DD271960A1 - ARRANGEMENT OF BENDING GRIDS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung von Beugungsgittern mit Lichtquelle und Empfaenger, die fuer den Einsatz in Spektralgeraeten bestimmt ist. Bei der erfindungsgemaessen Anordnung werden stoerende spektrale Beugungseffektivitaetsschwankungen und im Falle von Beugungsgittern auf gekruemmten Traegern, gleichzeitig Abbildungsfehler dadurch verringert, dass bei mindestens einem Beugungsgitter der Anordnung wenigstens eine dielektrische Schicht ueber die Gitterflaeche eine variierende optische Schichtdicke oder eine unterschiedliche Profilform in ihrer unteren und oberen Begrenzungsflaeche aufweist. Fig. 1The invention relates to an arrangement of diffraction gratings with light source and receiver, which is intended for use in Spektralgeraeten. In the arrangement according to the invention, disturbing spectral diffraction effects fluctuations and, in the case of diffraction gratings on curved carriers, simultaneously aberrations are reduced in that at least one diffraction grating of the arrangement has at least one dielectric layer over the grating surface a varying optical layer thickness or a different profile shape in its lower and upper boundary surface having. Fig. 1
Description
Hierzu.4 Seiten ZeichnungenFor this purpose.4 pages drawings
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung von Beugungsgittern mit Lichtquelle und Empfänger.The invention relates to an arrangement of diffraction gratings with light source and receiver.
Dabei können die Beugungsgitter auf Planträgern oder gekrümmten Trägern angeordnet sein.The diffraction gratings can be arranged on flat supports or curved supports.
Sie können sowohl als Reflexionsbeugungsgitter als auch als Transmissionsphasengitter ausgebildet sein.They can be designed both as a reflection diffraction grating and as a transmission phase grating.
Die erfindungsgemäße Anordnung von Beugungsgittern ist in Spektralg. äten insbesondere dort anwendbar, wo höchste Anforderungen an die spektrale Beugungseffektivität und, im Falle von Beugungsgittern auf gekrümmten Trägern, an die Abbildungseigenschaften gestellt werden.The inventive arrangement of diffraction gratings is in Spektralg. In particular, they are applicable where the highest demands are placed on the spectral diffraction efficiency and, in the case of diffraction gratings on curved supports, on the imaging properties.
Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art
Mechanisch oder interferenziell geteilte Beugungsgitter, wie sie z. B. in der Monographie von H. C. Hutley „Diffraction Gratings" Oxford 1Sd2 beschrieben werden, haben eine breite Anwendung in der Spektroskopie und in anderen Gebieten des wissenschaftlichen Gerätebaus gefunden. Solche Gitter bestehen aus einem Gitterträger, meist Glas oder Keramik, einer das Gitterprofil formenden Schicht, oft Resist oder Epoxidharz, und einer Verspiegelungsschicht, zumeist Aluminium, Gold oder ein anderes Metall, sowie gegebenenfalls aus einer Schutzschicht, wie Magnesiumfluorid oder Quarz.Mechanically or infrequently divided diffraction gratings, as z. As described in the monograph of HC Hutley "Diffraction Gratings" Oxford 1Sd2 have found widespread use in spectroscopy and other fields of scientific instrumentation such grids consist of a lattice girder, usually glass or ceramic, a lattice profile forming layer , often resist or epoxy resin, and a mirroring layer, usually aluminum, gold or another metal, and optionally from a protective layer, such as magnesium fluoride or quartz.
Weiterhin sind Gitter nach der DE-OS 3424133 bekannt, die aus einer Oberflächen-Phasenrelief-Schicht bestehen, die auf einem Träger aufgebracht ist und bei denen die Transrnissions-Beugungsordnungen benutzt werden. Die soeben aufgezählten Gittertypen können, wie z. B. ebenfalls in der oben aufgeführten Monographie von Hutley beschrieben ist, auch als interferenziell oder mechanisch geteiltes Konkav- oder Konvexgitter ausgebildet sein.Furthermore, grids are known according to DE-OS 3424133, which consist of a surface phase relief layer, which is applied to a support and in which the transmission diffraction orders are used. The just listed lattice types can, such. B. also described in the above monograph by Hutley, also be designed as an interference or mechanically divided concave or convex.
Dabei besteht das Problem darin, eine gute Korrektion der Abbildungsleistungen über ainen bestimmten Wellenlängenbereich unter den üblichen Voraussetzungen zu erreichen, indem von jedem Oberflächenelement des Gitters Strahlen mit derselben Beugungseffektivität zur Bildentstehung beitragen. Eine Verbesserung des Kontrastes des entstehenden Bildes ist im Prinzip seit den Arbeiten von Runge zu Beginn des Jahrhunderts und detaillierter von H. G. Beutler im Journ. of Opt. Society of America 35, 311 (1945) beschrieben worden, wobei in der Dispersionsrichtung des Gitters z. B. symmetrisch vom Rand her abgeblendetThe problem here is to achieve a good correction of the imaging powers over a certain wavelength range under the usual conditions by contributing from each surface element of the grating beams with the same diffraction efficiency for image formation. An improvement in the contrast of the resulting image is in principle since the work of Runge at the beginning of the century and in more detail by H. G. Beutler in the Journ. of Opt. Society of America 35, 311 (1945), wherein in the direction of dispersion of the lattice z. B. dimmed symmetrically from the edge
Eine Realisierung des Abblendens eines Spektrometers längs und quer zur Gitterdispersionsrichtung ist ebenfalls bekannt (W. R.A realization of the dimming of a spectrometer along and across the grating dispersion direction is also known (W.R.
Hunter und R. U. Chaimson in Appl. Optics 18 (1979) 2398), wobei die Abblendung je nach Wellenlänge eingestellt werden kann.Hunter and R.U. Chaimson in Appl. Optics 18 (1979) 2398), wherein the dimming can be adjusted depending on the wavelength.
Dabei wird ein rolativ großer Aufwand mit Schrittmotoren getrieben.In this case, a great deal of effort is required with stepper motors.
Störend auf den spektroskopischen Gebrauch von Gittern wirken sich Anomalien, also tiefe Einschnitte oder steile Peaks, imDisturbing the spectroscopic use of lattices, anomalies, ie deep cuts or steep peaks, have an effect on the
Beugungseffektivitätsverlauf des Beugungsspektrums aus. «,Diffraction efficiency profile of the diffraction spectrum. "
Solche Schwankungen in den Effektivitätsverläufen könt.on hervorgerufen werden durch Verschwinden von Gitterbeugungsordnungen infolge streifender Ausbreitung parallel zum Gitterträger, durch die Einkopplung von Energie in Oberflächenpiasmanen, durch Einkoppeln von Energie in Schichtwellenmoden bei beschichteten Gittern und durch Anschwingen von Resonatormoden in relativ dicken Gitterbeschichtungon.Such variations in the efficiencies may be evoked by the disappearance of lattice diffraction orders due to grazing propagation parallel to the lattice girder, the coupling of energy into surface piasms, the coupling of energy in stratified wave modes in coated gratings, and the oscillation of resonator modes in relatively thick grating coating.
Die Schwankungen im Beugungseffektivitätsverlauf täuschen falsche Spektrallinien vor und müssen nach Möglichkeit vermindert werden. Eine Möglichkeit zur Verringerung d6S Einflusses der Anomalien bei Gittern mit ebenen ha' .ken ist in der Patentschrift US 3942873 beschrieben und besteht in einer wulstartigen Verdickung der metallischen Schicht auf der kurzen Flanke des Gitters. Dies ist mit dem Nachteil verbunden, daß die gezeigten Gitterprofile schwer zu kopieren sind. Eine andere Möglichkeit zur Verbesserung der Bcugungseffektivitätsverteiiung ist die Variation der Modulatioristiafe des Gitters über die Gitterfläche gemäß DU-WP 204318, was zu einer Verb -«iterung der Beugungseffektivitätsverteilung führt, aber für Plangitter unter Konstanthaltung der Anomalien bei gegebener ilungsfrequenz. Die Anomalien sind dadurch jedoch nicht beseitigt.The fluctuations in the diffraction efficiency course falsify false spectral lines and must be reduced as far as possible. One way to reduce the influence of the anomalous flat surface gratings is described in US Pat. No. 3,942,873, which involves a bead-like thickening of the metallic layer on the short flank of the grating. This has the disadvantage that the grid profiles shown are difficult to copy. Another possibility for improving the diffraction efficiency distribution is the variation of the grating modulatory field over the grating surface according to DU-WP 204318, which leads to a reduction in the diffraction efficiency distribution, but for planitter while keeping the anomalies constant at a given frequency. However, the anomalies are not eliminated.
Ziel der Erfindung ist eine mit möglichst geringem Aufwand realisierbare, die Kopierfähigkeit nicht beeinträchtigende Minimierung der spektralen Beugungseffektivitätsschwankungen von Beugungsgittern sowie die Verbesserung der Abbildungsleistung im Falle von Gi'.tern auf gekrümmten Trägern.The aim of the invention is to minimize the spectral diffraction efficiency fluctuations of diffraction gratings that can be realized with as little effort as possible, and not to impair the ability to copy, and to improve the imaging performance in the case of slides on curved supports.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Beugungsgitter zu schaffen, bei denen auf einfache Weise und unter Erhaltung der Kopierfähigkeit die Beugungseffektivitätsschwankungen von Beugungsgittern verringert und im Falle von Gittern auf gekrümmten Trägern gleichzeitig die Abbildungseigenschaften verbessert werden.The invention has for its object to provide diffraction gratings, in which the diffraction efficiency fluctuations of diffraction gratings are reduced in a simple manner and while maintaining the copying capability and at the same time the imaging properties are improved in the case of grids on curved supports.
Diese Aufgabe wird bei einer Anordnung von Beugungsgittern mit Lichtquelle und Empfänger, wobei sich die aus einer das Gitterprofil formenden Schicht bestehenden Beugungsgitter auf Planträgern oder gekrümmten Trägern befinden und jeweils mit mindestens einer dielektrischen Schicht versehen sind, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß bei mindestens einem Beugungsgitter der Anordnung wenigstens eine dielektrische Schicht über die Gitterfläche eine variierende optische Schichtdicke oder eine unterschiedliche Profilform in ihrer unteren und oberen Begrenzungsfläche aufweist.This object is achieved in an arrangement of diffraction gratings with light source and receiver, wherein the diffraction grating consisting of a grating profile forming layer are on plan beams or curved beams and are each provided with at least one dielectric layer, according to the invention solved in that at least one diffraction grating of Arrangement at least one dielectric layer over the grid surface has a varying optical layer thickness or a different profile shape in its lower and upper boundary surface.
Es ist vorteilhaft, wenn wenigstens eine dielektrische Schicht eines der Beugungsgitter eine fh Dispersionsrichtung monoton und linear abnehmende optische Schichtdicke besitzt.It is advantageous if at least one dielectric layer of one of the diffraction gratings has a fh dispersion direction monotonically and linearly decreasing optical layer thickness.
Bei Verwendung von Beugungsgittern mit abbildenden Eigenschaften ist es vorteilhaft, wenn wenigstens eine dielektrische Schicht eines der Beugungsgitter auf bevorzugten Gittergebieten mit unterschiedlicher Ausdehnung parallel und/oder senkrecht zur Dispersionsrichtung andere optische Schichtdicken als auf dem Restgebiet aufweist.When diffraction gratings with imaging properties are used, it is advantageous if at least one dielectric layer of one of the diffraction gratings has different optical layer thicknesses on preferred grating regions with different extents parallel and / or perpendicular to the dispersion direction than on the remaining region.
Von Vorteil ist auch, wenn die dielektrischen Schichten von hintereinandergeschalteten Beugungsgittern eine voneinander verschiedene optische Schichtdicke haben.It is also advantageous if the dielectric layers of series-connected diffraction gratings have a different optical layer thickness from each other.
Durch Untersuchungen wurde gefunden, daß bei Beugungsgittern die Lage der Gitteranomalien im Spektrum beispielsweise durch die optische Schichtdicke der dielektrischen Schichten, d. h. durch die geometrische Schichtdicke oder den Brechungsindex dieser Schichten, oder aber auch durch die Form ihres Gitterprofils verändert werden kann. So bringt die Änderung der geometrischen Schichtdicke um 1 nm etwa eine Verschiebung der längerwelligen Anomalien um 1 nm in Richtung zu größeren Wellunlängen.It has been found by investigations that in the case of diffraction gratings the position of the lattice anomalies in the spectrum is determined, for example, by the optical layer thickness of the dielectric layers, i. H. can be changed by the geometric layer thickness or the refractive index of these layers, or even by the shape of their grid profile. For example, changing the geometric layer thickness by 1 nm results in a shift of the longer-wave anomalies by 1 nm towards larger wells.
Den gleichen Effekt bewirkt eine Erhöhung des Brechungsindex der Schicht um Δη = 0,01.The same effect is achieved by increasing the refractive index of the layer by Δη = 0.01.
Hieraus ergibt sich die Lösung der Aufgabenstellung:This results in the solution of the task:
Die optische Schichtdicke der dielektrischen Schicht, oder im Falle von mehreren dielektrischen Schichten, mindestens einer dielektrischen Schicht, ist auf einem Toil des Gitters z. B. so eingerichtet, daß die Anomalien in der Beugungseffektivität bei einer Wellenlänge X1 liegt. Auf einem zweiten Teil des Gitters besitzt die dielektrische Schicht eine optische Schichtdicke, die zur Verschiebung der Anomalie an die Wellenlänge X2 in diesem Bereich führt. Wiederum auf einem dritten Teil des Gitters entspricht einer weiteren optischen Schichtdicke die Position der Anomalie bei λ3 usw. Durch Mittelung über alle von den verschiedenen Gitterteilen herkommenden Verläufen der Beugungseffektivität ergibt sich als mittlere Ausgleichseffektivität eine Schwächung der Anomalie. Es erfolgt eine Einebnung oder Glättung <iar Anomalie. Gleichermaßen werden alle mit der optischen Schichtdicke verbundenen Beugungseffektivitätsschwankungen mitgeglättet.The optical layer thickness of the dielectric layer, or in the case of multiple dielectric layers, at least one dielectric layer is on a Toil of the grid z. B. arranged so that the anomalies in the diffraction efficiency is at a wavelength X 1 . On a second part of the grating, the dielectric layer has an optical layer thickness which results in the displacement of the anomaly to the wavelength X 2 in this region. Again on a third part of the grating corresponds to a further optical layer thickness, the position of the anomaly at λ 3 , etc. By averaging over all the diffraction efficiencies derived from the different grating parts, the anomaly weakening is obtained as the mean balancing efficiency. There is a leveling or smoothing of the anomaly. Likewise, all diffraction efficiencies associated with the optical layer thickness are also smoothed.
Bei Beugungsgittern auf gekrümmten Trägern bewirkt die eKindungsgemäße Anordnung gleichzeitig eine Erhöhung der Abbildungsleistuiig infolge der Schwächung von Abbildungsfehlern.In the case of diffraction gratings on curved supports, the arrangement according to the invention simultaneously causes an increase in the imaging power due to the weakening of aberrations.
Die erfindungsgemäße Anordnung bezieht sich sowohl auf Transmissionsphasengitter als auch auf Reflexionsgivter.The arrangement according to the invention relates both to the transmission phase grating and to the reflection giver.
Ausführungsbeispieleembodiments
Nachfolgend soll die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Es zeigenThe invention will be explained in more detail with reference to embodiments. Show it
Abb. 1: Ouerschnitt durch ein Reflexionsbeugungsgitter einer erfindungsgemäßen Anordnung Abb. 2: Kurve der Beugungseffektivität in % in Abhängigkeit von der Wellenlänge X[nm] bei einer erfindungsgemäßen Anordnung gemäß Ausführungsbeispiel 1Fig. 1: Ouerschnitt through a reflection diffraction grating of an inventive arrangement Fig. 2: curve of the diffraction efficiency in% as a function of the wavelength X [nm] in an inventive arrangement according to embodiment 1
Abb.3: Querschnitt durch ein Konkavgitter einer erfindungsgemäßen Anordnung Abb.4: Querschnitt durch ein Konkavgitter mit gebietsweise konstanten Schichtdicken einer erfindungsgemäßen Anordnung Abb.5: Schematische Darstellung eines Doppelmonochromator als erfindungsgemäße Anordnung mit 2 Konkavgittern.Fig. 3: Cross-section through a concave grating of an arrangement according to the invention Fig. 4: Cross-section through a concave grating with area-wise constant layer thicknesses of an arrangement according to the invention Fig. 5: Schematic representation of a double monochromator as an arrangement according to the invention with two concave gratings.
Ausführungsbeispiel 1Embodiment 1
Abb. 1 steift ein Reflexionsbeugungsgitter z.B. der Abmessung 100x 100mm2 dar, bestehend aus einem planen Glasträger 1, einer darauf angeordneten, ein geblaztes Gitterprofil 5 formenden Resistschicht 2, einer darauf angeordneten metallischen Reflexionsschicht 3 aus Al, z. B. der Dicke von 100nm und einer abschließenden dielektrischen Schicht 4 aus MgF2, welche zugleich als Schutzschicht dient.Fig. 1 illustrates a reflection diffraction grating, for example, the dimension 100x 100mm 2 , consisting of a plane glass substrate 1, a arranged thereon, a blazed grating profile 5 forming resist layer 2, a metallic reflective layer 3 made of Al, z. B. the thickness of 100nm and a final dielectric layer 4 of MgF 2 , which also serves as a protective layer.
Die dielektrische Schicht 4 weist erfindungsgemäß eine von einem Gitterrandpunkt L zu einem in Dispersionsrichtung gegenüberliegenden Gitterrandpunkt R eine linear abnehmende geometrische Schichtdicke auf, wobei die Schichtdicke in Punkt Lz. B. 100nm und im Punkt R 5nm beträgt. Das Gitterprofil 5 besitzt eine Gitterkonstante g von 0,714pm, d.h. eine Teilungsfrequenz von 1400l/mm und einen Blazewinkel α = 6°. Im Vergleich zu einem analogen Beugungsgitter mit gleichmäßig dicker dielektrischer Schicht werden die dort auftretenden Beugungseffektivitätsschwankungen und Beugungsanomalien im spektralen Verlauf bei dem erfindungsgemäßen Beugungsgitter aufgrund der monoton und linear abnehmenden geometrischen Schichtdicke der dielektrischen Schicht 4 in ihrer Wirkung um den Faktor 4 geschwächt, wie es auch aus Abb. 2 hervorgeht, für den TM-Polarisationsfall. Dabei repräsentiert die durchgezogene Kurve den spektralenAccording to the invention, the dielectric layer 4 has a linearly decreasing geometric layer thickness from a grating edge point L to a grating edge point R lying opposite in the dispersion direction, the layer thickness at point Lz. B being 100 nm and at point R 5nm. The grating profile 5 has a grating pitch g of 0.714pm, i. a pitch frequency of 1400 l / mm and a blaze angle α = 6 °. In comparison with an analog diffraction grating having a uniformly thick dielectric layer, the diffraction effects fluctuations and diffraction anomalies occurring in the diffraction grating according to the invention due to the monotonically and linearly decreasing geometric layer thickness of the dielectric layer 4 are weakened by a factor of 4, as is the case with FIG Fig. 2 shows, for the TM polarization case. The solid curve represents the spectral
Beugungseffektivitätsverlauf des erfindungsgemäßen Beugungsgitters, die gestrichelte Kurve den spektralen Beugungseffektivitätsverlauf eines Vergleichsgitters.Diffraction efficiency profile of the diffraction grating according to the invention, the dashed curve the spectral diffraction efficiency profile of a comparison grating.
Die Wirkung wird auch erzielt, wenn statt der Dojrhriebenen Schichtdickenänderung der dielektrischen Schicht 4 über die Gitterfläche die Schicht 4 in ihrer oberen Begrenzungifläche 11 ein anderes Gitterprofil aufweist als in der unteren, der profilformenden Schicht 2 näherliegenden Begrenzungsfläche 12.The effect is also achieved if, instead of the doubling of the layer thickness change of the dielectric layer 4 over the grid surface, the layer 4 has a different grid profile in its upper boundary surface 11 than in the lower boundary surface 12 closer to the profile-forming layer 2.
Ausführungsbeispiel 2Embodiment 2
In Abb. 2 ist ein Konkavgitter, also ein Beugungsgitter auf gekrümmtem Träger 1, mit geblaztem Gitterprofil 5 dargestellt. Auf dem Träger 1 ist die profilformende Schicht 2, die Al-Schicht 3 und darauf schließlich die dielektrische Schicht 4 aus MgF2 angeordnet. Die dielektrische Schicht 4 besitzt eine von Gitterrandpunkt L zu Gitterrandpunkt R in Dispersionsrichtung dünner werdende Schichtdicke, die eine Verringerung von Gitteninomalien bewirkt.FIG. 2 shows a concave grating, that is to say a diffraction grating on a curved carrier 1, with a blazed grating profile 5. On the support 1, the profile-forming layer 2, the Al layer 3 and finally the dielectric layer 4 of MgF 2 is arranged. The dielectric layer 4 has a layer thickness thinning from the grid edge point L to the grid edge point R in the dispersion direction, which causes a reduction in pitch inomalies.
In Punkt L beträgt sie 200 nm, in Punkt R 5 nm. Das Gitter bildet Spalt A auf Spalt B ab und die Blazeflanken des Gitterprofils 5 sind so geneigt, daß ein von A kommender Strahl, der entsprechend der Gittergleiuhung nach B gebeugt wird, an jeder Blazeflanke lokal gespiegelt wird.At point L it is 200 nm, at point R 5 nm. The grating maps gap A to gap B and the blaze flanks of the grating profile 5 are inclined such that a beam coming from A which diffracts to B according to the grating glitching each blaze flank is mirrored locally.
Bei Anwendung dieses Gitters mit z. B. 1400 l/mm im UV- und VIS-Bereich bis 520 nm legt man wegen schv/acher Intensitäten im UV die Abbildungskorrektion vorteilhafterweise in den Bereich von 160 bis 240 nm, d. h. in diesem Bereich sind nach den bekannten Korrektionsrichtlinien die Fehler Defokussierung, Astigmatismus, meridionale und sagittate Koma zu minimieren.When using this grid with z. B. 1400 l / mm in the UV and VIS range to 520 nm is applied because schv / acher intensities in the UV, the imaging correction advantageously in the range of 160 to 240 nm, d. H. In this area, according to the known correction guidelines, the errors defocusing, astigmatism, meridional and sagittate coma should be minimized.
Durch diese für das UV angepaßte Korrektion ergeben sich allerdings größere Abbildungsfehler im sichtbaren Spektralbereich.However, this correction adapted to the UV results in larger aberrations in the visible spectral range.
Ausführungsbeispiel 3Embodiment 3
Aus dem im Ausführungsbeispiel 2 geschilderten Abbildungsverhalten ergibt sich eine weitere Lösungsvariante für ein abbildendes Beugungsgitter auf gekrümmtem Träger 1. Gemäß Abb. 4 besitzt ein zentrales, zur Dispersionsrichtung senkrecht begrenztes Gittergebiet 6 (z. B. Vs der gesamten Gitterfläche) eine dickere dielektrische Schicht 4, z. B. 55 nm, als außenliegende Gittergebiete 7 mit einer Schichtdicke von jeweils 5nm.A further solution variant for an imaging diffraction grating on a curved support 1 results from the imaging behavior described in Example 2. According to Fig. 4, a central grating region 6 (eg, Vs of the entire grating surface) perpendicular to the dispersion direction has a thicker dielectric layer 4 , z. B. 55 nm, as external grating areas 7 with a layer thickness of 5 nm each.
Ein Bildpunkt in Spalt B, Abb.4, erhält damit vom gesamten Konkavgitter Licht im gut korrigierten Spektralbereich von 160 bis 240nm und für den sichtbaren Bereich wirkt das gut korrigierte zentrale Gebiet 6 aufgrund der dort vorliegenden höheren Schichtdicke mit etwa doppelt so hoher Effektivität wie die außenliegenden, schlechter abbildenden Gittergebiete 7. Dadurch wird ebonfalls im sichtbaren Bereich eine Auflösungsverbesserung erreicht.A pixel in gap B, Fig. 4, thus receives light from the entire concave grating in the well-corrected spectral range of 160 to 240nm and for the visible range, the well-corrected central region 6 with about twice as high effectiveness as the external, poorer-imaging grating areas 7. As a result, an improvement in resolution is achieved in the visible range.
Die gebietsweise unterschiedlich vorliegenden Schichtdicken in diesem Ausführungsbeispiel entsprechen einer Beschneidung des Gitterrandes durch das Bauelement selbst.The areally different layer thicknesses in this embodiment correspond to a trimming of the grid edge by the device itself.
Ausfuhrungsbeispiel 4Exemplary embodiment 4
In Abb. 5 isi ein Doppelmonochromator dargestellt, der 2 Konkavgitter 8 und 9 mit darauf angeordneten Schichten 2-1 enthält. Hier bedeutet C eine Lichtquelle, 8 ein unter Ausführungsbeispiel 2 beschriebenen Konkavgitter, jedoch mit einer dielektrischen Schicht 4 konstanter Dicke von 30 Mm, 10 ein Spalt, 9 ein unter Ausführungsbeispiel 2 beschriebenes Konkavgitter, aber mit einer dielektrischen Schicht 4 konstant Dicke von 60pm,und B ein Austrittsspalt. In diesem Beispiel tritt die Btugungseffektivitätsschwankung und Abbildungsfehler verringernde Wirkung durch die voneinander verschiedene Dicke der dielektrischen Schichten der hintereinander geschalteten Beugungsgitter ein.FIG. 5 shows a double monochromator which contains two concave gratings 8 and 9 with layers 2-1 arranged thereon. Here, C means a light source, 8 a concave grating described in Example 2, but with a dielectric layer 4 of constant thickness of 30 μm, 10 a gap, 9 a concave grating described in Example 2, but with a dielectric layer 4 constant thickness of 60 μm, and B is an exit slit. In this example, the diffraction efficiency fluctuation and aberration reducing effect occur due to mutually different thicknesses of the dielectric layers of the diffraction gratings connected in series.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD31552588A DD271960A1 (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | ARRANGEMENT OF BENDING GRIDS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD31552588A DD271960A1 (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | ARRANGEMENT OF BENDING GRIDS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD271960A1 true DD271960A1 (en) | 1989-09-20 |
Family
ID=5599054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD31552588A DD271960A1 (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | ARRANGEMENT OF BENDING GRIDS |
Country Status (1)
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|---|---|
| DD (1) | DD271960A1 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1988
- 1988-05-09 DD DD31552588A patent/DD271960A1/en unknown
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| RPI | Change in the person, name or address of the patentee (searches according to art. 11 and 12 extension act) | ||
| ASS | Change of applicant or owner |
Owner name: INSTITUT FUER MATHEMATIK, BERLIN Effective date: 19920916 Owner name: INSTITUT FUER OPTIK UND SPEKTROSKOPIE Effective date: 19920916 Owner name: CARL ZEISS JENA GMBH Effective date: 19920916 |
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| IF04 | In force in the year 2004 |
Expiry date: 20080510 |