DD272315A1 - DIMENSION STABLE ANODE - Google Patents

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DD272315A1
DD272315A1 DD31584088A DD31584088A DD272315A1 DD 272315 A1 DD272315 A1 DD 272315A1 DD 31584088 A DD31584088 A DD 31584088A DD 31584088 A DD31584088 A DD 31584088A DD 272315 A1 DD272315 A1 DD 272315A1
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layer
electrochemically active
stable anode
anode
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DD31584088A
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Lutz Kuehnemund
Marlene Teich
Horst Bartelt
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Univ Berlin Humboldt
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  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine dimensionsstabile Anode fuer elektrochemische Prozesse, insbesondere fuer die Chloralkalielektrolyse, bei der durch Aufbringen einer Zwischenschicht mit andersartiger Zusammensetzung auf einen Titangrundkoerper eine Erhoehung der Standzeit erreicht wird. Ziel der Erfindung ist eine dimensionsstabile Anode herkoemmlicher Zusammensetzung mit einem Titangrundkoerper und einer elektrochemisch aktiven Schicht auf RuO2/TiO2- oder RuO2/IrO2/TiO2-Basis, bei der durch Einbau einer edelmetallfreien Zwischenschicht hoher elektrischer Leitfaehigkeit die Oxidation des Titangrundkoerpers sowohl waehrend der Praeparation als auch waehrend der Elektrolyse eingeschraenkt und damit die Standzeit erhoeht wird. Die erfindungsgemaesse dimensionsstabile Anode, bestehend aus einem Titangrundkoerper, einer Zwischenschicht und einer elektrochemisch aktiven Schicht, ist dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht aus TiNx besteht.The invention relates to a dimensionally stable anode for electrochemical processes, in particular for the chloralkali electrolysis, in which an increase in the service life is achieved by applying an intermediate layer with a different composition on a Titangrundkoerper. The aim of the invention is a dimensionally stable anode conventional composition having a Titangrundkoerper and an electrochemically active layer on RuO2 / TiO2 or RuO2 / IrO2 / TiO2-based, in which by incorporating a noble metal-free intermediate layer of high electrical conductivity, the oxidation of Titangrundkoerpers both during preparation as also restricted during the electrolysis and thus the service life is increased. The dimensionally stable anode according to the invention, consisting of a titanium base body, an intermediate layer and an electrochemically active layer, is characterized in that the intermediate layer consists of TiNx.

Description

Anwendungsgebiet dtr Erfindung .Field of application of the invention.

01· Erfindung betrifft ·Ιη·η dlmenslonssliNle Anode für elektrochemisch· Prom··, Insbesondere für dl· Chloralkalielektrolyse. Di· Erfindung itt in der chemischen Industrie anwendbar.The invention relates to an anode for electrochemical · Prom ··, in particular for dl · chloroalkali electrolysis. The invention is applicable in the chemical industry.

Charakteristik de· bekannten 8tand·· der TechnikCharacteristic of the known 8tand ·· of the technology In den vergangenen 16 Jahren haben lieh dimeniloniitablle Anoden (OSA) für dio Chloralkallelektrolyie gegenüber den bitIn the past 16 years, dimeniloniitablle anodes (OSA) have been available for the chlorinated allelic electrolyte

dahin üblichen Qraphitanoden im Weltmaßstab durchgesettt. Ober 8OH den in der Welt produzierten Chlors werden heute mit dimensionsstabilen Anoden hergestellt, das gilt sowohl für das Diaphragma als euch für das Quecksilber· undusual graphite anodes on a world scale. Above 8OH, the chlorine produced in the world today is produced with dimensionally stable anodes, this applies to both the diaphragm and you for the mercury · and

Membranverfahren.Membrane processes. Dimensionsstabil· Anoden werden aus einem Tragermetall, Im allgemeinen Titan, und einer durch thermische ZersettungDimensionally Stable Anodes are made of a support metal, generally titanium, and one by thermal desiccation

hergestellten elektrochemisch aktiven Beschichtung auf Pt/Ir-Basls oder aus Rutheniumdioxid und Titandloxid Im geeignetenprepared electrochemically active coating on Pt / Ir-Basls or ruthenium dioxide and titanium oxide in the appropriate

Motverhlltnis unter Zusatt weiterer geeigneter Stoffe hergestellt. Diese Anoden werden daher auch als VerbundelektrodenMotverhlltnis made under Zusatt further suitable substances. These anodes are therefore also called composite electrodes

bezeichnet.designated.

(K.HASS, Chem.-lng.-Techn.47 |197S| 121; V.OE NORA, J.W.KÜHN VON BURQSDORFF, Chem.-lng.-Tochn.4711975) 125; DDPS55323; DE-OS 1671422)(K.HASS, Chem.-Ing.-Techn.47 | 197S | 121; V.OE NORA, J.W. KÜHN OF BURQSDORFF, Chem. Ing. Tochn.4711975) 125; DDPS55323; DE-OS 1671422)

Für die Desaktivlerung von RuO>/TiO|-Elektroden unter den technischen Bedingungen dor anodischen Chlorentwicklung »μ ; ilenFor the deactivation of RuO> / TiO | electrodes under the technical conditions of anodic chlorine evolution » μ ; ilen

sowohl eine Sperrachlchtbildung twischon Titanmetall und Aktivschicht «is auch dio Korrosion des RuOi ·η derboth a barrier formation of titanium metal and an active layer is also known as corrosion of RuOi · η

Elektrodenoberfllche eine wesentliche Rolle (S. TRASATTI und O. LODI In S.TRASATTI (ad) Electrodes of Conductive MetalicElectrode surfaces play an essential role (S. TRASATTI and O. LODI In S.TRASATTI (ad) Electrodes of Conductive Metalic Oxides, Elsevier, Amsterdam 1981, Part B, S.621-626).Oxides, Elsevier, Amsterdam 1981, Part B, pp. 621-626). Darauf aufbauend existieren in der Patentliteratur iwei prinzipiell· Λιι ianton zur Standjoitarhöhung. Zum einen wird versucht,Based on this, in the patent literature, in principle, there are basically Λιι ianton for increasing the stage yoke. For one thing, it tries to

durch ein· Modifizierung der elektrochemisch aktiven Schicht die Korrosionsgeschwinitigkolt dos RuOj zu senken und damit dieby modifying the electrochemically active layer, lowering the corrosion rate of RuOj, and thus the

Lebensdauer zu erhohen (US 4005004, DE 2342M3, DE 2625820, DD 98620, PP ?19802).Increase lifetime (US 4005004, DE 2342M3, DE 2625820, DD 98620, PP? 19802). Zum anderen wird durch den Einbau einer sogenannten Zwischenschicht versucht, die Sperrschlchtbildung an der PhasengrenzeOn the other hand, attempts are made by the incorporation of a so-called intermediate layer, the Sperrschlchtbildung at the phase boundary Titanmetall/Oxidschicht hinauszuzögern, um damit die Standzeit der «,,-,cüen tu verlängern. Als eine prinzipielle Möglichkeit istTo delay titanium metal / oxide layer, thereby extending the life of the "cuen tu. As a principle possibility

hierbei der Einbau von Edelmetallen wie Ag, Au, Ru oder Pd (US-PS 4086157) oder einer edelmetallreichemn Schicht imin this case, the incorporation of precious metals such as Ag, Au, Ru or Pd (US-PS 4086157) or a precious metal-rich layer in

Vergleich tür äußeren RuOj/TIOj-Schlcht (DE 2815955) tu nennen.Comparison door outer RuOj / TIOj-Schlcht (DE 2815955) tu call. Es existieren des weiteren Vorschläge turn Einbau von Edelmetalloxiden (Rh, Ir) direkt in die Oxidhaul des Ventilmetalls desThere are further proposals for the incorporation of noble metal oxides (Rh, Ir) directly into the oxide layer of the valve metal Elektrodengrundkörpers, turn Beispiel Titan (DD 153397).Electrode body, turn Example titanium (DD 153397). Zusätzliche Edelmetollbeigaben in der Zwischenschicht bewirken zwar eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit undAlthough additional Edelmetollbeigaben in the intermediate layer cause excellent electrical conductivity and

erhöhen dl· Standzelt der Anoden. Andererseits stellt ein hoher Edelmetallanteil in der Zwischenschicht einen beträchtlichen ökonomischen Nachteil dar.increase dl · Stand of the anodes. On the other hand, a high precious metal content in the intermediate layer represents a significant economic disadvantage.

Andere Patentschriften empfehlen den Einbau dünner Schichten aus Niclttodel.iUalloxl/en, zum Belsplol SnO; (DE 2532553)Other patents recommend the incorporation of thin layers of Niclttodel.iUalloxl / en to Belsplol SnO; (DE 2532553)

oder anreduziertea und mit vorwiegend höhorwertigon Oxiden dotiertes Titanoxid (TiO4 -,) (DD-WP 220621). Alle diese durch thermische Zersetzung hergestellton Zwischenschichten schränken zwar die Ausbildung ein;, schlechtloitonden ΤίΟ,-Schlcht ein und verlängern damit die Standzeit der Anoden. Allerdings wird damit das Titangrundmatorial nicht dicht abgeschlossen, so daß noch keine vollständige Schutzfunktion gewährleistet wird.or anreduziertea and with predominantly höhorwertigon oxides doped titanium oxide (TiO 4 -,) (DD-WP 220621). Although these intermediate layers, produced by thermal decomposition, restrict the formation of poorly soluble ions, they prolong the service life of the anodes. However, so that the Titanium Round Matorial is not tightly closed, so that no complete protection is guaranteed.

Für eine MnOj-beschichtete Titananode wurde ein« TiN-Zwischenschicht vorgeschlagen (OB-PS 1527369). Diese wurde durchFor a MnOj-coated titanium anode, a TiN intermediate layer has been proposed (OB-PS 1527369). This was through

eine chemische Reaktion beispielsweise von TiCI4 und NH1 auf einer Titangrundplatte bei erhöhten Temperaturen (5C0'C bis 700'C) hergestellt. Allgemein zeigen aber Braunstein-Titan-Anoden unter den Bedingungen der technischena chemical reaction, for example, of TiCl 4 and NH 1 on a titanium base plate at elevated temperatures (5C0'C to 700'C). In general, however, show manganese titanium anodes under the conditions of technical

Chloralkalielektrolyse schlechte Eigenschaften (H.Hofmann u.a., Chem.Techn.3311981) 353), so daß eino großtechnischeChloralkali electrolysis poor properties (H.Hofmann et al., Chem.Techn.3311981) 353), so that a large-scale Nutzung für die Chlorprodukt'on nicht möglich ist.Use for the Chlorprodukt'on is not possible. Als weiterer Nachteil der in der britischen Patentschrift QB-PS 1527369 beschriebenen Anode ist die durch chemische ReaktionAnother disadvantage of the anode described in British Patent Specification QB-PS 1527369 is the chemical reaction

auf der Titanoberfläche bei erhöhten Temperaturen erzeugte TiN-Zwischenschicht zu nennen, die aufgrund dieserto mention on the titanium surface produced at elevated temperatures TiN intermediate layer, due to this

Herstellungsbedingungen keine optimale Sperrfunktion gegenüber eindringendem Sauerstoff aufweist.Manufacturing conditions has no optimal barrier function against penetrating oxygen.

-2- 272 816-2- 272 816

ZItIdM ErfindungZItIdM invention

ZItI der Erfindung ill et, tin» für elektrochemische Promi·, Insbesondere für die Chloralkalielektrolyse, ainsetibare dimenaionsstabile Anode herkömmlicher Zusammensetzung mit einem TltangrundVr per, einer Zwischenschicht und einer elektrochemisch aktiven Schicht auf RuOiATIOf oder RuOi/lrOi/TIOi-Basls amugeben, die eich durch eine wesentliche Erhöhung der Standteit ausieichnet, wodurch bei deren Anwendung Energie·, Edelmetall· und Arbeitsielteinsparung resultieren.According to the invention, for electrochemical celebrities, particularly for chloroalkali electrolysis, amine-stable dimenion-stable anode of conventional composition having a titanium base, an intermediate layer, and an electrochemically active layer on RuOiATIOf or RuOi / IrO / TIOi-Basls pass through a substantial increase of the stand ausieichnet, resulting in their application energy ·, precious metal · and Arbeitsieleinsparung.

Darlegung de« Wesens der ErfindungPresentation of the essence of the invention Der Erfindung Hegt die Aufgabe iugrunde, eine dlmenslonistablle Anode, die wie bekannt aus Titangrundkörper,The invention has the object iugrunde, a dlmenslonistablle anode, which is known from titan basic body, Zwischenschicht und elektrochemisch aktivor Schicht auf RuO|/TiOi· oder RuOi/lrOt/TiOi-Basis besteht, tu entwickeln, bei derInterlayer and electrochemically active layer on RuO | / TiOi · or RuOi / lrOt / TiOi base consists tu develop at the

die Zwischenschicht eine für diese Anoden nicht bekannte, edelmetallfrel«, eine hohe elektrische Leitfähigkeit gewährleistendethe intermediate layer, a precious metal fragment not known for these anodes, ensures a high electrical conductivity

Zusammensettung aufweist und eine gute Haftunq dei elektrochemisch aktiven Schicht ermöglicht.Having composite rescue and allows a good Haftunq dei electrochemically active layer. Erfindungsgamäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der bekannte, entfettete und mechanisch geglättete TitangrundkörporErfindungsgamäß this object is achieved in that the known, defatted and mechanically smoothed titanium basic grains

vor Aufbringen einer elektrochemisch aktivon RuOj/TIOr oder RuOj/lrOj/1 IO| Schicht mit einer TIN.Schlcht mit χ » 0,1 bis 1,2 und einer Schichtdicke bis maximal 100 pm, beispielsweise mit einer TINo-Schlcht versehen wird.before application of an electrochemically active RuOj / TIOr or RuOj / lrOj / 1 IO | Layer with a TIN.Schlcht with χ »0.1 to 1.2 and a layer thickness of up to 100 pm, for example, with a TINo Schlcht is provided.

Die Titannltridschicbt wird durch an sich bekanntes reaktives D. C.-Plaimatronsputtem auf dem Titangrundkörper erieugt. VorThe Titannltridschicbt is erieugt by per se known reactive D. C. Plaimatronsputtem on Titanium body. In front

der eigentlichen Beschichtung wird die Titanplatte Im Hochvakuum mit Argonionen gosputtert, so daß auf dem Grundkörper keine Oxide vorliegen, die sich euf den Widerstand der Elektrode negativ auswirken können. Ein weiterer Vorteil des reaktiventhe actual coating, the titanium plate is gosputtered in a high vacuum with argon ions, so that there are no oxides on the body, which can have a negative effect on the resistance of the electrode. Another advantage of the reactive

Sputterna besteht darin, daß durch die Wahl geeigneter Prozeßgrößen (kinetische Energie, Stoßtahlverhlltnisse derSputtering consists in the fact that by the choice of suitable process variables (kinetic energy, Stoßtahlverhlltnisse the Reaktionspartner, Substrattemperatur) die Eigenschaften der TIN.-Schlcht wie Hlrte, stöchlometrlsche Zusammensettung,Reaction partner, substrate temperature) the properties of TIN.-Schlcht like Hlrte, stoichiometric aggregate,

spetlflscher elektrischer Widerstand, Rauhigkeit, Porösität, Schichtdicke u.a. bestimmt werden können. Durch dieseSpatula electrical resistance, roughness, porosity, layer thickness, etc. can be determined. Through this

Verfahrensweise Ist euch eine gute Keprodutierbarkeit der erteugenden Schicht möglich.Procedure: Is it possible for you to have good mutability for the pervading layer? Die so hergestellte Titannitrid-Zwischenschicht wird aufgerauht, beispielsweise mit heißem Königswasser gelttt, um einenThe titanium nitride intermediate layer produced in this way is roughened, for example with hot aqua regia, to form a

guten Haftgrund tu schaffen. Anschließend wird eine bekannte Ru/Tl· odor Ru/Ir/Ti-Präparationslösung aufgetragen, durch die die elektrochemisch aktive Schicht ausgebildet wird. Dio Prlparationtilösung wird hiertu mehrmals auf die geätzte TIN.-Schlcht aufgetragen. Nach leder Beschichtung erfolgt eine Trocknung bei Temperaturen bis 100'C und danach Einbrennen batgood reason to create. Subsequently, a known Ru / Tl odor Ru / Ir / Ti preparation solution is applied, through which the electrochemically active layer is formed. The preparation of the preparation is applied several times to the etched TIN.-Schlcht. After leather coating, drying takes place at temperatures up to 100 ° C and then baking

Temperaturen !wischen 350 *C und COO'C. Sehr vorteilhaft ist die Verwendung einer Präparatlonslösung mit einemTemperatures! Wipe 350 * C and COO'C. Very advantageous is the use of a preparation solution with a Edelmetallgehalt bis maximal 40MoI-S.Precious metal content up to 40MoI-S. Die dimensionsstabile Anode auf der Basis Ti, TiN,, RuO1ZTiOi oder RuOjZIfO1ATiO1 war bislang in dieter Kombination nichtThe dimensionally stable anode on the basis Ti, TiN ,, RuO 1 ZTiOi or RuOjZIfO 1 ATiO 1 was so far not in this combination

bekannt, sie teichnet sich durch folgende Vorteile au»:known, it has the following advantages:

1. Bei der erfindungsg«mlß«n ^,-Zwischenschicht handelt es sich sowohl um eine edelmetallfreie als auch um eine hochleitfahige Schicht.1. The intermediate layer according to the invention is both a noble metal-free and a highly conductive layer.

2. Diese Zwischenschicht schOtit aas GrundmeMll während der Elektrodenherstellung, wo es längere Zeit Temperaturen !wischen 3WC und 500'C ausgesettt ist, vor Oxidation.2. This intermediate layer protects the base metal during electrode production, where it is exposed to long-term temperatures between 3WC and 500'C, before oxidation.

3. Die Lebensdauer der Elektrode wird durch die erfindungsgemlße Zwischenschicht wesentlich erhöht.3. The lifetime of the electrode is substantially increased by the intermediate layer according to the invention.

Der · *··η genannte Effekt ist an sich aber auch in seiner Größe überraschend, weist dip Zwischenschicht doch eine gam andere Qir itruktur als die elektrochemisch aktive Schicht auf. Im Gegensau tür Rutilstruktur dor RuOj/TIO}· und RuOj/lrOj/TIOi-Aktivschicht besitzt TiN Natriumchlor id-Struktur (Gmelins Handbuch der anorganischen Chemie, Titan, Verlag Chemie, Weinheim 1951) — der gute Vorbund !wischen beiden Schichten ist somit erstaunlich.The effect mentioned above is surprising in itself but also in its size, since the intermediate dip layer has a different structure than the electrochemically active layer. In contrast to the rutile structure of RuOj / TIO} · and RuOj / lrOj / TIOi active layer, TiN has sodium chloride id structure (Gmelin's Handbook of Inorganic Chemistry, Titan, Verlag Chemie, Weinheim 1951) - the good precompound between these two layers is therefore astonishing ,

AusfuhrungsbeispieleExemplary embodiments Beispiel 1:Example 1: Der entfettete und mechanisch geglättete Titangrundkörper wird im Hochvakuum mit Argonionen gesputtort und anschließendThe degreased and mechanically smoothed titanium basic body is sputtered in a high vacuum with argon ions and then

durch reaktives D.C.PIasmatron-Sputtern mit einer TiN.-Schicht versehen. Die Herstellungsbedingungen werden dabei so gewählt, daß eine etwa 1 pm starke TINoj-Schicht aufgebracht wird.provided with a TiN.layer by D.C. Plasmaser sputtering. The production conditions are chosen so that an approximately 1 pm thick TINoj layer is applied.

Die so hergestellte Zwischenschicht wird einige Minuten mit heißem (80'C) Könlgswassor geätzt. Nach dom Abspülen der SäureThe intermediate layer thus produced is etched for a few minutes with hot (80 ° C.) water. After dom rinse off the acid

wird eine bekannte Ru/Ti-Präpa. ationalöiung aufgetragen, durch die die elektrochemisch aktive Schicht ausgebildet wird. Diebecomes a known Ru / Ti-Präpa. applied ationalöiung, through which the electrochemically active layer is formed. The

Präparationslösung wird hierzu mehrmals auf die geätzte TiN.-Schicht aufgetragen. Nach joder Beschichtung erfolgt eineThe preparation solution is applied several times to the etched TiN.-layer. After joder coating takes place T'ocknuno bei 80*C und dann ein Sminütipes Einbrennen bei 4 WC. Nach Aufbringen der letzten Einzelschicht schließt sich eineT'ocknuno at 80 * C and then a sminütipes branding at 4 WC. After application of the last single layer closes one

einstündige Endtemptrung bei 45O'C an.one-hour final performance at 45O'C.

Titan wird in Form von Ti(OC4Hi)4 (Titantetrabutylat) und Ruthenium in Form von Ru(en),CljTitanium is in the form of Ti (OC 4 Hi) 4 (titanium tetrabutylate) and ruthenium in the form of Ru (s), Clj

(Rutheniumtrisethylendiamintrichlorld) in alkoholischer LOsung eingesetzt. Die Herstellung des Ru(en),Clj erfolgt gemäß(Rutheniumtrisethylendiamintrichlorld) used in alcoholic solution. The preparation of Ru (en), Clj is carried out according to

DD-W? 157697. Da* Ru/Ti-Molverhältnls beträgt 30/70, <jie aufgebrachte Edelmetatlmenge 13g RuO1An'.DD-W? 157697. Since the Ru / Ti molar ratio is 30/70, the amount of precious metals applied is 13g RuO 1 An '. Die so präparierten Anoden wurden zur Elektrolyse einur wäßrigen 4molaren Natriumchlorid-Lösung (pH ·> 2,5) eingesetzt. BeiThe thus prepared anodes were used for the electrolysis of aqueous 4 molar sodium chloride solution (pH ·> 2.5). at

einer Stromdichte von lOOmA/cm1 und einer Temperatur von 26'C betrug die anodische Überspannung 60...7OmV. Im sogenannten Schwefelsäuretest (Elektrolyse in 2 N H]SO4,25'C, 0,5A/cm') wurde eine Standzeit von 34 Stunden registriert.a current density of lOOmA / cm 1 and a temperature of 26'C, the anodic overvoltage was 60 ... 7OmV. In the so-called sulfuric acid test (electrolysis in 2 NH] SO 4 , 25'C, 0.5A / cm ') a service life of 34 hours was registered.

Beispiel 2:Example 2:

Der entfettete und mechanisch geglättete Titanqrundkorper wird im Hochvakuum mit Argonionen gesputtort und anschließend durch reaktives D.C.-Plasmatron-Sputtern mit oiner TiN.-Schicht versehen. Die Herstellungsbodingungen werden dabei so gewählt, daß eine etwa 1 Mm starke TiN0»-Sch!cht aufgebracht wird. Die so hergestellte Zwischenschicht wird einige Minuten mitThe degreased and mechanically smoothed Titanqrundkorper is sputtered in a high vacuum with argon ions and then provided by reactive DC Plasmatron sputtering with a TiN.-layer. The production conditions are chosen so that an about 1 mm thick TiN 0 »- is applied. The thus prepared intermediate layer is with a few minutes

-3- 272 316-3-272,316

helQem WC) Könlgtwatter gelttt. Nach dam Abtpülan der 8lur· wird ·Ιη· bekannt· Ru/TIPr Iparatlonilöiung aufgetragen, durch dl· die «t«ktroch«nlich aktiv· 8chlcht auagablldat wird. Öl· Prlparatloniieaung wird hlartu mahrmala auf dl· galUtehelQem WC) Königswatter valid. According to the description of the invention, oil is applied to Ru / TIPr Iparatlonilöiung, by means of which the "t" ktroch nlich becomes active · 8chlcht auagablldat. Oil · Prolparatloniieaung is hlartu mahrmala on dl · galUte

TIN.-Schlcht aufgetragen. Nach leder B«Mhlchtung erfolgt «In· Trocknung bei MO und dann ein 2mlnutlgee Einbrennen beiTIN.-Schlcht applied. After leather B "Mühlchtung erfolgt" In · drying at MO and then a 2mlnutlgee branding at

42O1C. Nach Aufbringen der lettten Elnieltchlcht KhIIeQt alch eine elnitOndlge Endtemperatur bei 430'C an.42O 1 C. After application of the method, use a final temperature of 430'C.

Titan wird In Torrn von Ti(OC4Hf)4 (Titantetrabutylat) und Ruthenium In Form von RuCI1 · 3 H1O (Ruthenium (110-chlof ld-3-hydf »tiTitanium is prepared in toluene from Ti (OC 4 Hf) 4 (titanium tetrabutylate) and ruthenium in the form of RuCl 1 .3H 1 O (ruthenium (110-chlorofl-3-hydrotein)

in Itopropanol eingeteilt. Oat Ru/Tl-Molverhlltnlt betrlgt 26/7S, die aufgebrachte Edelmetallmenge 12,8g RuOi/m*.divided into itopropanol. Oat Ru / Tl molar ratio is 26 / 7S, the amount of noble metal applied is 12.8g RuOi / m *.

Die to präparierten Anoden wurden tür Elektrolyte einer widrigen 4molaren Natrlumchlqrld-Lötung (pH 2,8) eingeteilt. BeiThe prepared anodes were classified by electrolytes into an adverse 4 molar sodium chloride solution (pH 2.8). at

einer Stromdicht· von 200mA/cm* und einer Temperatur von 26'C betrug die anodltche Überipannung 70...8OmV. Ima current density of 200mA / cm * and a temperature of 26'C, the anodic over-voltage was 70 ... 8OmV. in the

Schw«felilureteit wurrle ein· Standieit von 38 Stunden raglttriert.Schwelfeilureiteit wurnle a stand of 38 hours raglttriert.

Claims (2)

-ι- 272 310272 310 Patentanspruch:Claim: 1. Dimensionsstablle Anode für elektrochemische Pretense, bestehend aus einem Titangrundkörper, einer Zwischenschicht und einer elektrochemisch aktiven Schicht auf RuCVTIOi- oder RuCVIrO)/ TiOfBasls, dadurch gekennzeichnet, daß die dlmenslonsstablle Anode mit einer auf den mit Agroninnen gesputterten Tltangrundkörpor durch an sich bekanntes reaktives D.C.· Plasmatronsputtern aufgebrachten, aus TIN« mit χ - 0,1 bis 1,2 bestehenden und vor Auftragung der elektrochemisch aktiven Schicht aufgerauhten Zwischenschicht einer Schlchtdicxo bis maximal 100Mm versehen Int.1. Dimensional Stable Anode for electrochemical pretense, consisting of a titanium basic body, an intermediate layer and an electrochemically active layer on RuCVTIOi or RuCVIrO) / TiOfBasls, characterized in that the dlmenslonsstablle anode with a on the Agroninnen sputtered Tltangrundkörpor by per se known reactive DC · Plasmatron sputtering applied, consisting of TIN «with χ - 0.1 to 1.2 and roughened before application of the electrochemically active layer interlayer of Schlchtdicxo provided to a maximum of 100 microns Int. 2. Dlmensionsstablle Anode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dimensionsstabile Anode· mit einer beispielsweise aus TIN0.* bestehenden und mit heißem Königswasser oder heißer Alklallauge aufgerauhten Zwischenschicht vorsehen ist.2. Dlmensionsstablle anode according to claim 1, characterized in that the dimensionally stable anode · with an example of TIN 0. * Existing and roughened with hot aqua regia or hot Alklallauge roughened intermediate layer is provided.
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