DD268313A1

DD268313A1 - PHOTOPOLYMERIZABLE MATERIAL

Info

Publication number: DD268313A1
Application number: DD31143987A
Authority: DD
Inventors: Harald Baumann; Gunter Israle; Norbert Kraus; Klaus-Peter Kronfeld; Uwe Mueller; Manfred Raetzsch; H-J Timpe
Original assignee: Wolfen Filmfab Veb
Priority date: 1987-12-28
Filing date: 1987-12-28
Publication date: 1989-05-24

Abstract

Die Erfindung betrifft ein fotopolymerisierbares Material, das zur Informationsaufzeichnung, insbesondere als Reproduktionsmaterial zur Herstellung von gedruckten Schaltungen und Reliefbildern fuer Reliefdruckplatten oder zur Herstellung von bildmaessig belichteten Oberflaechenueberzuegen geeignet ist. Erfindungsgemaess enthaelt das fotopolymerisierbare Material in der lichtempfindlichen Schicht ein bivalentes wasserloesliches Fotoinitiatorsystem A/B, worin A eine Oniumverbindung der Formel On X , B ein wasserloesliches aromatisches Keton oder dessen Vinyloge mit leicht oxidierbaren Gruppen und X ein Anion bedeutet, wobei die Schichtbestandteile in der Summe einen Ueberschuss an basischen Gruppen aufweisen. Das Material weist fuer eine Belichtung im Bereich 350-400 nm eine Empfindlichkeit von 200 mJ/cm2 auf.The invention relates to a photopolymerizable material which is suitable for information recording, in particular as a reproduction material for the production of printed circuits and relief images for relief printing plates or for the production of imagewise exposed Oberflaechenueberzuegen. According to the invention, the photopolymerizable material in the photosensitive layer contains a divalent water-soluble photoinitiator system A / B, where A is an onium compound of the formula On X, B is a water-soluble aromatic ketone or its vinylogous with easily oxidizable groups and X is an anion, the layer constituents being in the sum have an excess of basic groups. The material has a sensitivity of 200 mJ / cm 2 for exposure in the range 350-400 nm.

Description

Field of application is invention

Die Erfindung betrifft ein fotopolymerisierbares Material, das zur Informationsaufzeichnung, insbesondere als Reoroduktionsmaterial, zur Herstellung von gedruckten Schaltungen und Reliefbildern für Druckplatten oder zur Herstellung von bildmäßig belichteten Oberflächenüberzügen geeignet ist.The invention relates to a photopolymerizable material which is suitable for information recording, in particular as Reoroduktionsmaterial, for the production of printed circuits and relief images for printing plates or for the production of imagewise exposed surface coatings.

Characteristic of the known state of the art

Es ist bekannt, daß eine Vielzahl ethylenisch ungesättigter Verbindungen dadurch polymerisiert werden können, daß ein Fotoinitiator unter Einfluß von Licht Radikale bildet und diese Radikale eine Polymerisation starten. Es sind eine Reihe von Verbindungen bekannt, die unter Lichteinwirkung nach den verschiedensten Mechanismen Radikale bilden. Zu den typischen Vertretern der in der Fotopolymerisation verwendeten Initiatoren gehören Benzoin und Benzoinether (DE-OS 1769168,2232365, GB-PS 1429053), halogenierte Carbonylverbindungen (US-PS 4001098), Peroxide (S.G.Cohem. U. E. Ostberg, D.B.Sparrow, E.R.BIou'.: J. Polym. Sei, 3 [1948) 264; E.R.Beil, F.F.Rust, W.E.Vangham: J. Amer. Chem. Soc. 72 (1950) 337, Benzilketale (R. Kirchmayr, G.Berner, G. Rist: Farbe-Lacke 86 [1980] 6), Benzophenonderivate (DE-OS 1949010), Anthrachinone (US-PS 2951758,3046127), Gemisch aus Benzophenon und Michler's Keton (DE-OS 2216154), Farbstoffredoxsysteme (US-PS 3092046) und Arendiazoniumsalze in Kombination mit Donatoren (US-PS 3615452,T.Yamaso, T.lkawa, H.Koado, E.lnone,: Phot. Sei. and Eng., 17 (1973) 23,268). Diese Fotoinitiatoren besitzen geringe Quantenausbeuten und bewirken damit eine nicht ausreichende Empfindlichkeit der fotopolyr ierisierbaren Materialien.It is known that a variety of ethylenically unsaturated compounds can be polymerized by forming a photoinitiator under the influence of light radicals and these radicals start a polymerization. There are a number of compounds known that form radicals under the action of light by a variety of mechanisms. The typical representatives of the initiators used in the photopolymerization include benzoin and benzoin ethers (DE-OS 1769168, 2232365, GB-PS 1429053), halogenated carbonyl compounds (US-PS 4001098), peroxides (SGCohem, UE Ostberg, DBSparrow, ERBIou J. Polym. Sei, 3 [1948] 264; E. R. Part, F. F. Rust, W. E. Vangham: J. Amer. Chem. Soc. 72 (1950) 337, benzil ketals (R. Kirchmayr, G.Berner, G. Rist: paint paints 86 [1980] 6), benzophenone derivatives (DE-OS 1949010), anthraquinones (US Patent 2951758,3046127), mixture of Benzophenone and Michler's ketone (DE-OS 2216154), dye redox systems (US Pat. No. 3,092,046) and arenediazonium salts in combination with donors (US Pat. No. 3,615,452, T. Yamaso, T.lkawa, H. Koado, E. I., Phot and Eng., 17 (1973) 23,268). These photoinitiators have low quantum yields and thus cause insufficient sensitivity of fotopolyr ierisierbaren materials.

In DD-PS 158281 versucht man, mit Hilfe ei.ies Coinitiators und Auslösung einer zur radikalischen Polymerisation zusätzlich ablaufenden ionischen Polymerisation bzw. Vernetzung die Effektivität des aktinisch wirksamen Lichtes zu erhohen, um eine verbesserte Lichtempfindlichkeit des fotopolymerisierbaren Materials zu erhalten.DD-PS 158281 attempts to increase the effectiveness of the actinically active light with the aid of a co-initiator and initiation of an ionic polymerization or crosslinking which proceeds additionally for radical polymerization in order to obtain improved photosensitivity of the photopolymerizable material.

Nachteilig wirkt sich jedoch hierbei aus, daß dieses Initiatorsystem nur aus organischen Lösungsmitteln angetragen werden kann und damit Probleme bei der Einhaltung von Arbeits- und Gesundheitsschutz auftreten; außerdem besteht Explosionsgefährdung.However, the disadvantage here is that this initiator system can only be applied from organic solvents and thus problems in compliance with occupational health and safety occur; In addition, there is a risk of explosion.

Ein Fotoin'iiatorsysteni aus einem Η-Donator (Aminoketone, Michlers Keton, 4,4'-Bis-p'-diethylaminobenzophenon) einem 'Η-Akzeptor (Ketone, Chinone) und Oniumverbindungen als Coiniti&tJr wird in DD-PS 225800 beschrieben. Die mit diesem Fotoinitiatorsystem aus wäßriger Lösung angetragene Schicht neigt zu Filmfehlern, die auf Auskristallisation von Initiatorsystembestandteilen zurückzuführen sind. Die hohe thermische Empfindlichkeit des Fotoinitiatorsystems läßt ohne extremen Aufwand zur Stabilisierung bzw. Tieftemperaturlagerung nur eine Lagerstabilität von maximal 4 Wochen zu. Mit Hilfe dieser Fotoinitia;oren lassen sich fotopolymerisierbare Schichten aufbauen, die neben dem Fotoinitiator, polymerisierbar bzw. vernetzbare Verbindungen, ein Bindemittel und gegebenenfalls einen oder mehrere Zusätze wie Inhibitoren, Plastifikatoren, Pigmente oder Farbstoffe enthalten. Im allgemeinen wird die fotopolymerisierbare Schicht als Lösung aller Einzelkomponenten auf die Unterlage bzw. eine Zwischanichicht aufgetragen.A photoinitiator system of a Η-donor (aminoketone, Michler's ketone, 4,4'-bis-p'-diethylaminobenzophenone), a 'Η acceptor (ketones, quinones) and onium compounds as Coiniti ™ is described in DD-PS 225800. The layer applied with this aqueous solution photoinitiator system is prone to film defects due to crystallization of initiator system components. The high thermal sensitivity of the photoinitiator system allows only a storage stability of up to 4 weeks without extreme effort for stabilization or low-temperature storage. With the aid of these photoinitiators it is possible to build up photopolymerizable layers which, in addition to the photoinitiator, contain polymerisable or crosslinkable compounds, a binder and optionally one or more additives such as inhibitors, plasticizers, pigments or dyes. In general, the photopolymerizable layer is applied as a solution of all individual components to the substrate or an intermediate layer.

Als Trägermaterialien werden je nach Anwendungszweck die verschiedensten natürlichen oder synthetischen Materialien verwendet, die als flexible oder starre Folien oder Platten hergestellt werden können. Gebräuchlich sind Folien oder Platten aus Kupfer, orientierter Polyesterfolie, kaschierte Pap'are, Glas, mit Aluminiumoxid abgestrahltes Aluminium und Silicium. Auch Holz ist als Trägermaterial geeignet, wie viele Anwendungsbeispiele bei der bildmäßigen Belichtung von Oberflächenüberzügen zeigen. Zur Bilderzeugung werden die fotopolymerisierbaren Schichten bei der Belichtung vernetzt, d. h. bildmäßig gehärtet. Die bildmäßige Belichtung fotopolymerer Systeme führt im allgemeinen nicht zu \ isuellen Bildern, sondern zu einer bildmäßigen Änderung mindestens einer physikalischen Eigenschaft der belichteten Bereici e infolge Polymerisation und/ oder Vernetzung. Die Eigenschaftsänderungen werden dann in einem nachgeschalteten EntwicKi.ingsschritt zur Visualisierung der Informa¹ ionsprägung genutzt. In einem der gebräuchlichsten Entwicklungsverfahren wurden durch Herauswaschen mit einem auf das System abgestimmten Lösungsmittel oder -gemisch die unbelichteten Schichtteile entfernt. Nach der Entwicklung erhält man Reliefbilder auf dem Trägermaterial, die als Druckformen genutzt werden können bzw. die nach Anfärbung ein Durchsichtoder Aufsichtmaterial ergeben.As support materials, a variety of natural or synthetic materials are used depending on the application, which can be produced as flexible or rigid sheets or plates. Commonly used are sheets or sheets of copper, oriented polyester film, laminated paper, glass, alumina-blasted aluminum and silicon. Wood is also suitable as a carrier material, as many application examples in the imagewise exposure of surface coatings show. For image formation, the photopolymerizable layers are crosslinked on exposure, ie imagewise cured. The imagewise exposure of photopolymer systems generally does not lead to actual images but rather to a visual change of at least one physical property of the exposed areas as a result of polymerization and / or crosslinking. The property changes are then used in a subsequent ^one ionsprägung EntwicKi.ingsschritt for visualization of informality. In one of the most common development processes, the unexposed portions of the coating were removed by washing out with a solvent or mixture tailored to the system. After development, relief images are obtained on the support material which can be used as printing forms or which, after staining, give a transparency or a top view.

Prinzipiell können zum Aufbringen der fotopolymerisierbaren Schichten auf das Trägermaterial Lösungen mit den unterschiedlichsten Lösungsmitteln verwendet werden. Bei der Herstellung eines fotopolymerisierbaren Materials ergeben sich technologische und ökonomische Forderungen sowie Bedingungen, die sich von Seiten des Umweltschutzes und vom Gesundheits-, Arbeite- und Brandschutz ableiten. Es werden deshalb vorrangig unbrennbare Lösungsmittel bzw. -gemische mit einem MAK1000 mg/m³ verwendet.In principle, solutions with a wide variety of solvents can be used to apply the photopolymerizable layers to the support material. The production of a photopolymerizable material results in technological and economic demands as well as conditions derived from environmental protection and health, occupational and fire protection. For this reason, preference is given to using non-flammable solvents or mixtures having a MAK1000 mg / m ³ .

Object of the invention

Das Ziel o?r Erfindung besteht in der Entwicklung eines fotopolymerisierbaren Material mit einem hochempfindlichen Fotoinitiatorsystem, das6p6ktral auf Quecksilberhochdrucklampen abgestimmt ist. Das Material soll aus Wasser oderwäßrigen Lösungen antragbar und entwickelbar sein.The object of the invention is the development of a photopolymerizable material with a high-sensitivity photoinitiator system which is 6p6ktral tuned to high pressure mercury lamps. The material should be coatable and developable from water or aqueous solutions.

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch den Einsatz eines neuen wasserlöslichen Fotoinitiatorsystems ein fotopoly merisierbares Material zu entwickeln, dessen lichtempfindliche Schicht als wäßrige Lösung untragbar !et und das für Belichtung im Bereich 350-400nm eine Empfindlichkeit von 200μϋ/αη- aufweist.The invention has for its object to develop by the use of a new water-soluble photoinitiator a fotopoly merisierbares material whose photosensitive layer as an aqueous solution unsustainable! Et and that for exposure in the range 350-400nm has a sensitivity of 200μϋ / αη-.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß das fotopolymerisierbare Material in der lichtempfindlichen Schicht ein bivalentes wasserlösliches Fotoinitatorsystem enthält, worin A eine Oniumverbindung der allgemeinen Formel On⁺ X", B ein wasserlösliches aromatisches Keton oder dessen Vinyloge mit leicht oxidierbaren Gruppen und X^- ein Anlion bedeuten, worin die Schichtbestandteile in der Summe einen Überschuß an basischen Gruppen aufweisen. In der ajlgemeinen Formel On* X" des Fotoinitiatorbestandteils A können für On⁺ According to the invention, the object is achieved in that the photopolymerizable material in the photosensitive layer contains a bivalent water-soluble Fotoinitatorsystem wherein A is an onium compound of the general formula On ⁺ X ", B is a water-soluble aromatic ketone or its vinylogous with easily oxidizable groups and X ^- Anlion in which the layer components in the sum have an excess of basic groups. In the general formula On * X "of the photoinitiator component A, for On ⁺

— mono-, di- und trisubstituiorte Arendiazoniumsalze,Mono-, di- and trisubstituted arendiazonium salts,

— Bisdiazoniumverbindungen der allgemeinen Struktur- Bisdiazonium compounds of the general structure

+N₂-R₁-Y-R₂-N₂ ⁺,+ N ₂ -R ₁ -YR ₂ -N ₂ ⁺ ,

in der Ri und R₂ substituierte Bonzenreste und Y eine Einfachbindung oder Gruppe^wie z. B. -O-, -CH₂-, -0-CH₂-, 0-CHz-CH₂-O-bedeuten,in the Ri and R ₂ substituted Bonzenreste and Y is a single bond or group ^ such as. B. -O-, -CH ₂ -, -O-CH ₂ -, 0-CHz-CH ₂ -O-mean,

— Oniumkationen von Elementen der V. Hauptgruppe wie z. B. Phosphoniumionen,- Onium cations of elements of the V main group such. B. phosphonium ions,

— Oniumkationen von Elementen der Vl.Hauptgruppe wie z.B. Sulfoniumionen,Onium cations of elements of the main group such as e.g. sulfonium,

— Oniumkationen von Elementen der VII. Hauptgruppe wie z. B. lodoniumionen, eingesetzt werden.- Onium cations of elements of the VII. Main group such. As iodonium ions, are used.

Zu einer besonderen Ausführungsform enthält das fotopolymerisierbare Material ein Fotoinitiatorsystem aus einer lodoniumverbindung, vorzugsweise Diphenyliodoniumhydrogensulfat (A), und Michler's Ketondisulfonäsure (B), X^- bedeutet ein Anion wie z. B. BF₄", PFr, AsF₆", SbF₄", SbCI₄". SnCI₆", SnCI₆", Cl", Br", HSO₄". Die in der Verbindung B enthaltenen leicht oxidierbaren Gruppen entsprechen der allgemeinen FormelIn a particular embodiment, the photopolymerizable material comprises a photoinitiator system of an iodonium compound, preferably diphenyliodonium hydrogen sulfate (A), and Michler's ketone disulfonate (B), X ^{- represents} an anion such as. BF ₄ ", PFr, AsF ₆ ", SbF ₄ ", SbCl ₄ ". SnCl ₆ ", SnCl ₆ ", Cl ", Br", HSO ₄ ". The readily oxidizable groups contained in compound B correspond to the general formula

-N ^ό -N ^ό

4 ι4 ι

wobei R₃ und R₄ gleich oder verschieden sind uno eine C₁-C₄AIlCyI- oder eine Cyclohexylgruppe bedeuten oder R₃ und R₄ zusammen mit dem Stickstoffatom eine Morpholino-, Pyrrolidino- oder Piperidinogruppe bilden. Die Verbindung B enthält 1-4 derartiger Gruppen, die gleich oder verschieden sind. Für das Fotoinitiatorsystem werden die Komponenten A und B im Verhältnis 1:2 bis 20:1 verwendet.where R ₃ and R _{4 are} identical or different and are each a C ₁ -C ₄ AlClicy or a cyclohexyl group, or R ₃ and R ₄ together with the nitrogen atom form a morpholino, pyrrolidino or piperidino group. Compound B contains 1-4 of such groups which are the same or different. For the photoinitiator system, components A and B are used in a ratio of 1: 2 to 20: 1.

Die fotopolymerisierbaren Schichten enthalten des weiteren wasserlösliche oder in Wasser disporgierbare organische Verbindungen, die mindestens eine radikalisch polymerisierbare Gruppierung aufweisen.The photopolymerizable layers further contain water-soluble or water-dispersible organic compounds having at least one free-radically polymerizable grouping.

Als Bindemittel kommen wasserlösliche natürliche oder synthetische Po'ymere zur Anwendung wie z. B. Gelatine, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, modifizierte Maleinsäureanhydridcopolymere, Cellulosesulfat, Acrylsäurepolymere, Polydimethyldiallylammoniumchlorid.As a binder, water-soluble natural or synthetic Po'ymere be used such. Gelatin, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, modified maleic anhydride copolymers, cellulose sulfate, acrylic acid polymers, polydimethyldiallylammonium chloride.

Die lichtempfindliche Schicht enthält weiterhin je nach Verwendungszweck Stabilisatoren, Inhibitoren, Netzmittel, Pigmente oder Farbstoffe.The photosensitive layer further contains, depending on the purpose, stabilizers, inhibitors, wetting agents, pigments or dyes.

Kennzeichnend für die lichtempfindliche Schicht ist, daß die Zahl der basischen, protonierbaren Gruppen aus der Summe aller Schichtbestandteile, Bindemittel, Monomere, Fotoinitiatorsystem u.a., größer ist als die Zahl der anionischen Gruppen.Characteristic of the photosensitive layer is that the number of basic, protonatable groups of the sum of all layer constituents, binders, monomers, photoinitiator system and the like is greater than the number of anionic groups.

Alle Bestandteile der lichtempfindlichen Schi.-h» werden zusammen als wäßrige I ösung direkt auf die Unterlage oder auf eine Zwischenschicht aufgetragen. Der pH-Wert uer Bsgußlösung liegt im Bereich von 7 bis 9.All components of the photosensitive coating are applied together as an aqueous solution directly onto the substrate or onto an intermediate layer. The pH of the boswell solution is in the range of 7 to 9.

Als Unterlage eignen sich die verschiedensten natürlichen oder synthetischen Materialien, die als flexible oder starre Folien oder Platten Einsatz finden. Als Beispiel seien Kupfer, orientierte Polyesterfolie, kaschierte Papiere, Glas, Aluminium, Silicium und Holz genannt.Suitable substrates are a variety of natural or synthetic materials that find use as flexible or rigid films or plates. Examples include copper, oriented polyester film, laminated papers, glass, aluminum, silicon and wood.

Die Belichtung der erfindungsgemäß hergestellten fctopolymerisierbaren Materialien erfolgt mit den in der Reproduktionstechnik gebräuchlichen Quecksilberhochdrucklampen. Aber auch andere Lichtquellen wie Xenonhochdrucklampen, Kohlebogenlampen, Halogenstrahler und Sonnenlicht sind zur Belichtung geeignet, ι 'ach der bildmäßigen Belichtung erfolgt eine Entwicklung mit Wasser, das gegebenenfalls durch geeignete Zusätze auf eii.in pH zwischen 3 und 11 je nach Materialzusammensetzung eingestellt wird, und/oder einem aliphatischen C,-C₃-A'Aoho..The exposure of the fctopolymerizable materials prepared according to the invention takes place with the mercury high-pressure lamps customary in reproduction technology. But other light sources such as xenon high-pressure lamps, carbon arc lamps, halogen lamps and sunlight are suitable for exposure, after the imagewise exposure is a development with water, which is optionally adjusted by appropriate additives to eii.in pH between 3 and 11 depending on the material composition, and / or an aliphatic C, -C ₃ -A'Aoho ..

Bei Betrachtung der zur Bilderzeugung notwendigen Energie als Maß für die Empfindlichkeit wurde für das erfindungsgemäße fotopolymerisierbare Material bei Belichtung im Bereich von 350 bis 400nm eine sehr hohe Empfindlichkeit von <200pJ/cm² gemessen. Das erfindungsgemäße Fotoinitiatorsystem znichnet sich durch eine verminderte Neigung zur Kristallisation der einzelnen Initiatorkomponenten in der Schicht aus und damit in einer verminderten Filmfehlerhäufigkeit im fotopolymerisierbaren Material. Außerdem resultiert aus der erhöhten Thermostabilität des Initiatorsystems eine verbesserte Lagerstabilität des Materials.Considering the energy necessary for image formation as a measure of the sensitivity, a very high sensitivity of <200 pJ / cm ^{2 was} measured for the photopolymerizable material according to the invention on exposure in the range from 350 to 400 nm. The photoinitiator system according to the invention is characterized by a reduced tendency to crystallize the individual initiator components in the layer and thus a reduced film defect frequency in the photopolymerizable material. In addition, the increased thermostability of the initiator system results in improved storage stability of the material.

Ausfflhrungsbelsplele example 1

Die Belichtung der futopolymerisierbaren Materialien erfolgt mit einer Quecksilberhöchstdrucklampe HBO 500, wobei im Bereich von 350-400 nm Licht mit der Intensität 40μϋ/αη² · s auf die lichtempfindliche Schicht trifft. Anschließer d erfolgt die Entwicklung durch etwa 2 min Absprühen mit der jeweiligen Entwicklerlösung und 1 min Tauchen in eine 2%ige F irbstofflösung. Als Bewertungskriterium für die Bilderzeugung wird das Erreichen einer optischen Dichte von 0,3 über Schleier in Extinktionsmaximum des Farbstoffes festgelegt.The exposure of the futopolymerizable materials is carried out with a high-pressure mercury lamp HBO 500, wherein in the range of 350-400 nm light with the intensity 40μϋ / αη ² · s is incident on the photosensitive layer. Followed by the development by about 2 minutes spraying with the respective developer solution and 1 min immersion in a 2% F irbstofflösung. As an evaluation criterion for the image formation, the achievement of an optical density of 0.3 over fog in extinction maximum of the dye is set.

Beisptei 2 Eine Lösung, bestehend aus: 156 Teilen N.N-Dimethylaminopropylacrylamid 276 Teilen Styren/Malsinsäurebutylhalbester-Copolymer 38 Teilen Diphenyliodoniumhydrogensulfat 4 Teilen Michler's Ketondisulfonsäure 1 Teil.Natriumhydroxid 3500 Teile Wasser,wird auf substituierte PETP-Folie vergossen und getrocknet. Die gebildete Schicht hat eine Dicke von 8μιη. Das Material wird entsprechend Beispiel 1 vorarbeitet. Die zur Bilderzeugung notwendige Energie beträgt 160μϋ/αη².Example 2 A solution consisting of: 156 parts N, N-dimethylaminopropyl acrylamide 276 parts styrene / maleic butyl half ester copolymer 38 parts diphenyliodonium hydrogen sulfate 4 parts Michler's ketone disulfonic acid 1 part. Sodium hydroxide 3500 parts water, cast onto substituted PETP film and dried. The layer formed has a thickness of 8μιη. The material is prepared according to Example 1. The energy required for imaging is 160μϋ / αη ² .

Example 3

Eine Lösung, bestehend aus: 75 Teilen N.N-DimethylaminoethylmethscrylatA solution consisting of: 75 parts N.N-dimethylaminoethyl methacrylate

85 Teilen N.N-Dimothylaminopropylmethacrylamid 224 Teilen Acrylsäure/Ethylacrylat-Copolymer85 parts N.N-Dimothylaminopropylmethacrylamide 224 parts Acrylic acid / ethyl acrylate copolymer

38 Teilen Diphenyliodoniumhydrogensulfat 9 Teilen Michler's Ketondisulfonsäure 1 Teil Natriumhydroxid38 parts diphenyliodonium bisulfate 9 parts Michler's ketone disulfonic acid 1 part sodium hydroxide

3 500 Teilen Wasser,3 500 parts of water,

wird auf substrierte PETP-Folie vergossen und getrocknet. Die gebildete Schicht hat eine Dicke von 7 pm. Die zur Bilderzeugung notwendige Energie beträgt 180μϋ/αη².is poured onto subbed PETP film and dried. The formed layer has a thickness of 7 pm. The energy required for image formation is 180μϋ / αη ² .

Example 4 A solution consisting of:

94 Teilen Ν,Ν-Dimethylaminopropylacrylamid 21 Teilen Acrylamid 15 Teilen Methylenbisacrylamid 132 Teilen Poly-N-Viny !pyrrolidon 23 Teilen p-Chlorbenzendiazoniumtetrafluoroborat 4 Teilen Michler's Ketondisulfonsäure 2 Teilen Natriu—.hydrogencarbonat94 parts of Ν, Ν-dimethylaminopropylacrylamide 21 parts of acrylamide 15 parts of methylenebisacrylamide 132 parts of poly-N-vinylpyrrolidone 23 parts of p-chlorobenzenediazonium tetrafluoroborate 4 parts of Michler's ketone disulfonic acid 2 parts of sodium bicarbonate

4 000 Teilen Wasser,4 000 parts of water,

wird auf mit Aluminiumoxid abgestrahlte Aluminiumfolie vergossen und getrocknet. Die gebildete Schicht hat eine Dicke von 4 pm. Das Material wird entsprechend Beispiel 1 verarbeitet. Die zur Bilderzeugung notwendige Energie beträgt 180pJ/cm².is cast on alumina-blasted aluminum foil and dried. The formed layer has a thickness of 4 pm. The material is processed according to Example 1. The energy required for imaging is 180 pJ / cm ² .

Example 5 A solution consisting of:

86 Teilen N.N-Diethylaminoethylacrylat 28 Teilen Acrylamid15 Teilen Methylenbisacrylamid 240 Teilen Gelatine38 Teilen Diphenyliodoniumhydrogensulfat 9 Teilen Michler's Ketondisulfonsäure 3 Teilen Kaliumcarbonat86 parts of N, N-diethylaminoethyl acrylate 28 parts of acrylamide 15 parts of methylenebisacrylamide 240 parts of gelatin 38 parts of diphenyliodonium hydrogensulfate 9 parts of Michler's ketone disulfonic acid 3 parts of potassium carbonate

3 500 Teilen Wasser,wird auf substituierte PETP-Folio vergossen und getrocknet. Die gebildete Schicht hat eine Dicke von 10 μηι. Das Material wird entsprechend Beispiel 1 verarbeitet. Die zur Bilderzeugung not* /endige Energie beträgt 180pJ/cm².3 500 parts of water, is poured onto substituted PETP folio and dried. The layer formed has a thickness of 10 μm. The material is processed according to Example 1. The energy required for image formation is 180 pJ / cm ² .

Beispiel 6 (nicht erfindungsgemäßen Beispiel) Eine Lösung, bestehend aus:Example 6 (non-inventive example) A solution consisting of:

57 Teilen Acrylamid31 Teilen Methylenbisacrylamid57 parts acrylamide31 parts methylenebisacrylamide

160 Teilen Gelatine160 parts gelatin

25 Teilen Natrium-2-benzoylbenzoat 2 500 Teilen Wasser,wird auf substriorte PETP-Folie vergossen und getrocknet. Die gebildete Schicht hat eine Dicke von 9 μπι. Das Material wird entsprechend Beispiel 1 verarbeitet. Die zur Bilderzeugung notwendige Energie beträgt 82OuJ/cm².25 parts of sodium 2-benzoylbenzoate 2 500 parts of water, is poured onto substrined PETP film and dried. The layer formed has a thickness of 9 μπι. The material is processed according to Example 1. The energy required for imaging is 82OuJ / cm ² .

Claims

1. A photopolymerizable material consisting of a support at least one photosensitive layer containing monomers or oligomers, binders and a photoinitiator system, and optionally auxiliary layers, characterized in that the photosensitive layer is a bivalent water-soluble photoinitiator A / B, where A ι A an onium compound of the general formula On ⁺ X ^- , B is a water-soluble aromatic ketone or its vinylogous with easily oxidizable groups and X ^- an anion, wherein the layer constituents in the sum have an excess of basic groups contains.

2. Photopolymerizable material according to claim 1, characterized in that the onium prebinding A is an iodonium compound.

3. Photopolymerisable material according to claim 1 and 2, characterized in that A means Diphanyliodoniumhydrogensulfat.

4. Photopolymerisable material according to claim 1, characterized in that B means Michler's Ketondisulfonsftuie or salts thereof.