DD266670A1 - SINTER CERAMICS FOR HIGH-ACCURACY THERMISTORS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf Praezisionsthermistoren auf der Basis von Oxidhalbleitern mit geringen Zusaetzen, wodurch die Ausbildung eines einheitlichen, dichten Gefueges mit geringem Korngrenzwiderstand bei relativ niedriger Sintertemperatur erreicht wird. Derartige Thermistoren oder Heissleiter sind fuer eine breite Anwendung zur Messung von Temperaturen, Temperaturdifferenzen sowie zur Temperaturregelung, z. B. in der Lichtleiternachrichtenuebertragung geeignet. Durch Zusaetze soll ein einheitlich dichtes Gefuege der Sinterkeramik erzeugt und die bevorzugt im Zwischenkornbereich beim Abkuehlen bzw. unter Betriebsbedingungen ablaufenden Ausscheidungsprozesse kinetisch gehemmt werden. Erfindungsgemaess wird dies durch Zusaetze einer amorphen Phase, bestehend aus einer PbO/GeO2-Mischung und/oder BaO/WO3-Mischung erreicht.The present invention relates to low-ratio oxide semiconductor-based precision thermistors, thereby achieving the formation of a uniform, dense low grain boundary resistance fabric at a relatively low sintering temperature. Such thermistors or hot conductors are suitable for a wide range of applications for measuring temperatures, temperature differences and temperature control, for. B. suitable in the Lichtleiternachrichtenuebertragung. Additions are intended to produce a uniformly dense structure of the sintered ceramic and to inhibit kinetically the precipitation processes which preferably take place in the intergrain region during cooling or under operating conditions. According to the invention, this is achieved by adding an amorphous phase consisting of a PbO / GeO 2 mixture and / or BaO / WO 3 mixture.
Description
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung betrifft die Herstellung von Thermistoren auf der Basis geeigneter Oxidhalbleiter in Kombination mit geringen Zusätzen, wodurch die Ausbildung eines einheitlichen, dichten Gefüges mit geringem Korngrenzwiderstand bei relativ niedriger Sifitertemperatur erreicht wird. Derartige Thermistoren oder Heißleiter sind für eine breite Anwendung zur Messung von Temporaturen, Temperaturdifferenzen sowie zur Temperaturregelung z. B. in der Llchtlelternachrichtenübertragun^geolgnet.The invention relates to the production of thermistors based on suitable oxide semiconductors in combination with small additions, whereby the formation of a uniform, dense microstructure with low grain boundary resistance at a relatively low sifitertemperatur is achieved. Such thermistors or thermistors are for a wide application for the measurement of tempatures, temperature differences and temperature control z. For example, in the Oldtimer Messaging.
Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art
Bekannte technische Lösungen gehen von halbleitenden Oxiden der Übergangselemente und deren Kombinationen z, B. in Spinellen und Perowskiten aus.Known technical solutions are based on semiconducting oxides of the transition elements and their combinations z, B. in spinels and perovskites.
Dabei gelangen vielfach Mchrphasensysteme, z. B. Kobalt-Manganoxidsysteme (GB 1 226789, PL 48183) zur Anwendung, die durch weitere Komponenten wie Kupferoxid, Nickeloxid oder Lithiumoxid (GB 1 992491, US 3 219480) modifiziert werden. Auf der Basis derartiger mehrphasiger Systeme kann der Nennwiderstand H20 (elektrischer Widerstand des Thermistors bei T = 20"C) und die für die Empfindlichkeit der Temperaturmessung maßgebliche B-Konstante gemäß der BeziehungThis often reach Mchrphasensysteme, z. B. Cobalt Manganoxidsysteme (GB 1 226789, PL 48183) are used, which are modified by other components such as copper oxide, nickel oxide or lithium oxide (GB 1 992491, US 3 219480). On the basis of such multiphase systems, the nominal resistance H 20 (electrical resistance of the thermistor at T = 20 "C) and the relevant for the sensitivity of the temperature measurement B-constant according to the relationship
R 11R 11
_p(T) = J)0 exp γ =^2o exp ( γ - -^j-)_p (T) = J) 0 exp γ = ^ 2o exp ( γ - - ^ j-)
durch eine entsprochende Reaktionsführung im Sinterprozeß auf variable Werte eingestellt werden, so daß bei einem gegebenen Versatz die Produktion eines bestimmten Sortiments von Thermistoren möglich is.\ Diese Verfahrensweise schließt im allgemeinen eine beträchtliche Streubreite der Daten der Einzelexemplare und insbesondere von Charge zu Charge ein, da die den Thermistor kennzeichnenden elektrischen Parameter je nach dem erreichten Strukturgefüge der Keramik verschiedeno Werte annehmen. In der Regel werden Gleichgewichtszustände nicht erreicht, was eine mangelnde Reproduzierbarkeit und unzureichende Langzeitstabilität 2ur Folge hat. Ein hinreichend eng toleriertes Sortiment von Thermistoren verlangt daher verschiedene Formen thermischer und elektrischer Nachbehandlung sowie Klassieren und Vereinzeln als gesonderte Arbeitsschritte.be set to variable values by a corresponding reaction procedure in the sintering process, so that at a given offset, the production of a particular assortment of thermistors is possible. This procedure generally involves a considerable spread of the data of the individual specimens, and in particular from batch to batch the electrical parameters characterizing the thermistor assume different values depending on the structure structure of the ceramic obtained. As a rule, equilibrium states are not reached, which results in a lack of reproducibility and inadequate long-term stability. A sufficiently tightly tolerated assortment of thermistors therefore requires different forms of thermal and electrical aftertreatment as well as classifying and separating as separate working steps.
Es ist bekannt geworden, daß Thermistoren zum Beispiel auf dor Basis des Systems Nickeloxid-Manganoxid gefertigt werden (H. Walch, Siemens Zeitschrift 47 (1973] 65, Siemens-Datenbuch Heißleiter 1980/81). Für den Bereich dor Zusammensetzung 0<xi 1,275 ergibt sich eine weitgehend einheitliche Phase in Form von Nickel-Mangan-Spinell NxMn3^O4 mit einer zwischen χ = 0,45 und χ = 1,275 nur schwach zusammensetzungsabhängigon B-Konstanten, so daß die gewünschte relative Unempfindlichkeit gegenüber Schwankungen der Zusammensetzung erreicht wird. Die Führung des Sinterprozesses zur Thormistorfertigung hat die Gewährleistung einer einheitlichen Phaso bei weitgehender Vermeidung von Poren im Gefüge der Sinterkeramik zum Ziel,It has become known that thermistors are manufactured, for example, on the basis of the system of nickel oxide-manganese oxide (H. Walch, Siemens Zeitschrift 47 (1973) 65, Siemens-Datenbuch thermistor 1980/81), for the range of composition 0 <xi 1.275 results in a largely uniform phase in the form of nickel-manganese spinel N x Mn 3 ^ O 4 with a between χ = 0.45 and χ = 1.275 only weakly compositionally dependent B constants, so that the desired relative insensitivity to variations in the composition The goal of the sintering process for the fabrication of thormistors is to ensure a uniform phase while largely avoiding pores in the structure of the sintered ceramic,
Die hierzu erforderlichen Sintertemperaturen üborsteigen, bedingt durch die hohe Gitterenergie dos Nickel-Mangan-Spinells den gemäß des Phasendingramms von NiO-Mn2Oa-O2 (D. G. Wlckham, J. inorg. nucl. C'hem. 26 (1964) 1369) zulässigen Wert von 10000C. Oberhalb dieser Temperatur ist die angestrebte Einphasigkeit der Keramik nicht gegeben, da neben der Nickel-Mangan-Spinellphase auch NiO zunehmend mit der Temperatur in der Sinterkeramik vorliegt. Für Temperaturen unterhalb 11000C liefert der Sinterprozeß Keramikkörper mit einer uneinheitlichen Struktur, deren beträchtliche Porosität von Nachteil ist für einen einheitlichen Probenwldorstand. Entsprechend dem in jedem Probenkörper vorhandenen Anteil des Porenvolumens am Gesamtvolumen weisen die elektrischen Parameter derartiger Thermistoren eine mehr oder weniger große Schwankungsbrelte auf.Due to the high lattice energy of the nickel-manganese spinel, the sintering temperatures required for this purpose increase due to the phase bending of NiO-Mn 2 Oa-O 2 (DG Wlckham, J. inorg., Nucl. C'hem., 26 (1964) 1369). permissible value of 1000 ° C. Above this temperature, the aspired single-phase ceramic is not present since, in addition to the nickel-manganese spinel phase, NiO is increasingly present with the temperature in the sintered ceramic. For temperatures below 1100 ° C., the sintering process produces ceramic bodies with a nonuniform structure, the considerable porosity of which is disadvantageous for a uniform sample surface. According to the proportion of the pore volume in the total volume present in each sample body, the electrical parameters of such thermistors have a more or less large fluctuation angle.
Ein weiterer Nachteil ist, daß die thermodynamische Stabilität erst oberhalb 740°C gegeben ist. Boi Unterschreiten dieser Temperatur scheidet sich in den stark fehlgeordneten Anteilen im Zwlschenkornbereich und an der (bedingt durch das relativ große Porenvolumen) beträchtlichen inneren Oberfläche gemäß Phasendiagramm ein Gemisch von Q-Mn2O3 aus, wodurch dieAnother disadvantage is that the thermodynamic stability is given only above 740 ° C. Below this temperature, a mixture of Q-Mn 2 O 3 precipitates in the strongly disordered fractions in the mid grain area and in the considerable surface area (due to the relatively large pore volume) according to the phase diagram
-2- 26ΘΘ70-2- 26ΘΘ70
den Thermlsxor kennzeichnenden elektrischen Parameter in bezug auf ihre Stabilität und Reproduzierbarkeit nachteilig beeinflußt werden.thermal parameters characterizing the thermal expeller are adversely affected in terms of their stability and reproducibility.
Zur Verminderung dieser Schwankungen sind verschiedene Lösungen beschrieben worden. So wird durch Aufbringen einer Passivierungsschicht und anschließende künstliche Alterung der Anordnung eine Vorminderung der Streubreite und olne Erhöhung der Langzeitstabilität anpostrebt (DD 12b 530). Eine andere Lösungsvariante zur Verbesserung der Langzeltstabilltät Ist der Aufbau eines Systems überoinandorllegender, bezüglich ihrer elektrischen Eigenschaften stabiler dünner Schichton (DD 210779). Dom glelchon Ziel dor Verminderung fertigungsbedingter Parametortoleranzen dienen Lösungen, in denen die geometrischen Abmessungen dos Thermistors abgeglichen werden (Dc 2816003; DF 3029446).To reduce these fluctuations, various solutions have been described. Thus, by applying a passivation layer and subsequent artificial aging of the arrangement, a reduction of the spread and an increase in long-term stability are postulated (DD 12b 530). Another solution variant for improving the long-term stability is the construction of a system Überoinandorllegender, with respect to their electrical properties stable thin Schichton (DD 210779). Dom glelchon The aim of reducing production-related parameter tolerances is to provide solutions in which the geometrical dimensions of the thermistor are adjusted (Dc 2816003; DF 3029446).
Das Ziel der Erfindung bestaht darin, durch geeignete Zusätze ein einheitliches dichtes Gefüge der Sinterkeramik zu erzeugen und die bevorzugt im Zwif chenkornberelch beim Abkühlen bzw. unter Betriebsbedingungen ablaufenden Ausscheidungsprozosse kinetisch zu hemmen, um auf der Basis einer hochreproduzierbaren Struktur hochgenaue Thermistoren ru erhalten. ,The object of the invention is to produce by suitable additives a uniform dense structure of the sintered ceramic and kinetically inhibit the preferably in Zwif chenkornberelch during cooling or under operating conditions Ausscheidungsprozosse to get highly accurate thermistors based on a highly reproducible structure ru. .
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrundo, für den Anwendurgszweck als Thermistor geeignete Pulver den Oxldhalbloitern durch geringe Zusätze im tiereich von einigen zehntel bis einigen Prozent einer niedrig schmelzenden Oxidmischung, z.B. von BaO/WCMA) bzw. BaOZV2O6-(B) bzw. PbO/GeOj-Mlschungen (C), deren Zusammensetzung mit 0,25mol-% bzw. 0,35mol-% BaO bzw. 62,5 mol-% PbO ett a einem Eutektikum des jeweiligen binären Systems entsprich., bereits bei 11000C und darunter in eine hochdichto Sinterkeramik mit einem weitgehend einheitlichen Gofügo zu überführen, wobei die Zusätze im Zwischonkornöerelch weitgehend amorph vorliegen. Die boim Abkühlen oder bei der Einsatztemperatur der Thermistoren möglichen Ausscheidungen, wie sie im Fall des Nlckel-Mangan-Spinellsystems unterhalb 740°C potentiell möglich sind, werden durch diese amorphen Substanzteile kinetisch gehemmt bzw. sind auf Grund der stark verminderten Inneren Oberfläche weitgehend unterdrückt. Über die wesentliche Verbesserung der Reproduzierbarkeit der den Thermistor kennzeichnenden Eigenschaften (spezifische Leitfähigkeit und B-Konstanto) hinaus v/ird dadurch zugleich eine beträchtlich größere Stabilität in bezug aui das Alterungsverhalten erreicht.The invention is based on the object, for the purposes of use as a thermistor powder suitable Oxldhalbloitern by small additions tiereich in the range of tenth of a few percent to a few percent of a low-melting oxide mixture, eg BaO / WCMA) or BaOZV 2 O 6 - (B) or PbO / GeOj mixtures (C) whose composition corresponds to 0.25 mol% or 0.35 mol% BaO and 62.5 mol% PbO ett a eutectic of the respective binary system, already at 1100 0 C. and below into a high-density sintered ceramic with a largely uniform Gofugo to convert, the additives are largely amorphous in Zwischonkornöerelch. The boim cooling or at the operating temperature of the thermistors possible precipitations, as they are potentially possible in the case of Nlckel-manganese spinel below 740 ° C, are kinetically inhibited by these amorphous substance parts or are largely suppressed due to the greatly reduced inner surface. In addition to the substantial improvement of the reproducibility of the thermistor characterizing properties (specific conductivity and B-Konstanto) in addition a considerably greater stability with respect to the aging behavior is achieved at the same time.
Erfindungsgomöß wird durch Zusätze eint' «««* . μηβη Phase, bestehend aus einer PbO/GeO2-Mischung und/oder Ba0/WO3-Mischung ein dichtes Gefüge erhöhter Einheitlichkeit erhalten. Bei einer Sinterkeramik auf der Basis des Systeme Nickeloxid-Manganoxid bspw. erfolgt die Realisierung, indem durch thermische Zersetzung der Mischung von Nlckelcarbonat/ Mangancarbonat bei 6000C erhaltene Gemisch ΝΙΟ/α-Μη2Ο3 bzw. der durch thormische Zersetzung von Nlckel-Manganoxalatmischkristallen an der Luft bereits bei 35O0C erhaltene Spinell NIxM-I3^O11 entsprechend der Zusammensetzung 0<xS 1,275 mit einem Zusatz von etwa 1 mol-%Inventions are combined by additions. μηβη phase, consisting of a PbO / GeO 2 mixture and / or Ba0 / WO 3 mixture obtained a dense structure of increased uniformity. In a sintered ceramic based on the systems nickel oxide-manganese oxide, for example, the realization is carried out by by thermal decomposition of the mixture of Nlckelcarbonat / manganese carbonate at 600 0 C obtained mixture ΝΙΟ / α-Μη 2 Ο 3 or the by theoretical decomposition of Nlckel Manganese oxalate mixed crystals in the air already at 35O 0 C obtained spinel NI x MI 3 ^ O 11 corresponding to the composition 0 <xS 1.275 with an addition of about 1 mol%
(BaO)0.25 (WO3WA) bzw(BaO) 0 . 25 (WO 3 WA) or
V2O6Wb (B) bzwV 2 O 6 Wb (B) resp
0^6 (Ge02)o,376 (C) 0 ^ 6 (Ge0 2 ) o, 376 (C)
versetzt wird. Die Zusätze (A) und (C) sind hierbei ei iirm'u-ngsgemäß, der Zusatz (B) hingegen wird von der Erfindung nicht erfaßt. Dabei gibt 1 mol-% den Anteil dor Kationen von (A), (B) oder (C) bezogen aut die drei Kationen des Spinells an. Nach dom Mischen in einem wäßrigen Schlicker, Trocknen und Pressen wird im Fall des Zusatzes (C) durch Sintern bei einer Temperatur = 11000C eine Keramik mit stark verhinderter Porosität, d. h. dichtem Gefüge und erhöhter Einheitlichkeit erhalten, deren Thermistoreigonschafton durch eine stark verbesserte Reproduzierbarkeit und erhöhte Stabilität in bezug auf das Alterungsverhalten gekennzeichnet ist. Durch den Zusatz (A) wird gegenüber dem reinen Nickel-Manganoxldgemisch eine signifikante Verbesserung erreicht, durch den nicht erfindungsgemäßen Zusatz (B) jedoch eine Verschlechterung hervorgerufen.is offset. The additives (A) and (C) are in this case in accordance with the invention, while the additive (B) is not covered by the invention. In this case, 1 mol% indicates the proportion of cations of (A), (B) or (C) relative to the three cations of the spinel. After dom mixing in an aqueous slurry, drying and pressing in the case of the additive (C) by sintering at a temperature = 1100 0 C, a ceramic with greatly inhibited porosity, ie dense structure and increased uniformity obtained whose Thermistoreigonschafton by a greatly improved reproducibility and increased stability in terms of aging behavior is characterized. The addition (A) is compared to the pure nickel Manganoxldgemisch achieved a significant improvement, caused by the noninventive additive (B), however, a deterioration.
In der Tabelle 1 sind Beispiele der erfindungsgemäßen hochdichten Sinterkeramikkörper für hochgenaue Thermistoren unter Nr.4,6.1. und 6.2. zusammen mit Versätzen angegeben, die die erfindungsgemäßen Thermietoreigenschaftöri nicht aufweisen.In Table 1 are examples of the high-density sintered ceramic body according to the invention for high-precision thermistors under No. 4.6.1. and 6.2. indicated together with offsets, which do not have the Thermietoreigenschaftöri invention.
Tabelle 1: Zusammensetzung und Eigenschaften von zylindrischen Sinterkoramikkörpern mit einem Durchmesser von 4,0 bis 4,8mm und einer Höhe von 1,6 bis 2,0mmTable 1: Composition and properties of cylindrical sintered ceramic bodies with a diameter of 4.0 to 4.8 mm and a height of 1.6 to 2.0 mm
Kr. ZusammensetzungKr. Composition
Ni,Mn3.xO4 Ni, Mn 3 . x O 4
100100
j)20j) 20
ΩαηΩαη
J_J_
1,0001,000
χ =1,000 8=1,033 χ = 0,983χ = 1.000 8 = 1.033 χ = 0.983
8 = 1,000 1 mol-% Zusatz (A)8 = 1.000 1 mol% additive (A)
χ =1,000 1 mol-% Zusatz (B)χ = 1.000 1 mol% additive (B)
x = 1,000 1 mol-% Zusatz (C)x = 1.000 1 mol% additive (C)
χ =1,000 1 mol-% Zusatz (C)χ = 1.000 1 mol% additive (C)
88,6%88.6%
80,1 %80.1%
72,2%72.2%
67,5%67.5%
82,4%82.4%
90,0%90.0%
97,9%97.9%
97,6%97.6%
6160 3090 6 7766160 3090 6 776
6166 5023 5 0936166 5023 5 093
5 702 69665,702,669
6 5016 501
7 345 4656 74827 345 4656 7482
7145 6699 63837145 6699 6383
21677 28510 2533521677 28510 25335
2366 2399 23882366 2399 2388
2163 2193 21532163 2193 2153
±1501± 1501
±492± 492
390 ±458390 ± 458
6494+12266494 + 1226
742 ±268742 ± 268
274 ±2 331274 ± 2 331
2384±122384 ± 12
2170± 162170 ± 16
3 852 3836 3 8383 852 3836 3 838
3974 3928 390D3974 3928 390D
3845 3859 3 8503845 3859 3 850
3847 3822 37713847 3822 3771
3838 3833 J 799 ,3838 3833 J 799,
4064 '4064 '
40684068
40894089
3836 3834 38343836 3834 3834
3804 3806 38043804 3806 3804
3842 ±73842 ± 7
3 936 ±223 936 ± 22
3851 ±53851 ± 5
3813±293813 ± 29
3 823 ±163 823 ± 16
4074 ±104074 ± 10
3835 ±13835 ± 1
3805 ±13805 ± 1
Claims (3)
80bis65mol-%WO3.3. sintered ceramic for high-precision thermistors according to claim 1, characterized in that the additives are partially or completely replaced by a mixture consisting of 20 to 35mol% BaO j .d
80 to 65 mol% WO 3 .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD31061687A DD266670A1 (en) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | SINTER CERAMICS FOR HIGH-ACCURACY THERMISTORS |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
DD31061687A DD266670A1 (en) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | SINTER CERAMICS FOR HIGH-ACCURACY THERMISTORS |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD266670A1 true DD266670A1 (en) | 1989-04-05 |
Family
ID=5595217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD31061687A DD266670A1 (en) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | SINTER CERAMICS FOR HIGH-ACCURACY THERMISTORS |
Country Status (1)
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DD (1) | DD266670A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8366972B2 (en) | 2007-04-13 | 2013-02-05 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Material for protective coatings on high temperature-resistant chromium oxide-forming substrates, method for the production thereof, and use thereof |
-
1987
- 1987-12-17 DD DD31061687A patent/DD266670A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8366972B2 (en) | 2007-04-13 | 2013-02-05 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Material for protective coatings on high temperature-resistant chromium oxide-forming substrates, method for the production thereof, and use thereof |
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Legal Events
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