abhängigkeit von der Dispersion und dem Abbildungssystem zu einer spektralen Intensitätsverteilung in der Empfängerebene. Die Spektralanalyse verlangt eine Abtastung oder Durchstimmung in Richtung der Wellenlänge-Koordinate.Diffraction gratings for optical spectroscopy have long been known and described in their mode of action (Handbook of Physics XXIX, ed. S. Flügge, Springer Bln. 1S67, Born, M., and Wolf, E., Principles of Optics, Pergamon P., Oxford 1965). Their effect for spectroscopy is the dispersion of the optical radiation. The dispersion is a function of the groove density of the grid. The use of the grating in the spectrometer results in a spectral intensity distribution in the receiver plane, depending on the dispersion and the imaging system. Spectral analysis requires sampling or tuning in the direction of the wavelength coordinate.
Die bekannten Lösungen zum Durchstimmen der Wellenlänge beruhen auf der mechanischen Bewegung eines optischen oder mechanischen Bauelements, bei Monochromatoren meistens auf de. Drehung des Gitterkörpers in einer mechanischen Halterung. Die auszuführenden Bewegungen müssen von hoher mechanischer Präzision und Feinfühligkeit sein und hohe Stabilität besitzen, um die spektrale Durchstimmung verzerrungsarm zu gestalten. Solche Lösungen benötigten konstruktiven und fertigungstechnischen Aufwand sowie Raum und Gewicht für die bewegliche Mechanik und die bewegende Motorik. Außerdem besitzen solche Durchstimmungsmechanismen aufgrund der massebehafteten Bauelemente eine erhebliche Trrgheit und sind schnellen Durchstimmungvorgängen schwer zugänglich.The known solutions for tuning the wavelength are based on the mechanical movement of an optical or mechanical component, in monochromators mostly on de. Rotation of the grid body in a mechanical holder. The movements to be performed must be of high mechanical precision and sensitivity and have high stability in order to make the spectral tuning distortion. Such solutions required design and manufacturing effort and space and weight for the moving mechanics and the moving motor skills. Moreover, such tuning mechanisms have considerable inertia due to the bulked components and are difficult to access for fast tuning operations.
Bekannt ist auch eine Vorrichtung zur latenten Erzeugung eines Beugungsgitters in eir.em elektromechanisch w. .idelbaren Material (DE-AS 2655907, G 02 F, 1/03). Unter Ausnutzung der longitudinalen Wirkung eines elektrischen Feldes in diesem Material auf der Oberfläche eines Gitterträgers und durch das Anbringen einer Vielzahl interdigitaler Elektroden wird lokal ein der Elektrodenstruktur folgendes Reflexionsmuster erzeugt. Dieses latente Muster ist durch das elektrische Feld steuerbar. Das Ergebnis ist eine Intensitätsmodulation der gebeugten Strahlung. Der Nachteil der Anordnung besteht in der für die optische Spektroskopie mangelnden Dichte der interdigitalen Elektroden und die Schwierigkeiten ihrer Herstellung. Eine andere Vorrichtung (US-PS 4,011,009 G 02 B, 5/18) beschreibt ein Reflexions-Beugungsgitter, das ein elektromechanischwandelbares Material benutzt, um den ßlaze-Winkel zu steuern. Dazu wird ein elektrisches Feld an eine Vielzahl separater Elektroden unter der Oberfläche eines Gitterträgers angebracht, um den Blaze-Winkel eines bereits eingeprägten Gitters zu verändern. Der Effekt ist eine Modulation der gebeugten Strahlung in der Empfängerebene. Der Nachteil besteht in der Herstellung und Kontaktierung der Vielzahl von Elektroden in der Oberfläche des Gitterträgers.Also known is a device for the latent generation of a diffraction grating in eir.em electromechanical w. .Midable material (DE-AS 2655907, G 02 F, 1/03). By utilizing the longitudinal action of an electric field in this material on the surface of a lattice girder and by attaching a plurality of interdigital electrodes, a reflection pattern following the electrode structure is locally generated. This latent pattern is controllable by the electric field. The result is an intensity modulation of the diffracted radiation. The disadvantage of the arrangement is the lack of density of the interdigital electrodes for the optical spectroscopy and the difficulties of their production. Another device (US-PS 4,011,009 G 02 B, 5/18) describes a reflection diffraction grating which uses an electromechanically convertible material to control the β-angle. For this purpose, an electric field is applied to a plurality of separate electrodes under the surface of a lattice girder to change the blaze angle of an already engraved grid. The effect is a modulation of the diffracted radiation in the receiver plane. The disadvantage is the production and contacting of the plurality of electrodes in the surface of the lattice girder.
Im Unterschied zum Durchstimmverhalten der bekannten mechanischen Lösungen haben diese beiden Erfindungen die Intensitätsmodulation der gebeugten Strahlung durch ein steuerndes hochfrequentes elektrisches Feld zum Ziel. Eine Durchstimmung der Wellenlänge wird nicht erzielt.In contrast to the tuning behavior of the known mechanical solutions, these two inventions have the goal of intensity modulation of the diffracted radiation by means of a controlling high-frequency electric field. A tuning of the wavelength is not achieved.
Das Ziel der Erfindung ist eine verbesserte, weitestgehend fehlerfreie und trägheitslose Feindurchstimmung der Wellenlänge der gebeugten Strahlung.The object of the invention is an improved, largely error-free and inertia-free fine tuning of the wavelength of the diffracted radiation.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die negativen Einflüsse, beispielsweise die verzögert und ungenau arbeitenden mechanisch-durchstimmbaren Anordnungen bei der Feindurchstimmung der Wellenlängen gebeugter Strahlung in der Empfängetebene weitestgehend auszuschalten.The invention is based on the object of largely eliminating the negative influences, for example the delayed and inaccurately working mechanically tunable arrangements in the tuning of the wavelengths of diffracted radiation in the receiver plane.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch ein steuerbares Beugungsgitter gelöst, das aus einem Gitterkörper mit einem darauf befindlichen Gitterträger aus elektromechanisch-wandelbarom Material mit transversalem Effekt besteht, auf dem die bekannten Gitterprofile in bekannter Weise aufgebracht sind. Die bekannten Gitterprofile könnt ι aber auch unmittelbar in den Gitterträger eingeprägt sein. Gitterkörper und Gitterträger sind durch eine Kopplungsschicht ela< tisch miteinander verbunden. An den beiden Hauptflächen des Gitterträgers sind mittels Haftschichten je eine flächenhaft ausgebildete Elektrode befestigt. Die Abmaße der flächenhaften Ausdehnung der Elektroden entsprechen denen der Hauptflächen.According to the invention the object is achieved by a controllable diffraction grating, which consists of a grid body with a lattice girder thereon of electromechanically-Wandelbarom material with a transverse effect, on which the known grid profiles are applied in a known manner. The known grid profiles but ι could also be imprinted directly into the lattice girder. The grid body and lattice girders are connected to one another in an elastic manner by a coupling layer. At the two main surfaces of the lattice girder, a planar electrode is attached by means of adhesive layers. The dimensions of the areal extent of the electrodes correspond to those of the main surfaces.
Gitterkörper und Gitterträger können weitere Ausgestaltungen haben. Beispielsweise kann der Gitterträger auch aus mehreren Schichten elektromechanisch wandelbaren Materials aufgebaut sind, die jeweils beidseitig mit Elektroden belegt und kontaktiert sind, um alle Schichten gleichsinnig elektromechanisch zu wandeln.Grid body and lattice girder may have further configurations. By way of example, the lattice girder can also be constructed from a plurality of layers of electromechanically convertible material, which are each covered and contacted with electrodes on both sides in order to electromechanically convert all layers in the same direction.
Ein derartiger Gitterträger ist in sich stabil und kann mit hohen Feldstärken betrieben werden.Such a lattice girder is stable and can be operated with high field strengths.
Gitterkörper und Gilterträger können aber auch als ein Ganzes aus elektromechanisch-wandelbarem Material sein.However, the grid body and the filter carrier can also be a whole of electromechanically-convertible material.
Die Oberfläche des Gitterträgers kann sowohl eben als auch gekrümmt sein. Das elektrische Feld ist senkrecht zu den Gitterfurchen und ζ jr Schwingungsrichtung des Gitterträgers angelegt.The surface of the lattice girder may be both flat and curved. The electric field is applied perpendicular to the grid grooves and the vibration direction of the lattice girder.
Beim Anlegen einer elektrischen Spannung an die Elektroden führt das elektromechanisch wandelbare Material eine Dehnung oder Stauchung aus, wobei die dünnen Profil- und optischen Grenzschichten mitbewegt werden. Die Bewegung ändert die Furchendichte in dsr Profilschicht und damit die Beugungswinkel der dispergieren Strahlung. Die resultierende Verschiebung der Wellenlängen am Ort des Empfängers ist der erwünschte Effekt.When an electrical voltage is applied to the electrodes, the electromechanically convertible material causes an expansion or compression, wherein the thin profile and optical boundary layers are moved along. The movement changes the furrow density in the profile layer and thus the diffraction angles of the dispersed radiation. The resulting shift of the wavelengths at the receiver location is the desired effect.
Durch den Einsatz des erfindungsgemäßen Gitters ist die feinfühlige Durchstimmur.g eines engen Wellenlängenbereichs zur Abtastung spektraler Linienprofile bzw. zur spektralen Feindurchstimmung von Lasern möglich.Through the use of the grating according to the invention, the sensitive Durchstimmur.g. Of a narrow wavelength range for scanning spectral line profiles or for spectral fine tuning of lasers is possible.
Darüber hinaus ergibt sich der vorteilhafte Einsatz des erfindungsgemäßen Beugungsgitters z. B. auch:In addition, the advantageous use of the diffraction grating z. Belly:
- beim Nacheichen von DeJustierungen eines Spektrometers bei klimabedingter oder durch Materialalterung hervorgerufener Verstimmung der Eichung;- When Nacheichen of DeJustierungen a spectrometer in climate-induced or caused by material aging detuning the calibration;
- bei der Realisierung einer elektronischen Regelung zur Aufrechterhaltung eines Justierzustandes oder einer Eichposition im Spektrometer;- In the realization of an electronic control to maintain a Justierzustandes or a calibration position in the spectrometer;
- bei einem nahezu trägheitslosen, elektrisch gesteueren Vergleich zwischen Nutz- und Störsignalen (Quotientenbildung) durch Benutzung eine hochfrequenten Wechselspannung als Steuerspannung für ein Wechselfeld zur Erzeugung einer hochfrequenten spektralen Linienverschiebung um ein Linienzentrum X-X1.- at an almost inertia-free, electrically died eueren comparison between the desired and interference signals (quotient) by using a high-frequency AC voltage as a control voltage for an alternating field for generating a high-frequency spectral line shift of a center line XX. 1
Die Erfindung wird an einem Ausführungsbeispiel mit den dazugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:The invention will be explained in more detail using an exemplary embodiment with the associated drawings. Show it:
Fig. 1: den schematische Aufbau eines erfindungsgemäßen Beugungsgitters im Schnitt, Fig. 2: ein Beugungsgitter perspektivisch,1: the schematic structure of a diffraction grating according to the invention in section, Fig. 2: a diffraction grating in perspective,
Fig. 3: eine grafische Darstellung der Linienverschifibung in Abhängigkeit von der Wellenlänge.Fig. 3: a graphical representation of the Linienverschifibung depending on the wavelength.
Wie in Fig. 1 dargestellt, ist der üblicherweise aus einem Teil bestehende Gitterträger geteilt als Gitterkörper 1 und Gitterträger 2 ausgeführt. Der statisch stabile, piezoelektrisch inaktive Gitterkörper 1 von der Dicke h„ dient als Unterlage, und fängt die mechanischen Belastungen ab.As shown in Fig. 1, the lattice girder, which usually consists of one part, is designed as a divided grid body 1 and lattice girder 2. The statically stable, piezoelectrically inactive grid body 1 of thickness h "serves as a base, and captures the mechanical loads.
Gitterkörper 1 und Gitterträger 2 uind durch eine Kopplungsschicht 3 der Dicke he, z. B. bestehend aus synthetischem Gummi, elastisch miteinander verbunden. Der piezoelektrisch aktive Gitterträger 2 von der Dickb h hat die Form eines dünnen Plättchens, an dessen beiden Hauptflächen großflächige Elektroden 7 und 8, im Beispiel aus Silber, mittels Haftschichten 5 und 6 aus Chrom aufgebracht sind. Die flächenhafte Ausdehnung der Elektroden 7 und 8 entspricht den Abmaßen der wirksamen Gitterfläche des Gitterträgers 2. Die bekannten Gitterprofile 4, bei denen die Furchendichte durch das erfindungsgemäße Beugungsgitter kontrolliert gesteuert werden soll, sind auf die Elektrode 8 an der Hauptfläche des Gitterträgers 2 aufgebracht. Das optisch wirksame Gitterprofil 4 ist in einer Fotoresistschicht 9 oberhalb der Elektrode 8 realisiert und mit einer optischen Grenzschicht 10 belegt. Zur Erhöhung des Reflexionsvermögens ist das Gitterprofil 4 in der Fotoresistschicht 9 mit einem dünnen Film aus Aluminium belegt. Die Gitterfurchen sind senkrecht zur Dehnungsrichtung des Gitterträgers 2 und beide senkrecht zum elektrischen Feld angeordnet.Grid body 1 and lattice girder 2 uind by a coupling layer 3 of thickness h e , z. B. consisting of synthetic rubber, elastically connected to each other. The piezoelectrically active lattice girder 2 of the Dickb h has the shape of a thin plate, at its two major surfaces large electrodes 7 and 8, in the example of silver, are applied by means of adhesive layers 5 and 6 of chromium. The planar extent of the electrodes 7 and 8 corresponds to the dimensions of the effective grating surface of the lattice girder 2. The known grating profiles 4, in which the fissure density is to be controlled controlled by the diffraction grating according to the invention, are applied to the electrode 8 on the main surface of the lattice girder 2. The optically effective grating profile 4 is realized in a photoresist layer 9 above the electrode 8 and covered with an optical boundary layer 10. To increase the reflectivity, the grating profile 4 in the photoresist layer 9 is covered with a thin film of aluminum. The grid grooves are perpendicular to the direction of elongation of the lattice girder 2 and both arranged perpendicular to the electric field.
in der Fig. 2 ist die Wirkung des Beugungsgitters auf das Licht schematisch dargestellt. Der unter dem Winkel α einfallende Lichtstrahl 11 erreicht das Gitterprofil 4 auf dem Gitterträger 2 und wird gemäß dem Beugungsgesetz für verschiedene Wellenlängen λ,, A2, λ3 unter verschiedenen Beugungswinkeln ßi, ß2, ßs abgelenkt.In Fig. 2, the effect of the diffraction grating is schematically shown on the light. The incident at the angle α light beam 11 reaches the grating profile 4 on the lattice girder 2 and is deflected according to the diffraction law for different wavelengths λ ,, A 2 , λ 3 at different diffraction angles ßi, ß 2 , ßs.
Beim Anlegen einer Spannung AU an die elektrischen Anschlüsse 11,12 für die E. -ktroden 7,8 kommt es zu einer Dehnung oder Schrumpfung des Gitterträgers 2 senkrecht zur Furchenrichtung. Der Furchenabstand wird größer oder kleiner, es ergibt sich eine Änderung der Beugungswinkel gegenüber den ursprünglichen Werten ßi, ß2, P3 und damit eine spektrale Linienverschiebung, die in Fig. 3 für eine Wellenlänge λ = λ, graphisch dargestellt ist.Eine Änderung der Spannung an den Elektroden ändert den Betrag der spektralen Linienverschiebung, das Anlegen negativer Spannungen die Richtung der Verschiebung.When a voltage AU is applied to the electrical connections 11, 12 for the electrodes 7, 8 there is an expansion or shrinkage of the lattice girder 2 perpendicular to the furrow direction. The groove spacing becomes larger or smaller, resulting in a change in the diffraction angle with respect to the original values βi, β 2 , P3 and thus a spectral line shift, which is shown in Fig. 3 for a wavelength λ = λ, graphically. A change in the voltage at the electrodes changes the amount of spectral line shift, the application of negative voltages changes the direction of the shift.
Als Ausführungsbeispiel dient folgender Gitteraufbau:The following grid construction serves as an exemplary embodiment:
hu = 10mm, he = 0,05mm. h = 0,5mm.h u = 10mm, h e = 0.05mm. h = 0.5mm.
An die Elektroden wurde eine Spannungsdifferenz von AU = ±500 V an das piezoelektrisch-aktive Material PXE 52 (Philips Data handbook. Components and Materials, Band 16,1982) mit einen piezoelektrischen Koeffizienten für den transversalen Effekt vonTo the electrodes, a voltage difference of AU = ± 500 V was applied to the PXE 52 piezoelectric active material (Philips Data Handbook., Components and Materials, Vol. 16, 1982) with a piezoelectric coefficient for the transversal effect of
d3, = 6,7· 1(T10 [m/V] angelegt. Für die Dehnung des Gitterträgers 2 folgtd 3 , = 6.7 x 1 (T 10 [m / V] is applied.) For the elongation of the lattice girder 2 follows
Nimmt man die Kombination einer dem Stand der Technik entsprechenden mechanischen Durchstimmung der Wellenlänge im BereichTaking the combination of a prior art mechanical tuning of the wavelength in the range
λ, = 200mm, A2 = 400mm, A3 = 800mmλ, = 200mm, A 2 = 400mm, A 3 = 800mm
an und kombiniert diese mit dem erfindungsgemäß durchstimmbaren Beugungsgitter, so ergeben sich bei den 3 gewählten Wellenlängen A1, A2 und A3 um diese 3 Zentren feinfühlig durchstimmbare Wellenlägenbereiche 5A1, δλ2, δλ3:and combines these with the inventively tunable diffraction grating, so arise at the 3 selected wavelengths A 1 , A 2 and A 3 to these 3 centers sensitively tunable Wellenlägenbereiche 5A 1 , δλ 2 , δλ 3 :
λ, = 200 nm: δλ, = 250 pm, A2 = 400nm: δλ2 = 500pm, A3 = 800nm: δλ3= 1000pm.λ, = 200nm: δλ, = 250pm, A 2 = 400nm: δλ 2 = 500pm, A 3 = 800nm: δλ 3 = 1000pm.
Claims (6)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD32442988A DD279077A1 (en) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | CONTROLLABLE LOAD GRID |
| DE19893943387 DE3943387A1 (en) | 1988-12-29 | 1989-12-27 | Controllable diffraction grating - has grating body, support, coupling layer, two silver electrodes, profile, photoresist and optical limiter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD32442988A DD279077A1 (en) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | CONTROLLABLE LOAD GRID |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD279077A1 true DD279077A1 (en) | 1990-05-23 |
Family
ID=5606136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD32442988A DD279077A1 (en) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | CONTROLLABLE LOAD GRID |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD279077A1 (en) |
| DE (1) | DE3943387A1 (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5115344A (en) * | 1990-10-03 | 1992-05-19 | Motorola, Inc. | Tunable diffraction grating |
| US5216680A (en) * | 1991-07-11 | 1993-06-01 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Optical guided-mode resonance filter |
| GB9508343D0 (en) * | 1995-04-25 | 1995-06-14 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus |
| US5598300A (en) * | 1995-06-05 | 1997-01-28 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Efficient bandpass reflection and transmission filters with low sidebands based on guided-mode resonance effects |
| DE20006292U1 (en) * | 2000-04-06 | 2001-08-16 | Globalmind Consumer Electronic | Optical arrangement |
| US7027688B2 (en) * | 2002-05-14 | 2006-04-11 | Wildnauer Kenneth R | Tunable optical filter based on a physically-deformable diffractive element |
-
1988
- 1988-12-29 DD DD32442988A patent/DD279077A1/en unknown
-
1989
- 1989-12-27 DE DE19893943387 patent/DE3943387A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3943387A1 (en) | 1990-07-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0765488B1 (en) | Grating structure and its use | |
| DE2804105C2 (en) | ||
| EP0670467B1 (en) | Interferometer | |
| DE19720784A1 (en) | Integrated optical circuit | |
| DE2321211C3 (en) | Beam deflector with piezoelectrically driven pivoting mirrors | |
| DE10000955A1 (en) | Optical displacement sensor for recording amount of displacement of precision mechanism has light intensity data entry device with several light reception regions in division direction of diffraction interference pattern | |
| DE102010031206B4 (en) | Tunable Fabry-Pérot filter and method of making the same | |
| DD279077A1 (en) | CONTROLLABLE LOAD GRID | |
| EP0712005B1 (en) | Piezoelectric acceleration sensor | |
| EP2056086A1 (en) | Force-torque sensor | |
| DE3812334A1 (en) | INTERFEROMETRIC DEVICE | |
| EP1436647A2 (en) | Method for producing a scale, scale produced according to said method and a position measuring device | |
| EP0188772A2 (en) | Position sensor | |
| EP0096262A1 (en) | Fibre-optic sensor for measuring dynamic quantities | |
| DE102018113208A1 (en) | Method for operating a light microscope with structured illumination and optical arrangement | |
| DE2658399A1 (en) | INTERFEROMETRIC PROCEDURE | |
| DE2710795A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE DISPLACEMENT OR VIBRATIONS OF A SURFACE | |
| DE2108439A1 (en) | Device for deflecting a monochromatic light beam | |
| DE2429813A1 (en) | Light-modulating arrangement for polarisation analyser etc. - has electro-optical crystal covered by electrically conductive foils | |
| DE2817239A1 (en) | VARIABLE FOCAL LENGTH MIRROR | |
| DE2812249C2 (en) | Electro-optical switch | |
| DE3230159C1 (en) | Piezoelectrically excitable cube-corner retroreflector | |
| EP1323170B1 (en) | X-ray optical system | |
| DE102005058808B4 (en) | Position measuring device with holographic scale | |
| EP0747739A2 (en) | Method for using disc shaped material in the manufacture of optoelectronic components with variable grating period |