DD226742A3 - INTERFERENCE FILTER WITH A THROUGH BAND - Google Patents

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DD226742A3
DD226742A3 DD24948883A DD24948883A DD226742A3 DD 226742 A3 DD226742 A3 DD 226742A3 DD 24948883 A DD24948883 A DD 24948883A DD 24948883 A DD24948883 A DD 24948883A DD 226742 A3 DD226742 A3 DD 226742A3
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interference
filter
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refractive index
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DD24948883A
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German (de)
Inventor
Erich Dummernix
Ulrich Weiland
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Zeiss Jena Veb Carl
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films

Abstract

Die Erfindung betrifft Interferenzfilter mit einem Durchlassband zur Verwendung in optischen Anordnungen und Geraeten fuer den UV-, VIS- und NIR-Bereich. Ziel der Erfindung ist es, die Qualitaet dieser Interferenzfilter zu erhoehen. Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, Interferenzfilter mit verminderter Absorptionsbandenstruktur und dadurch erhoehter Transmission im Durchlassbereich bei gleichzeitig hoher Sperrwirkung der Seitensperrbereiche zu schaffen. Sie wurde durch ein Interferenzschichtsystem dadurch geloest, dass in mindestens einer aeusseren Filterschichtgruppe des Interferenzschichtsystems gegenueber mindestens einer inneren Filterschichtgruppe die Anzahl der Einzelschichten um die aeusseren Schichten verringert ist und/oder die optische Schichtdicke der mittleren Einzelschicht von mindestens einer aeusseren Filterschichtgruppe geringer als die optische Dicke der mittleren Einzelschicht von mindestens einer inneren Filterschichtgruppe ist.The invention relates to interference filters with a pass band for use in optical arrangements and devices for the UV, VIS and NIR range. The aim of the invention is to increase the quality of these interference filters. The object of the invention is to provide interference filters with a reduced absorption band structure and thereby increased transmission in the passband while maintaining a high blocking effect of the paging areas. It has been solved by an interference layer system in that the number of individual layers around the outer layers is reduced in at least one outer filter layer group of the interference layer system compared to at least one inner filter layer group and / or the optical layer thickness of the middle single layer of at least one outer filter layer group is less than the optical thickness is the middle single layer of at least one inner filter layer group.

Description

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Die Erfindung bezieht sich auf Interferenzfilter mit einem Durchlaßband mit einer Bandbreite von 3 bis 30% der zentralen Wellenlänge des Durchlaßbandes.The invention relates to interference filters with a passband having a bandwidth of 3 to 30% of the central wavelength of the passband.

Derartige Filter dienen der Selektierung begrenzter Spektralbereiche und finden daher Anwendung in optischen Anordnungen und Geräten für den UV-, VIS- und NIR-Bereich.Such filters are used to select limited spectral ranges and are therefore used in optical arrangements and devices for the UV, VIS and NIR range.

Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions

Interferenzfilter mit einem Durchlaßband bestehen bekanntlich aus einem Schichtsystem mit metallischen und nichtmetallischen oder nur nichtmetallischen Schichten, die auf einer lichtdurchlässigen Unterlage übereinander aufgebracht sind und in der Regel durch ein aufgekittetes Deckglas mit eventuell zusätzlicher Blockfilterfunktion gegen äußere Einwirkungen geschützt werden.Interference filters with a pass band are known to consist of a layer system with metallic and non-metallic or only non-metallic layers which are superimposed on a transparent base and are usually protected by a putty cover glass with possibly additional block filter function against external influences.

Aus der DP 716153 sind Interferenzfilter mit lichtdurchlässigen metallischen und nichtmetallischen Schichten bekannt. Ein Mangel dieser Filter besteht darin, daß die Transmission in dem Durchlaßbereich durch eine hohe Lichtabsorption in den Metallschichten stark herabgesetzt ist. In der DE-PS 913005 sind Interferenzfilter mit Schichtsystemen aus lichtdurchlässigen, nichtmetallischen und alternierend hoch- und niedrigbrechenden Schichten beschrieben. Derartige Filter besitzen aufgrund einer geringen Absorption der nichtmetallischen Schichten eine sehr hohe Maximaltransmission im Durchlaßbereich. Für viele Anwendungen ist es jedoch von Nachteil, daß der Bereich hoher Transmission nur auf ein schmales Wellenlängenband beschränkt bleibt.DP 716153 discloses interference filters with transparent metallic and non-metallic layers. A defect of these filters is that the transmission in the pass band is greatly reduced by high light absorption in the metal layers. In DE-PS 913005 interference filter with layer systems of translucent, non-metallic and alternately high and low refractive layers are described. Such filters have a very high maximum transmission in the passband due to a low absorption of the non-metallic layers. However, for many applications, it is disadvantageous that the high transmission range is limited to only a narrow band of wavelengths.

Eine konstruktive Verbreiterung des Durchlaßbereiches dieses Filtertyps durch Verringerung der Schichtenzahl führt zu einer für Anwendungszwecke unzulässig hohen Lichtdurchlässigkeit in den Sperrbereichen und einer Verschlechterung der Steilheit der das Durchlaßband begrenzenden Spektralkanten.A constructive broadening of the passband of this type of filter by reducing the number of layers leads to an inadmissibly high for application purposes, light transmission in the stop bands and a deterioration in the steepness of the passband limiting spectral edge.

Durch periodisches Hintereinanderschalten mehrerer solcher gleicher Filterelemente mit geringer Schichtenzahl und somit verbreitertem Durchlaßbereich erhält man die sogenannten „Multiple cavity Filter" mit geringer Lichtdurchlässigkeit in den Sperrbereichen und einem spektral steil begrenzten, breitem Durchlaßbereich.By periodically connecting several such identical filter elements with a low number of layers and thus broadened passband to obtain the so-called "multiple cavity filter" with low light transmission in the stop bands and a spectrally steep, wide passband.

(Knittel „Optics of Thin Films"(Knittel "Optics of Thin Films"

John Wiley & Sons, London-New York 1976)John Wiley & Sons, London-New York 1976)

Bei der notwendigen Hintereinanderschaltung von mehr als 3 Filterelementen besteht jedoch ein wesentlicher Nachteil solcher Filter darin, daß im Filterdurchlaßband eine Absorptionsbandenstruktur auftritt, die eine Verminderung der Transmission bewirkt. Außerdem reagiert diese Bandenstruktur ungewöhnlich empfindlich auf fertigungsbedingte Schichtdickenfehler. Weiterhin ist bekannt. Interferenzfilter mit einem Durchlaßband dadurch herzustellen, daß ein Filter mit einem ausgedehnten kurzwelligen Durchlaßbereich mit einem zweiten Filter mit einem ausgedehnten langweiligen Durchlaßbereich kombiniert wird, so daß die sich überlappenden Durchlaßbereiche der zwei Filter ein Wellenlängenband begrenzen.In the necessary series connection of more than 3 filter elements, however, a significant disadvantage of such filters is that in the filter passband an absorption band structure occurs, which causes a reduction of the transmission. In addition, this band structure is unusually sensitive to production-related layer thickness errors. Furthermore, it is known. A passband interference filter is made by combining a filter having an extended shortwave passband with a second filter having an extended boring passband so that the overlapping passbands of the two filters define a wavelength band.

(H.A.Madeod „Thin Films optical Filters"(H.A.Madeod "Thin Films Optical Filters"

Adam Hilger LTD, London 1969, S. 154 ff.)Adam Hilger LTD, London 1969, p. 154 ff.)

Ein Hinweis auf eine derartige Anordnung ist auch bereits in der DD-PS 6369 enthalten.An indication of such an arrangement is already included in DD-PS 6369.

Derartig aufgebaute Interferenzfilter zur Ausfilterung eines spektralen Durchlaßbereiches besitzen den Nachteil, daß zu ihrer Realisierung zwei verschiedene Filter mit unterschiedlichen Schichtsystemen erforderlich sind und dadurch ein erhöhter technischer Aufwand entsteht. Außerdem ist die spektrale Maßhaltigkeit durch die Überlagerung fertigungsbedingter Mängel von zwei Filtern unbefriedigend.Such constructed interference filter for filtering a spectral transmission range have the disadvantage that for their realization two different filters with different layer systems are required and thereby increased technical complexity arises. In addition, the spectral dimensional accuracy is unsatisfactory due to the overlay of production-related defects of two filters.

Ziel der ErfindungObject of the invention

Ziel der Erfindung ist es, die Qualität von optischen Interferenzfiltern mit einem Durchlaßband zu erhöhen. Die Nachteile der bekannten technischen Lösungen sollen beseitigt werden.The aim of the invention is to increase the quality of optical interference filters with a passband. The disadvantages of the known technical solutions are to be eliminated.

-2- 249 488-2- 249 488

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, optische Interferenzfilter mit einem Durchlaßband zu schaffen, die durch eine weitestgehende Beseitigung der Bandenstrukturen im Filterdurchlaßband eine hohe Transmission ermöglichen, ohne dabei die vorteilhaften Filtereigenschaften, wie entsprechende Bandbreite des Durchlaßbandes und die gute Sperrwirkung in den Seitensperrbereichen, zu beeinträchtigen.The invention has for its object to provide optical interference filter with a pass band, which allow a high transmission by a far-reaching elimination of the band structures in Filterdurchlaßband, without affecting the beneficial filter properties, such as appropriate bandwidth of the pass band and the good barrier effect in the side locking areas ,

Diese Aufgabe wird durch ein Interferenzfilter mit einem Durchlaßband, bestehend aus einem Interferenzschichtsystem, das auf einem lichtdurchlässigen Träger aufgebracht ist und durch ein aufgekittetes Deckglas abgeschlossen sein kann und sich aus mehreren übereinander angeordneten, symmetrischen aufgebauten Filterschichtgruppen, z.B. mit der Schichtstruktur g2H, Hg2NH, HNg2HNH oder HNHg2NHNH usw., zusammensetzt, die jeweils durch eine Zwischenschicht N miteinander verbunden sind, wobei die lichtdurchlässigen nichtmetallischen Einzelschichten H, N bzw. g2H, g2N, der Filterschichtgruppen unterschiedliche Brechzahlen nH und nN und eine optische Schichtdicke von 1A der zentralen Filterwellenlänge λ0 bzw. ein ganzzahliges Vielfaches g mit g = {1,2,3} des 2fachen Wertes von 1AX0 besitzen, dadurch gelöst, daß in einer oder mehreren äußeren Filterschichtgruppen des Interferenzschichtsystems die Anzahl der Einzelschichten gegenüber der Anzahl der Einzelschichten in einer bzw. mehreren inneren Filterschichtgruppen um die äußeren Einzelschichten H bzw. N reduziert ist und/oder in einer oder mehreren äußeren Filterschichtgruppen des Interferenzschichtsystems die optische Schichtdicke der jeweils mittleren Einzelschicht g2H bzw. g2N geringer als die optische Schichtdicke der jeweils mittleren Einzelschicht in einer bzw. mehreren inneren Filterschichtgruppen ist.This object is achieved by an interference filter with a pass band, consisting of an interference layer system, which is applied to a translucent support and can be completed by a puttied cover glass and a plurality of stacked, symmetrically constructed filter layer groups, for example with the layer structure g2H, Hg2NH, HNg2HNH or HNHg2NHNH, etc., each interconnected by an interlayer N, wherein the translucent non-metallic monolayers H, N or g2H, g2N, the filter layer groups have different indices n H and n N and an optical layer thickness of 1 A of the central filter wavelength λ 0 or an integer multiple g with g = {1,2,3} twice the value of 1 AX 0 , thereby achieved that in one or more outer filter layer groups of the interference layer system, the number of individual layers over the number of individual layers in one or me Inner inner filter layer groups around the outer individual layers H and N is reduced and / or in one or more outer filter layer groups of the interference layer system, the optical layer thickness of the respective middle single layer g2H or g2N lower than the optical layer thickness of the respective middle single layer in one or more inner Filter layer groups is.

Dabei ist es vorteilhaft, wenn die Einzelschichten N bzw. g2N gegenüber den Einzelschichten H bzw. g2H eine niedrigere Brechzahl besitzen.It is advantageous if the individual layers N or g2N have a lower refractive index relative to the individual layers H or g2H.

Es ist aber auch möglich, daß die Eineelschichten N bzw. g2N gegenüber den Einzelschichten H bzw. g2H eine höhere Brechzahl besitzen.However, it is also possible for the monolayers N or g2N to have a higher refractive index than the individual layers H or g2H.

Weiterhin ist von Vorteil, wenn die Brechzahl nN der Zwischenschichten N mit der Brechzahl nT des Trägers und bei aufgekittetem Deckglas mit der Brechzahl nK des Deckglaskittes übereinstimmt.It is also advantageous if the refractive index n of the intermediate layers N N coincides with the refractive index n t of the carrier and at aufgekittetem cover glass with the refractive index n of K Deckglaskittes.

Andernfalls kann bei unterschiedlicher Brechzahl der Zwischenschicht N, des Trägers und des Deckglaskittes eine zusätzliche Zwischenschicht N zwischen dem Träger und dem Interferenzschichtsystem und/oder zwischen dem Interferenzschichtsystem und dem ggf. aufgekitteten Deckglas angeordnet sein. Das Wesentliche der Erfindung besteht darin, daß in dem Interferenzschichtsystem der erfindungsgemäßen Interferenzfilter mindestens eine äußere Filterschichtgruppe sich von einer inneren oder von mehreren inneren Filterschichtgruppen gleicher Schichtstruktur in der Anzahl der Einzelschichten H bzw. N oder der optischen Dicke der mittleren Einzelschichten oder in beiden Merkmalen unterscheiden.Otherwise, with a different refractive index of the intermediate layer N, of the carrier and of the cover glass compound, an additional intermediate layer N may be arranged between the carrier and the interference layer system and / or between the interference layer system and the optionally cemented cover glass. The essence of the invention is that in the interference layer system of the interference filter according to the invention at least one outer filter layer group differ from one or more inner filter layer groups of the same layer structure in the number of individual layers H or N or the optical thickness of the middle individual layers or in both features ,

Und zwar soll die Anzahl der Einzelschichten H oder N bzw. die optische Dicke der mittleren Einzelschicht g2H bzw. g2N in mindestens einer äußeren Filterschichtgruppe geringer als einer bzw. mehreren inneren Filterschichtgruppen sein.In fact, the number of individual layers H or N or the optical thickness of the middle individual layer g2H or g2N in at least one outer filter layer group should be less than one or more inner filter layer groups.

Unter den äußeren Filterschichtgruppen werden dabei insbesondere die unterste, auf dem Träger angeordnete und die oberste, dem Außenmedium, z. B. einem Deckglas, zugewandte Schichtgruppe verstanden, aber auch z. B. zusätzlich die zweitunterste und zweitoberste Filterschichtgruppe usw. Es ist vorteilhaft, wenn die äußeren Filterschichtgruppen gegenüber den inneren Filterschichtgruppen mit gleicher Schichtstruktur um jeweils nur die äußeren zwei A0/4-Einzelschichten H bzw. N dieser Filterschichtgruppen reduziert sind oder wenn jeweils die mittlere Einzelschicht g2H bzw. g2N der äußeren Filterschichtgruppen um 2H- bzw. 2N-Schichten und damit um λο2/ in der optischen Dicke gegenüber den inneren Filterschichtgruppen verringert ist. Der Vorteil der erfindungsgemäßen Interferenzschichtsysteme besteht darin, daß die störenden Bandenstrukturen im Filterdurchlaßbereich beseitigt bzw. stark eingeschränkt sind und dadurch eine höhere Transmission erreicht wird. Die anderen Filtereigenschaften, wie Bandbreite und Sperrwirkung in den Seitensperrbereichen, bleiben weitgehend erhalten.Under the outer filter layer groups are in particular the lowest, arranged on the support and the top, the outer medium, for. As a cover glass, facing layer group understood, but also z. B. in addition, the second lowermost and the second uppermost filter layer groups etc. It is advantageous if the external filter layer groups relative to the inner filter layer groups of identical layer structure is reduced to only the outer two A 0/4 individual layers H or N of these filter layer groups or if each of the average Single layer G2H or G2n of the outer filter layer groups of 2H or 2N layers and therefore reduced by λ ο 2 / in the optical thickness with respect to the internal filter layer groups. The advantage of the interference layer systems according to the invention is that the disturbing band structures in the filter passage area are eliminated or severely limited, thereby achieving a higher transmission. The other filter properties, such as bandwidth and blocking effect in the page blocking areas, remain largely intact.

Als Schichtträger und Deckgläser können übliche Glasplatten oder auch bekannte Filtergläser, mit denen zusätzlich an sich bekannte Filterwirkungen erzielt werden, eingesetzt werden.As a support and coverslips conventional glass plates or known filter glasses, with which additionally known filter effects can be achieved, can be used.

Ausführungsbeispieleembodiments

Nachstehend soll die Erfindung anhand von 4 Ausführungsbeispielen näher erläutert werden.The invention will be explained in more detail with reference to 4 embodiments.

In den dazugehörigen Zeichnungen veranschaulichen Fig. 2,4,5 und 6 die spektrale Transmission T der in den Ausführungsbeispielen 1,2,3 und 4 beschriebenen erfindungsgemäßen Interferenzfilter und Fig. 1 und 3 zum Vergleich die spektrale Transmission T für ein Interferenzfilter mit einem, dem Stand der Technik gemäßen Schichtsystem.FIGS. 2, 4, 5 and 6 illustrate the spectral transmission T of the inventive interference filters described in the exemplary embodiments 1, 2, 3 and 4 and FIGS. 1 and 3 compare the spectral transmission T for an interference filter with a the prior art layer system.

Die spektralen Darstellungen wurden in Wellenzahlen λο/λ vorgenommen und sind jeweils auf die zentrale Filterwellenlänge λο des Filterdurchlaßbereiches bezogen, die gleichzeitig als Maßwellenlänge für die Einzelschichten dient, denn H und N sind Schichten mit einer optischen Schichtdicke von 1A λο. Dadurch sind die Darstellungen sehr umfassend. Durch Festlegung einer gewünschten Wellenlänge X0 für die zentrale Filterwellenlänge sind auch das Wellenlängenspektrum und die optische Dicke jeder Einzelschicht festgelegt. In den Figuren 2,4 und 6 wurde zur Anschaulichkeit die Wellenlängenskala für den Fall X0 = 550 nm mit eingetragen. In diesem speziellen Fall haben alle Einzelschichten H und N eine optische Dicke von 1AX0 = 137,5 nm und die mittlere Einzelschicht g2H undg2N eine um den Faktor 2 g größere optische Dicke, wobei der Wert 2 g (g = ganze Zahl) jeweils in den Beispielen angegeben ist.The spectral representations were made in wavenumbers λ ο / λ and are each related to the central filter wavelength λ ο of the filter passband, which also serves as Maßwellenlänge for the individual layers, because H and N are layers with an optical thickness of 1 A λ o . As a result, the representations are very comprehensive. By defining a desired wavelength X 0 for the central filter wavelength, the wavelength spectrum and the optical thickness of each individual layer are also determined. In FIGS. 2, 4 and 6, the wavelength scale for the case X 0 = 550 nm has been entered for the sake of clarity. In this particular case, all monolayers H and N have an optical thickness of 1 AX 0 = 137.5 nm and the median monolayer g2H and g2N have an optical thickness greater by a factor of 2 g, the value being 2 g (g = integer) in the examples.

Ausführungsbeispiel 1Embodiment 1

Ausführungsbeispiel 1 geht von einem mit Mängeln behafteten Interferenzfilter bekannter Schichtanordnung aus, die erfindungsgemäß verändert wird.Embodiment 1 is based on a faulty interference filter known layer arrangement, which is changed according to the invention.

Das bekannte Schichtsystem besteht aus 7 gleichen Filterschichtgruppen der Struktur G2 = H2NH, die auf einem Glasträger übereinander angeordnet sind, durch N-Schichten miteinander verbunden sind und durch ein aufgekittetes Deckglas geschützt sind. Symbolisch kann das Schichtsystem wie folgt gekennzeichnet werden:The known layer system consists of 7 identical filter layer groups of the structure G 2 = H2NH, which are arranged one above the other on a glass substrate, are interconnected by N layers and are protected by a puttied cover glass. Symbolically, the layer system can be identified as follows:

GIaSZNG2NG2NG2NG2NG2NG2NG2NZGIaS aufgekittet.GIaSZNG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NZGIaS puttied.

Dabei bedeuten N Einzelschichten bzw. Zwischenschichten aus Kryolith mit der Brechzahl nN = 1,30 und H Einzelschichten aus Zinksulfid mit der Brechzahl nH = 2,36. Die optische Schichtdicke der Einzelschichten H und N beträgt 1A X0, die der mittleren Einzelschichten 2N in den G2-Gruppen 2 χ 1AX0, wobei X0 die zentrale Wellenlänge im Filterdurchlaßbereich bedeutet, die jeHere, N single layers or intermediate layers of cryolite with the refractive index n N = 1.30 and H single layers of zinc sulfide with the refractive index n H = 2.36. The optical layer thickness of the single layers H and N is 1 AX 0 , that of the middle single layers 2N in the G 2 groups 2 χ 1 AX 0 , where X 0 is the central wavelength in the filter passband, depending

-3- 249 488 1-3- 249 488 1

nach Anwendungserfordernissen beliebig festgelegt werden kann, z. B. X0 = 550 nm. Die spektrale Transmission dieses bekannten Interferenzschichtsystems ist in Fig. 1 dargestellt und zeigt den Mangel einer Bandenstruktur im Durchlaßband, die bis unter T = 0,5 abfällt.can be set arbitrarily according to application requirements, eg. B. X 0 = 550 nm. The spectral transmission of this known interference layer system is shown in Fig. 1 and shows the lack of a band structure in the pass band, which drops below T = 0.5.

Diese bekannte Anordnung wird erfindungsgemäß dadurch verändert, daß die beiden äußeren Filterschichtgruppen G2 des Schichtsystems jeweils durch die einfachste Schichtgruppe G-i = 2H, die eigentlich eine Einzelschicht mit der optischen Schichtdicke von V2 \odarstellt, ersetzt werden, und somit relativ zu den 5 innern Filterschichtgruppen G2 = H2NH, die eine optische Dicke von λο besitzen und aus 3 Einzelschichten bestehen, eine um die zwei äußeren Einzelschichten (H) geringere Anzahl Einzelschichten besitzt. Das erfindungsgemäße Interferenzschichtsystem wird durch die symbolische Kennzeichnung GIaSZNG1NG2NG2NG2NG2NG2NG1NZGIaS aufgekittetThis known arrangement is inventively changed by the fact that the two outer filter layer groups G 2 of the layer system in each case by the simplest layer group Gi = 2H, which is actually a single layer with the optical layer thickness of V2 \ o replaced, and thus relative to the 5 innern Filter layer groups G 2 = H2NH, which have an optical thickness of λ ο and consist of 3 individual layers, one to the two outer individual layers (H) has fewer number of individual layers. The interference layer system according to the invention is cemented by the symbolic marking GIaSZNG 1 NG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NG 2 NG 1 NZGIaS

charakterisiert. In Fig. 2 ist die spektrale Transmission dieses Interferenzschichtsystems dargestellt. Es ist ersichtlich, daß bei den erfindungsgemäßen Interferenzschichtsystem die störende Bandenstruktur weitestgehend beseitigt ist, während die andern Filtereigenschaften, wie Bandbreite, Sperrwirkung und dergleichen, erhalten geblieben sind.characterized. FIG. 2 shows the spectral transmission of this interference layer system. It can be seen that in the interference layer system according to the invention, the disturbing band structure is largely eliminated, while the other filter properties, such as bandwidth, blocking effect and the like, have been preserved.

Ausführungsbeispiel 2Embodiment 2

Unter Zugrundelegung der eingangs in Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen geht Ausführungsbeispiel 2 von dem bekannten, mit einer Bandenstruktur behafteten Interferenzschichtsystem mit der symbolischen KennzeichnungOn the basis of the conditions described at the beginning in Example 1, exemplary embodiment 2 is based on the known interference layer system with the symbolic identification, which has a band structure

GIaSZNG3NG3NG3NG3NG3NZGIaS aufgekittet aus, das aus 5 gleichen Filterschichtgruppen mit G3 = HN2HNH bestehtGIaSZNG 3 NG 3 NG 3 NG 3 NG 3 NZGIaS puttied, consisting of 5 equal filter layer groups with G 3 = HN2HNH

Es wurden die gleichen Schichtmaterialien wie in Beispiel 1 verwendet. The same layer materials as in Example 1 were used.

Fig.3 zeigt hierzu die spektrale Transmission und die nachteilige Bandenstruktur im Filterdurchlaßbereich. Erfindungsgemäß werden in diesem Schichtsystem die beiden äußeren Gruppen G3 jeweils durch die Gruppe G2 = H2NH ersetzt, in der wiederum die Anzahl der Einzelschichten von 5 auf 3 Einzelschichten durch Wegfall der beiden äußeren Einzelschichten (H) gegenüber G3 verringert ist3 shows the spectral transmission and the disadvantageous band structure in the filter passage area. According to the invention, the two outer groups G 3 are replaced in each case by the group G 2 = H2NH in which the number of individual layers is reduced from 5 to 3 individual layers by eliminating the two outer individual layers (H) compared to G 3

Das neue Interferenzschichtsystem kann symbolisch wie folgt gekennzeichnet werden GIaSZNG2NG3NG3NG3NG2NZGIaS aufgekittet.The new interference layer system can be symbolically characterized as follows: GIaSZNG 2 NG 3 NG 3 NG 3 NG 2 NZGIaS cemented.

Aus der Darstellung der Filterkurve in Fig.4 ist ersichtlich, daß durch das erfindungsgemäße Interferenzschichtsystem die nachteilige Bandenstruktur beseitigt wurde.It can be seen from the illustration of the filter curve in FIG. 4 that the disadvantageous band structure has been eliminated by the interference layer system according to the invention.

Ausführungsbeispiel 3Embodiment 3

Analog zu den Beispielen 1 und 2 wird ein weiterer erfindungsgemäßer Interferenzfilter mit der symbolischen Kennzeichnung GlasZG3NG4NG4G3ZGIas aufgekittetAnalogously to Examples 1 and 2, a further inventive interference filter with the symbolic designation GlasZG 3 NG 4 NG 4 G 3 ZGIas is cemented

betrachtet, dessen Interferenzschichtsystem aus den zwei inneren Filterschichtgruppen G4 = HN4HNH und den beiden äußeren Filterschichtgruppen G3 = ΉΝ2ΗΝΗ und den jeweils dazwischen befindlichen Einzelschichten N mit den in Beispiel 1 genannten Schichtmaterialien besteht.considered, the interference layer system consists of the two inner filter layer groups G 4 = HN4HNH and the two outer filter layer groups G 3 = ΉΝ2ΗΝΗ and the respective intermediate layers N with the mentioned in Example 1 layer materials.

Hierin besitzen in den beiden äußeren Filterschichtgruppen G3 erfindungsgemäß jeweils die mittlere Einzelschicht 2H eine um den Betrag V2 A0 geringere optische Dicke als jeweils die mittlere Einzelschicht der zwei inneren Gruppen G4. Die hierzu in Fig. 5 dargestellte Filterkurve weist im Filterdurchlaßbereich keine nachteilige Bandenstruktur auf.Herein, in the two outer filter layer groups G 3, according to the invention, in each case the middle single layer 2H has an optical thickness which is smaller by the amount V2 A 0 than respectively the middle single layer of the two inner groups G 4 . The filter curve shown for this purpose in FIG. 5 has no disadvantageous band structure in the filter passage region.

Ausführungsbeispiel 4Embodiment 4

Unter Verwendung der gleichen Schichtmaterialien wie in den vorliegenden Beispielen wird ein Interferenzfilter mit der symbolischen KennzeichnungUsing the same layer materials as in the present examples, an interference filter with the symbolic tag is used

GIaSZG3NG3NG5NG3NG3ZGIaS aufgekittet angegeben.GIaSZG 3 NG 3 NG 5 NG 3 NG 3 ZGIaS puttied.

Die vier äußeren Filterschichtgruppen G3 mit G3 = HN2HNH, sind jeweils aus 5 Einzelschichten zusammengesetzt, während die innere Schichtgruppe G5 mit G5 = HNH2NHNH aus 7 Einzelschichten bestehtThe four outer filter layer groups G 3 with G 3 = HN 2 HNH, each composed of 5 individual layers, while the inner layer group G 5 with G 5 = HNH2NHNH consists of 7 individual layers

Die in Fig. 6 dargestellte Filterkurve dieses Interferenzfilters zeigt im Filterdurchlaßbereich keine störende Bandenstruktur. The filter curve of this interference filter shown in FIG. 6 shows no disturbing band structure in the filter passband.

Claims (5)

-1- 249 488 1-1- 249 488 1 Erfindungsansprüche:Invention claims: 1. Interferenzfilter mit einem Durchlaßband, bestehend aus einem Interferenzschichtsystem, das auf einem lichtdurchlässigen Träger aufgebracht ist und durch ein aufgekittetes Deckglas abgeschlossen sein kann und sich aus mehreren übereinander angeordneten, symmetrisch aufgebauten Filterschichtgruppen, z. B. mit der Schichtstruktur g2H, Hg2NH, HNg2HNH oder HNHg2NHNH usw., zusammensetzt, die jeweils durch eine Zwischenschicht N miteinander verbunden sind, wobei die lichtdurchlässigen nichtmetallischen Einzelschichten H, N bzw. g2H, g2N der Filterschichtgruppen unterschiedliche Brechzahlen nH und nN und eine optische Schichtdicke von 1A der zentralen Filterwellenlänge λ0 bzw. ein ganzzahliges Vielfaches g mit g = {1,2,3} des 2fachen Wertes von 1AA0 besitzen, dadurch gekennzeichnet, daß in einer oder mehreren äußeren Filterschichtgruppen des Interferenzschichtsystems die Anzahl der Einzelschichten gegenüber der Anzahl der Einzelschichten in einer bzw. mehreren inneren Filterschichtgruppen um die äußeren Einzelschichten H bzw. N reduziert ist und/oder in einer oder mehreren äußeren Filterschichtgruppen des Interferenzschichtsystems die optische Dicke der jeweils mittleren Einzelschicht g2H bzw. g2N geringer als die optische Dicke der der jeweils mittleren Einzelschicht in einer bzw. mehreren inneren Filterschichtgruppen ist.1. interference filter with a pass band, consisting of an interference layer system, which is applied to a translucent substrate and can be completed by a puttied cover glass and composed of several superposed, symmetrically constructed filter layer groups, eg. B. with the layer structure g2H, Hg2NH, HNg2HNH or HNHg2NHNH, etc., each interconnected by an intermediate layer N, wherein the translucent non-metallic monolayers H, N or g2H, g2N the filter layer groups different refractive indices n H and n N and have an optical layer thickness of 1 A of the central filter wavelength λ 0 or an integer multiple g with g = {1,2,3} twice the value of 1 AA 0 , characterized in that in one or more outer filter layer groups of the interference layer system, the number the individual layers compared to the number of individual layers in one or more inner filter layer groups around the outer individual layers H and N is reduced and / or in one or more outer filter layer groups of the interference layer system, the optical thickness of each central single layer g2H or g2N lower than the optical Thickness of the respective middle single layer in e iner or several inner filter layer groups. 2. Interferenzfilter nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einzelschichten N bzw. g2N gegenüber den Einzelschichten H bzw. g2H eine niedrigere Brechzahl besitzen.2. Interference filter according to item 1, characterized in that the individual layers N and g2N have a lower refractive index relative to the individual layers H and g2H. 3. Interferenzfilter nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einzelschichten N bzw. g2N gegenüber den Einzelschichten H bzw. g2H eine höhere Brechzahl besitzen.3. interference filter according to item 1, characterized in that the individual layers N and g2N have a higher refractive index relative to the individual layers H and g2H. 4. Interferenzfilter nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Brechzahl nN der Zwischenschicht N mit der Brechzahl nT des Trägers und bei aufgekittetem Deckglas mit der Brechzahl nK des Deckglaskittes übereinstimmt.4. Interference filter according to item 1, characterized in that the refractive index n N of the intermediate layer N coincides with the refractive index n T of the carrier and in the case of the cover glass puttied with the refractive index n K of the cover glass element. 5. Interferenzfilter nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei unterschiedlicher Brechzahl der Zwischenschichten, des Trägers und des Deckglaskittes eine zusätzliche Zwischenschicht N zwischen dem Träger und dem Interferenzschichtsystem und/oder zwischen dem Interferenzschichtsystem und dem ggf. aufgekittetem Deckglas angeordnet ist.5. Interference filter according to item 1, characterized in that at different refractive index of the intermediate layers, the carrier and the cover glass element, an additional intermediate layer N between the carrier and the interference layer system and / or between the interference layer system and the optionally aufgekittetem cover glass is arranged. Hierzu 3 Seiten ZeichnungenFor this 3 pages drawings
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