DD263836A1 - MILL LINE - NARROW BAND FILTER - Google Patents
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Abstract
Das Mehrlinien-Schmalbandpassfilter dient hauptsaechlich der Selektierung mehrerer begrenzter Wellenlaengenbereiche. Es weist mehrere, symmetrisch um die Filterschwerpunktwellenlaenge l0 gelegene Passbaender auf, die eine vorgegebene Transmission besitzen. Das erfindungsgemaesse Filter besteht aus einem symmetrischen Interferenzschichtsystem, dass aus mehreren asymmetrischen Cavity-Filterschichtgruppen aufgebaut ist. Dabei sind im gleichen Abstand zur geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems Profilschichten vorhanden, die unterschiedlich monotone mathematische Funktionen approximieren, die bzgl. der geometrischen Mitte entweder beide ansteigen oder abfallen.The multi-line narrowband pass filter is primarily used to select multiple limited wavelength ranges. It has a plurality of fitting ribs which are symmetrical about the filter center-line wavelength l0 and have a predetermined transmission. The filter according to the invention consists of a symmetrical interference layer system that is composed of several asymmetric cavity filter layer groups. At the same distance from the geometric center of the interference layer system, there are profile layers which approximate differently monotonous mathematical functions which either increase or decrease with respect to the geometric center.
Description
Das Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter ist in optischen Anordnungen und Geräten anwendbar, in denen im ultravioletten, visuellen oder infraroten Spektralbereich eine Selektierung begrenzter Wellenlängetibereiche bzw. monochromatisierende Elemente erforderlich sind. Mehrlinienfilter sind insbesondere für die gleichzeitige Erfassung mehrerer Spektralintervalle von Interesse und finden beispielsweise in der Phctometrie, der Plasmadiagnostik, der Astrophysik sowie in der Signal- und Bildverarbeitung Anwendung.The multi-line narrowband pass filter is applicable in optical arrangements and devices in which limited wavelength ranges or monochromatizing elements are required in the ultraviolet, visual or infrared spectral range. Multi-line filters are of particular interest for the simultaneous detection of several spectral intervals and are used, for example, in phytometry, plasma diagnostics, astrophysics and in signal and image processing.
Interferenzschichtfilter haben eine herausragende Bedeutung bei der Spektralselektion von Licht erlangt, da sie eine hohe Flexibilität und Qualität bei der Erzeugung gewünschter optischer Eigenschaften gestatten und eine hohe Resistenz gegenüber äußeren Einflüssen besitzen.Interference layer filters have gained outstanding importance in the spectral selection of light because they allow high flexibility and quality in the generation of desired optical properties and have a high resistance to external influences.
Die einfachsten Filter dieser Gruppen sind Metallinterferenzfilter, die auf dem Prinzip des FABRY-PEROT-Interferometers beruhen.The simplest filters of these groups are metal interference filters based on the principle of the FABRY-PEROT interferometer.
Ein Hauptmangel dieser Filter besteht in der Anwendung von Metallschichten, die die Transmission stark herabsetzen. Diese Nachteile vermeiden Cavity-Filter, bei denen eine dielektrische λ/2-Abstandsschicht (Cavity) mit einer optischen Schichtdicke, die ein ganzzahiiges Vielfaches der halben Filterschwerpunktwellenlänge A0 beträgt, von Reflektoren aus dielektrischen Wechselschichtsyotemen symmetrisch eingeschlossen wird. Zur Gestaltung bestimmter Filterdesigns wurden mehrere symmetrische Cavity-Filterschichtgruppen unter Vermittlung von Zwischenschichten gekoppelt (z.B. in „Optics of Thin Films" von Z. Knittl, John Wiley and Sons, London-New York, 1976). Die Verwendung verschiedener Filtergruppendesigns sowie Arten und Breiten der Cavities wurden in der DE-OS 3401014 zur Verbesserung von Filtereigenschaften ν orgeschlagen. Nichtsymmetrische Systeme dieser Art sind in der Beschreibung der Patentschrift GB 1270042 aufgeführt. Zur Steigerung der Transmission der Paßbandbereiche wird im WP G 02 B/302 2281 vorgeschlagen, innerhalb der Cavity-Filterschichtgruppen, vorzugsweise anstelle einer Cavity-Schicht, eine brechzahlinhomogene Schicht einzusetzen.A major shortcoming of these filters is the use of metal layers that greatly reduce transmission. Is where a dielectric λ / 2 spacer layer (cavity), symmetrically enclosed with an optical layer thickness which is a ganzzahiiges multiple of half the filter center wavelength A 0 of reflectors made of dielectric Wechselschichtsyotemen avoid these disadvantages cavity filter. To design certain filter designs, several symmetric cavity filter layer groups have been coupled through intermediary layers (eg, in "Optics of Thin Films" by Z. Knittl, John Wiley and Sons, London-New York, 1976) .The use of various filter group designs as well as styles and widths The non-symmetrical systems of this type are listed in the specification of patent specification GB 1270042. In order to increase the transmission of the passband ranges, it is proposed in WP G 02 B / 302 2281, within the cavity Filter layer groups, preferably instead of a cavity layer to use a Brechzahlinhomogene layer.
Die oben angeführten Lösungen zeigen jedoch lediglich die Möglichkeit, die Transmission von Bandpaßfiltern zu verbessern und störende Bandenstrukturen zu beseitigen. Sie sind für Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter aber nicht ausreichend, da unterschiedlichste spektrale Lagen und Transmissionsgrade von Paßbändern gefordert sind. Eine weitere Grenze haben die oben genannten Lösungen durch die Transmissionsbedingung der FABRY-PEROT-Filter, die ebenso auf die Cavity-Filter anwendbar ist.:The abovementioned solutions, however, merely show the possibility of improving the transmission of bandpass filters and eliminating disruptive band structures. However, they are not sufficient for multi-line narrow-band pass filters since the most varied spectral positions and transmittances of pass bands are required. Another limit of the above-mentioned solutions is the transmission condition of the FABRY-PEROT filter, which is equally applicable to the cavity filters.
2n-n-dcos9 0, + 0b 2n-n-dcos9 0, + 0 b
mn —mn -
λ 2λ 2
mit dem Einfallswinkel Θ, der Lichtwellenlänge λ, den Phasenänderungen an den beiden Grenzflächen der Abstandsschicht (bzw. Cavity) 0a und 0b der Ordnungszahl m = 0, ±1, ±2, ±3,... sowie der Dicke d und der Brechzahl η der Abstandsschicht.with the angle of incidence Θ, the light wavelength λ, the phase changes at the two boundary surfaces of the spacer layer (or cavity) 0 a and 0 b of the atomic number m = 0, ± 1, ± 2, ± 3, ... and the thickness d and the refractive index η of the spacer layer.
Auf Grund dieser Bedingung besitzen die Filter außer bei der Filterschwerpunktwellenlänge A0 noch weitere fjurchlässigkeitsmaxima, die in ihrer spektralen Lage an gonzzahlige Teile von A0 gebunden sind.Due to this condition, the filters have, in addition to the filter centroid wavelength A 0, even more imperfect maxima, which are bound in their spectral position to gonzzahlige parts of A 0 .
Die Realisierung von eng benachbarten Transmissionsbanden ist aufgrund der hohen Sperrung in den Seitenbereichen nicht möglich.The realization of closely adjacent transmission bands is not possible due to the high blocking in the side areas.
Zur Erzeugung von Zweilinienfiltern geben I.F.Hodgkinson, F.Hovowitz, H.A. Macleod, M.Sikkensund J.J.Whartonin „Birefringence in optical coatings" J.Opt.Soc.Am. Vol.73 No. 12 (1983) 1871 an, daß in einem üirkondioxid und Siliziumdioxid für X0 = 627,8nm aufgebauten Cavity-Filter mit der Struktur:For the production of two-line filters, IFHodgkinson, F.Hovowitz, HA Macleod, M.Sikkens and JJWhartonin "Birefringence in optical coatings" J.Opt.Soc.Am.Vol.73 No. 12 (1983) 1871 states that in a üirkondioxid and silicon dioxide for X 0 = 627.8 nm constructed cavity filter with the structure:
Substrat-fHL^HHHfLH)3-^Substrate-fHL ^ HHHfLH) 3 - ^
(wobei H eine hochbrechende, L eine niedrig brechende Schicht mit einer optischen Schichtdicke von A0M ist) nach einem speziellen Verfahren erzeugtes doppelbrechendes Zirkondioxid als Cavity-Material verwendet wird.(where H is a high refractive index, L is a low refractive index layer having an optical layer thickness of A 0 M), birefringent zirconia produced by a specific method is used as a cavity material.
Der dadurch entstehende Doppelpeak zeigt jedoch nur eine geringe Sperrung zwischen den benachbarten Transmissionsmaxima. Diese Methode gestattet prinzipiell nur die Erzeugung von Zweil. lienfiltern mit geringen Möglichkeiten zur Veränderung der Paßbänder sowie daran Transmission. Sie sind außerdem technologisch aufwendig und nicht für beliebige Materialiet geeingnet.However, the resulting double peak shows only a small blocking between the adjacent transmission maxima. In principle, this method only allows the generation of two. lienfiltern with little opportunity to change the tapes and this transmission. They are also technologically complex and not geeingnet for any Materialiet.
In einer weiteren Lösung werden unmittelbar benachbarte Paßbänder im fernen infraroten Spektralbereich durch fotolithografisch hergestellte Metallmaschenstrukturen beiderseits der Abstandsschicht eines FABRY-PEROT-Filters erzeugt. Die optischen Eigenschaften sind durch die Metallstruktur einstellbar (D. D. Nolte, A. E. Lange, P. L. Richards in „For infrared dichroic bandpassfilters" Appl. Opt. Vol. 24 No. 10 (1985) 1541). Derartige Filter sind jedoh auf Anwendungen im fernen Infrarotspektralbereich beschränkt.In another solution, immediately adjacent passbands in the far infrared spectral range are produced by photolithographically produced metal mesh structures on either side of the spacer layer of a FABRY-PEROT filter. The optical properties are adjustable by the metal structure (DD Nolte, AE Lange, PL Richards in "For infrared dichroic bandpassfilters" Appl., Opt., Vol., 24, No. 10 (1985) 1541.) Such filters, however, are limited to applications in the far infrared spectral range ,
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziei der Erfindung sind auf einfache Weise, vorzugsweise mittels bekannter Beschichtungsverfahren herstellbare Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter mit verbesserten optischen Eigenschaften.Ziei of the invention are in a simple manner, preferably by means of known coating method producible multiline narrow bandpass filter with improved optical properties.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Aufgabe der Erfindung ist ein Mehrlinienschmalbandpaßfilter, dessen bzgl. der Schwerpunktwellenlänge A0 symmetrisch angeordneten Paßbänder eine vorgegebene Transmission aufweisen.The object of the invention is a multi-line narrow band pass filter whose. With respect to the centroid wavelength A 0 symmetrically arranged pass bands have a predetermined transmission.
Dio Aufgabe wird mit einem Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter, bestehend aus einem Interferenzschichtsystem, das aus mittels Zwischenschichten gekoppelten Cavity-Filterschichtgruppen aufgebaut ist, wobei mindestens eine Schicht der Filterschichtgruppen als Profilschicht mit einem variablen Brechzahlverlauf senkrecht zur Substratoberfläche ausgebildet ist, dadurch gelöst, daß das Interferenzschichtsystem symmetrisch aus asymmetrischen Cavity-Filterschichtgruppen aufgebaut ist und mindestens ein Paar Profilschichten enthält, wobei die Schichten eines Paares den gleichen Abstand zur geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems aufweisen und deren Brachzahlverläufe entweder voneinander verschiedene stetige monoton steigende oder voneinander verschiedene stetige monoton fallende mathematische Funktionen bzgl. der geometrischen Mitte approximieren.Dio object is achieved with a multi-line narrow bandpass filter, consisting of an interference layer system, which is constructed of interlayer coupled cavity filter layer groups, wherein at least one layer of the filter layer groups is formed as a profile layer with a variable refractive index perpendicular to the substrate surface, achieved in that the interference layer system symmetrical is constructed of asymmetric cavity filter layer groups and contains at least one pair of profile layers, wherein the layers of a pair have the same distance to the geometric center of the interference layer system and their Brachzahlverläufe either mutually different continuous monotonically increasing or mutually different continuous monotonically falling mathematical functions with respect to the geometric center approximate.
Durch die Anzahl der Cavity-Filterschichtgruppen wird die Anzahl der Paßbänder eines Filters bestimmt. Dabei hat eine Cavity-Filterschichtgruppe folgenden allgemeinen Aufbau:The number of cavity filter layer groups determines the number of passbands of a filter. A cavity filter layer group has the following general structure:
H (LH)k 2 mL (HL)1 H bzw. (HL)k 2 mH (LH)1 H (LH) k 2 mL (HL) 1 H or (HL) k 2 mH (LH) 1
mit frei wählbaren k, I = 0,1,2,...undm = 1,2,3,. ..,wobei H eine hochbrechende und L eine niedrigbrechende Schicht mit der optischen Schichtdicke von 1A der Filterschwerpunktwellenlänge A0 ist. Durch die Wahl von k, I und m ist die spektrale Lage der Paßbänder bestimmt. Die Transmission der einzelnen Paßbänder ist durch die mathematische Funktion des Brechzahlverlaufes und die Lage der Profilschichten im Schichtsystem bestimmt. Unter Zuhilfenahme rechentechnischer Mittel ist dabei auf der Grundlage der erfindungsgemäßen Lösung eine Schichtsystemmodellierung zur Anpassung an konkrete Zielstellungen leicht möglich.with freely selectable k, I = 0,1,2, ... andm = 1,2,3 ,. .., where H is a high refractive index and L is a low refractive index layer with the optical layer thickness of 1 A of the filter centroid wavelength A 0 . The choice of k, I and m determines the spectral position of the passbands. The transmission of the individual pass bands is determined by the mathematical function of the refractive index profile and the position of the profile layers in the layer system. With the aid of computational means, a layer system modeling to adapt to specific objectives is easily possible on the basis of the solution according to the invention.
Flexible Möglichkeiten bietet dabei die Anwendung von hyperbolischen, exponentiell, linearen, quintischen, sinusoidalen und Wurzelfunktionen. Die technische Realisierung der Profilschichten kann dabei durch gesteuerte Simultan- oder Quasisimultanaufdampfbeschichtungsprozesse oder durch Approximation mittels brechzahlhomogener Einfachschichten, beispielsweise auf der Grundlage gestaffelter Brechzahlen oder Äquivalentschichten erfolgen.Flexible options are the application of hyperbolic, exponential, linear, quintic, sinusoidal and root functions. The technical realization of the profile layers can be effected by controlled simultaneous or quasi-simultaneous vapor deposition processes or by approximation by means of single-value non-uniform layers, for example on the basis of staggered refractive indices or equivalent layers.
Die auf der Grundlage der erfindungsgemäßen Lösung realisierbaren Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter erlauben eng nebeneinanderlegende Paßbänder mit einer guten Sperrung zwischen den Bändern. Die Paßbänder sind symmetrisch um die Filterschwerpunktwellenlänge Ao gruppiert und bzgl. der Transmission über weite Bereiche mit oinem breiten Spektrum von Relationen zueinander gestaltbar. Dadurch ergibt sich eine hohe Flexibilität hinsichtlich der Anpassung des Designs an konkrete Aufgabenstellungen.The realizable on the basis of the inventive solution multi-line narrow bandpass filter allow close juxtaposed pass bands with a good blocking between the bands. The passbands are symmetrically grouped around the filter centroid wavelength Ao and can be designed with respect to the transmission over large areas with a wide range of relations to one another. This results in a high degree of flexibility with regard to the adaptation of the design to specific tasks.
Das erfindungsgemäße Interferenzschichtsystem ist wenig empfindlich gegenüber fertigungstechnisch bedingter Toleranzen.The interference layer system according to the invention is not very sensitive to production-related tolerances.
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung soll anhand eines Ausführungjbeispieles für ein Mehrlinien-Schmalbandpaßfilter mit drei symmetrisch bzgl. einer Filterschwerpunktwellenlänge λ« angeordneten Paßbändern mit vorgebbarem Transmissionsgrad näher erläutert werden. Es zeigen dazu Fig. 1 und Fig. 2:The invention will be explained in more detail with reference to a Ausführungsjbeispieles for a multi-line narrow bandpass filter with three symmetrically with respect. A filter center wavelength λ "arranged Paßbändern with specifiable transmittance. FIG. 1 and FIG. 2 show:
Die Transmission eines erfindungsgemäßen Mehrlinien-Schmalbandpaßfilters.The transmission of a multi-line narrow bandpass filter according to the invention.
In einem speziellen Anwendungsfall sollen die drei Paßbänder mit steigender Lichtwellenlänge abgestufte Transmissionsgrede von ~ 20%, ~ 60% und ~ 90% besitzen, wobei sich die beide.i Seitenbänder im gleichen Abstand von der Filterschwerpunktwellenlänge λο befinden sollen und die Sperrung zwischen den Bändern < 1CT3 betragen sollen. Zur Realisierung des erfindungsgemäßen Filters wird ausgehend von einer asymmetrischen Cavity-Filterschichtgi uppe c'es Typs H (LH)" 2 ml (HL)1H mit frei wählbaren k, I = 0,1,2,... und m = 1,2,3,... aus drei Filterschichtgruppen H (LH)2 LL (HL)0H, H (LH)1LL (HL)1H, H (LH)0LL (HL)2H aufgebaut, die mittels einer Schicht L gekoppelt sind. L und H sind dabei Einfachschichten mit einer optischen Schichtdicke von 1A der Filterschwerpunktwellenlänge A0 und den Brechzahlen n, = 1,35 (Thoriumf luorid) und nH = 4,2 (Germanium). Dieses Schichtsy3tem i..t auf einem Substrat S (Germanium) angeordnet und grenzt an das Außenmedium Luft.In a particular application, the three passbands should have graduated transmission magnitudes of ~ 20%, ~ 60%, and ~ 90% with increasing wavelength of light, with the two sidebands being at the same distance from the filter centroid wavelength λ o and the barrier between the bands 1CT 3 should be. For the realization of the filter according to the invention, starting from an asymmetric cavity filter layer type H (LH) "2 ml (HL) 1 H with freely selectable k, I = 0,1,2, ... and m = 1 , 2,3, ... from three filter layer groups H (LH) 2 LL (HL) 0 H, H (LH) 1 LL (HL) 1 H, H (LH) 0 LL (HL) 2 H constructed by means of L and H are single layers with an optical layer thickness of 1 A of the filter center wavelength A 0 and the refractive indices n, = 1.35 (thorium fluoride) and n H = 4.2 (germanium) .. t arranged on a substrate S (germanium) and adjacent to the external medium air.
Symbolisch kann dieses Schichtsystem folgendermaßen dargestellt werden: S - HLHLHL L HLHLHL L HLHLHL L HLHLH -1Symbolically, this layer system can be represented as follows: S - HLHLHLHLHLHLHLHLHLHLHLHLHH -1
Die Transmission dieser Schichtanordnung ist in Fig. 1 mit Kvt ve A dargestellt und beträgt ohne Berücksichtigung der Substr&trückfläche für alle drei Bänder 0,64 bei einer Inzidenz von 1.The transmission of this layer arrangement is shown in FIG. 1 as Kvt ve A and amounts to 0.64 at an incidence of 1 without consideration of the substrate surface for all three bands.
Zur Beeinflussung der Transmission der einzelnen Paßbänder bei Wahrung der symmetrischen Lage der Seitenbänder werden erfindungsgemäß mindestens zwei, in gleichem Abstand von der geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems befindliche Schichten, die voizugsweise Cavities sind, durch Profilschichten ersetzt, die einen Brechzahlverlauf n(z) zwischen nL und nH aufweisen und beliebige stetige und monotone mathematische Funktionen approximieren. Diese brechzahlinhomogenen Profilschichten müssen zur Gewährleistung der symmetrischen Lage der Seitenbänder und Beeinflußbarkeit der Transmission der einzelnen Paßbänder notwendigerweise unterschiedliche Blechzahlverläufe n(z) aufweisen und so angeordnet sein, daß die Brechzahlverläufe n(z) zur geometrischen Mitte des interferenzschichtsystems entweder ansteigen oder abfallen. Im gegebenen Falle wird die substratseitige LL-Abstandsschicht (Cavity-Schlcht) durch eine Profilschicht mit einem hyperbolischen Brechzahlverlauf n(z) über die Dicke der LL-Abstandsschlcht gemäß:In order to influence the transmission of the individual pass bands while maintaining the symmetrical position of the sidebands, according to the invention at least two layers located equidistant from the geometrical center of the interference layer system, which are preferably cavities, are replaced by profile layers having a refractive index progression n (z) between n L and n have H and approximate any continuous and monotonous mathematical functions. These refractive index inhomogeneous profile layers must to ensure the symmetrical position of the sidebands and influencing the transmission of the individual passbands necessarily different Blechzahlverläufe n (z) and be arranged so that the Brechzahlverläufe n (z) to the geometric center of the interference layer system either rise or fall. In the given case, the substrate-side LL spacer layer (Cavity-Schlcht) is formed by a profile layer having a hyperbolic refractive index profile n (z) across the thickness of the LL spacer plane according to:
n(z) = π^η/Ιπη + In1 - nH) z/d)n (z) = π ^ η / ηπη + In 1 -n H ) z / d)
so ersetzt, daß n(z) zur geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems hin ansteigt.is replaced so that n (z) rises toward the geometric center of the interference layer system.
n(z) = nL.(n„/nL)I/d n (z) = n L. (n "/ n L ) I / d
zur geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems aufweist, ersetzt.to the geometric center of the interference layer system has replaced.
d von λο/2 ergibt.d of λο / 2.
mit einem Anstieg beider Brechzahlverläufe n(z) zur mittleren LL-Abstandsschicht hin. Wie aus der in Fig. 1 mit Kurve Bdargestellten Transmission dieses Schichtsystems in das Substrat hinein ersichtlich ist, erfüllt dieses Schientdesign die in derspeziellen Ausfuhrungsform geforderten optischen Eigenschaften.with an increase in both refractive index curves n (z) towards the mean LL spacer layer. As can be seen from the transmission of this layer system into the substrate represented in FIG. 1 by curve B, this rail design fulfills the optical properties required in the specific embodiment.
weitgehender Wahrung der geforderten optischen Eigenschaften lassen sich durch einfachen Platztausch der Profilschichtpngemäß:extensive preservation of the required optical properties can be achieved by simple exchange of the profile layer according to the following:
erreichen, wobei beide Brechzahlverläufe n(z) wiederum zur LL-Schicht hin ansteigen. Fig. 2 zeigt die Transmission einesderartigen Filterdesigns ohne Berücksichtigung des Substratrückflächenreflexes.reach, wherein both refractive index profiles n (z) in turn increase to the LL layer. Figure 2 shows the transmission of such a filter design without regard to the substrate back surface reflection.
bestimmt. Die Zahl der Paßbünder wurde dabei durch die Anzahl der gekoppelten Filterschichtgruppen festgelegt. Diecertainly. The number of Paßbünder was determined by the number of coupled filter layer groups. The
ihren prinzipiellen Verlauf zur geometrischen Mitte des Interferenzschichtsystems (Anstieg oder Abfall) variabel gestaltetwerden.their principal course to the geometric center of the interference layer system (rise or fall) are made variable.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD30468487A DD263836A1 (en) | 1987-07-06 | 1987-07-06 | MILL LINE - NARROW BAND FILTER |
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Publications (1)
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DD263836A1 true DD263836A1 (en) | 1989-01-11 |
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ID=5590520
Family Applications (1)
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DD30468487A DD263836A1 (en) | 1987-07-06 | 1987-07-06 | MILL LINE - NARROW BAND FILTER |
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DD (1) | DD263836A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4444786A1 (en) * | 1994-12-15 | 1996-06-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Interference bandpass cavity filter |
-
1987
- 1987-07-06 DD DD30468487A patent/DD263836A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4444786A1 (en) * | 1994-12-15 | 1996-06-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Interference bandpass cavity filter |
DE4444786C2 (en) * | 1994-12-15 | 1998-04-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Interference bandpass filter |
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