DD259473A1 - POSITIVE PHOTO COPIER LACQUER WITH IMPROVED APPLICATION CHARACTERISTICS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft Positiv-Fotokopierlacke mit verbesserten Anwendungseigenschaften auf der Basis von Novolaken und 5,6-Naphthochinon-6-diazid-sulfon-saeurearylestern. Ziel der Erfindung ist ein Positiv-Fotokopierlack, der verbesserte fotolithografische Eigenschaften, insbesondere hoehere Lichtempfindlichkeit und Alkalistabilitaet, aufweist. Erfindungsgemaess werden als 5,6-Naphthochinon-6-diazid-sulfonsaeurearylester 3,4,5-Tris-(5,6-naphthochinon-6-diazid-sulfonyloxy(-benzoesaeurealkylester mit 95C Gehalt an Trisester und einer Alkylgruppe mit 1-8 C-Atomen verwendet, die nach dem Phasentransfer-Verfahren mit 1,2 bis 1,6 Mol (bezogen auf 5,6-Naphthochinon-6-diazid-sulfochlorid) eines Gemisches aus 10 bis 60 Gew.-% Natriumcarbonat-Dekahydrat und 90 bis 40 Gew.-% wasserfreiem Natriumcarbonat als Protonenfaenger hergestellt werden.The invention relates to positive photocopiers having improved application properties based on novolaks and 5,6-naphthoquinone-6-diazide-sulfone-saeurearylestern. The aim of the invention is a positive photocopy lacquer which has improved photolithographic properties, in particular higher photosensitivity and alkali stability. According to the invention are as 5,6-naphthoquinone-6-diazide-sulfonsaeurearyl 3,4,5-tris (5,6-naphthoquinone-6-diazide-sulfonyloxy (-benzoesaeurealkylester with 95C content of trisester and an alkyl group with 1-8 C -Atomen used according to the phase transfer method with 1.2 to 1.6 moles (based on 5,6-naphthoquinone-6-diazide-sulfochloride) of a mixture of 10 to 60 wt .-% sodium carbonate decahydrate and 90 to 40 wt .-% of anhydrous sodium carbonate are prepared as Protonenfaenger.
Description
Die Erfindung betrifft Positiv-Fotokopierlacke mit verbesserten Anwendungseigenschaften, insbesondere gesteigerter Lichtempfindlichkeit und erhöhter Resistenz gegenüber alkischen Entwicklerlösungen, auf der Basis von Novolaken und 5,6-Naphthochinon-6-diazid-sulfonsäurearylestern.The invention relates to positive photocopiers having improved application properties, in particular increased photosensitivity and increased resistance to alkaline developer solutions based on novolaks and 5,6-naphthoquinone-6-diazide-sulfonsäurearylestern.
Die Anwendungseigenschaften eines Positiv-Fotokopierlackes werden im wesentlichen von seinen Hauptbestandteilen — dem Bindemittel und der lichtempfindlichen Komponente—bestimmt. Dabei werden als lichtempfindliche Komponenten bevorzugt Ester der ö^-Naphthochinon-e-diazid-sulfonsäuren (1-Oxo-2-diazonaphthen-sulfonsäuren) mit Polyhydroxyarenen eingesetzt (z. B. DE-PS 938233,1118606,11 20237, DE-OS 1904764; vgl. auch: Light-sensitive-Systems/Kosar, J. — New York 1965, S. 343-351). Die Herstellung dieser Substanzen erfolgt durch Umsetzung der entsprechenden Naphthochinondiazidsulfochloride mit geeigneten Polyhydroxyarenen.The application properties of a positive photocopying varnish are determined essentially by its main components - the binder and the photosensitive component. In this case, esters of δ-naphthoquinone-e-diazide-sulfonic acids (1-oxo-2-diazonaphthalenesulfonic acids) with polyhydroxyarenes are preferably used as photosensitive components (eg DE-PS 938233,1118606, 1120237, DE-OS 1904764, see also: Light-sensitive Systems / Kosar, J. - New York 1965, pp. 343-351). The preparation of these substances is carried out by reacting the corresponding Naphthochinondiazidsulfochloride with suitable Polyhydroxyarenen.
Obwohl die Verwendung von Naphthochinondiazid-sulfonsäureestern in Positiv-Fotokopierlacken bereits seit Jahren bekannt ist, werden in der Patentliteratur immer wieder neue Veresterungsvarianten für diese lichtempfindlichen Komponenten beschrieben (z.B. DE-PS 865860,922506,1047622,1422473, 2742631, 2944237, DE-OS 2044868, 2828037, 3220816). Die Ursache dafür ist das ständige Bestreben nach Verbesserung der fotolithografischen Eigenschaften von Positiv-Fotokopierlacken.Although the use of naphthoquinone-diazide-sulfonic acid esters in positive photocopiers has been known for years, the patent literature repeatedly describes new esterification variants for these photosensitive components (eg DE-PS 865860, 922506, 1047622, 122424, 2742631, 2944237, DE-OS 2044868, 2828037, 3220816). The reason for this is the constant effort to improve the photolithographic properties of positive photocopy coatings.
Es ist bekannt, daß die anwendungstechnischen Parameter eines Positiv-Fotokopierlackes in hohem Maße von der Beschaffenheit der lichtempfindlichen Komponente abhängen. Wegen der häufig nicht ausreichenden Beherrschung der Naphthochinondiazidsulfonsäureestervon Polyhydroxyphenylverbindungen der geforderten Qualität ist man gezwungen, annähernd gleichbleibende Anwendungseigenschaften des Positiv-Fotokopierlackes dadurch zu erreichen, daß die durch die lichtempfindlichen Komponenten verursachten Schwankungen, insbesondere hinsichtlich Lichtempfindlichkeit und Alkaliresistenz, mit exakt abgestimmten Bindemitteln ausgeglichen werden. Diese Verfahrensweise zur Positiv-Fotokopierlack-Herstellung ist im allgemeinen mit einem hohen Prüfaufwand verbunden.It is well known that the performance parameters of a positive photocopying varnish depend to a great extent on the nature of the photosensitive component. Because of the often insufficient control of the Naphthochinondiazidsulfonsäureestervon Polyhydroxyphenylverbindungen of the required quality, one is forced to achieve approximately constant application properties of the positive photocopy by the fact that the fluctuations caused by the photosensitive components, especially in terms of photosensitivity and alkali resistance, are compensated with exactly matched binders. This procedure for positive Fotokopierlack production is generally associated with a high inspection costs.
In dem Bestreben nach Positiv-Fotokopierlacken mit verbesserten Anwendungseigenschaften steht im Mittelpunkt zahlreicher Untersuchungen und Patenanmeldungen (z. B. DE-OS 2405831) das Bemühen um Reinheit der Komponenten, da sich Verunreinigungen nachteilig auf die Gebrauchseigenschaften der'Lacke auswirken. Neben der Reinheit der lichtempfindlichen Komponente hat auch der Veresterungsgrad der Polyhydro-xyphenyIverbindungen mit Naphthochinondiazidsulfochlorid einen großen Einfluß auf die Anwendungseigenschaften des Positiv-Fotokopierlackes. Bei den bekannten Veresterungsverfahren erhält man gewöhnlich kein einheitliches Produkt, sondern stets Gemische, die neben dem voll veresterten Produkt nach partiell veresterte Verbindungen mit wechselnden Anteilen an freien Hydroxygruppen enthalten (vgl. DE-OS 3220816). Dabei besitzen Positiv-Fotokopierlacke, die bevorzugt monoveresterte Polyhydroxyverbindungen enthalten, im allgemeinen eine gute Lichtempfindlichkeit, aber eine zu große Löslichkeit der unbelichteten Lackschichten in alkalischen Entwicklern. Das wirkt sich nachteilig auf das Auflösungsvermögen, Kantenprofil und den Kontrast aus. Bei Positiv-Fotokopierlacken, die als lichtempfindliche Komponenten vorwiegend Bis- und Tisester enthalten, ist die Alk-alilöslichkeit der unbelichteten Lackschichten zwargünstiger, aber die Empfindlichkeit für viele Anwendungszwecke zu gering (vgl. z.B. DE-OS 3220816). Da es sehr wichtig ist, Gemische von Naphthochinondiazidsulfonsäure-arylestern mit ausreichender Reproduzierbarkeit herzustellen, erhält man Fotokopierlacke mit entsprechend unterschiedlichen Gebrauchseigenschaften.In the pursuit of positive photocopy coatings with improved application properties is the focus of numerous studies and patent applications (eg, DE-OS 2405831), the effort to purity of the components, as impurities have a detrimental effect on the performance of der'Lacke. In addition to the purity of the photosensitive component, the degree of esterification of the polyhydroxyphenyl compounds with naphthoquinonediazide sulfochloride also has a great influence on the application properties of the positive photocopying varnish. The known esterification processes usually do not give a uniform product but always mixtures which, in addition to the fully esterified product, contain partially esterified compounds with varying amounts of free hydroxy groups (cf DE-OS 3220816). In this case, have positive photocopiers, which preferably contain monoesterified polyhydroxy compounds, generally good photosensitivity, but too high solubility of the unexposed resist layers in alkaline developers. This adversely affects the resolution, edge profile and contrast. In the case of positive photocopiers, which predominantly contain bis- and tisesters as photosensitive components, the alkoxy solubility of the unexposed lacquer layers is more favorable, but the sensitivity is too low for many applications (cf., for example, DE-OS 3220816). Since it is very important to prepare blends of naphthoquinonediazide sulfonic acid aryl esters with sufficient reproducibility, photocopying varnishes with correspondingly different performance properties are obtained.
Ziel der Erfindung ist es, einen Positiv-Fotokopierlack zu schaffen, der verbesserte fotolithografische Eigenschaften, insbesondere höhere Lichtempfindlichkeit und Alkalistabilität besitzt.The aim of the invention is to provide a positive photocopy lacquer which has improved photolithographic properties, in particular higher photosensitivity and alkali stability.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, lichtempfindliche Komponenten für Fotokopierlacke aufzufinden, welche die Herstellung von Lacken mit verbesserten Anwendungseigenschaften, insbesondere höherer Lichtempfindlichkeit und Alkalistabilität, ermöglichen. Dabei sollen Derivate von Naphthochinondiazid-sulfonsäuren wegen der bereits vorliegenden Produktionserfahrungen und ihrer günstigen technischen Eigenschaften bevorzugt werden.The invention has for its object to find photosensitive components for photocopying, which enable the production of paints with improved application properties, in particular higher photosensitivity and alkali stability. In this case, derivatives of Naphthochinondiazid-sulfonic acids are preferred because of the already existing production experience and their favorable technical properties.
Überraschenderweise wurde festgestellt, daß Positiv-Fotokopierlacke, welche als lichtempfindliche Komponente ausschließlich sehr reine Trisester der 1 ^-Naphthochinon^-diazid-ö-sulfonsäure mit Gallussäurealkylestern (3,4,5-Trihydroxybenzoesäurealkylestern) enthalten, nicht nur eine höhere Alkalistabilität und damit ein höheres Auflösungsvermögen, ein besseres Kantenprofil und einen besseren Kontrast besitzen als Lacke, die noch einen gewissen Anteil an vollständig veresterten Gallussäurealkylestern enthalten, sondern teilweise auch eine höhere Lichtempfindlichkeit aufweisen. Solche von nicht vollständig veresterten Produkten praktisch freien Trisester entstehen in großer Reinheit und mit guten Ausbeuten bei der Veresterung von Gallussäure-alkylestern mit i^-Naphthochinon^-diazid-ö-sulfochlorid nach dem Phasentransfer-Verfahren, d.h. durch Umsetzung in nicht mit Wasser mischbaren Lösungsmitteln mit einem Überschuß (1,2 b: 3 1,5MoI) eines wäßrigen oder festen Protonenempfängers in Gegenwart einen Katalysators, vorzugsweise einer Tetraalkylammoniumverbindung.Surprisingly, it has been found that positive photocopying varnishes containing as photosensitive component only very pure tris-esters of 1-naphthoquinone-diazide-6-sulfonic acid with gallic acid alkyl esters (3,4,5-trihydroxybenzoic acid alkyl esters) not only have a higher alkali stability and thus a higher alkali stability higher resolving power, a better edge profile and a better contrast than lacquers, which still contain a certain proportion of fully esterified Gallussäurealkylestern, but in part also have a higher photosensitivity. Such virtually completely free from trisubstituted products trisester arise in great purity and with good yields in the esterification of gallic acid alkyl esters with i ^ -naphthoquinone ^ -diazide-ö-sulfonyl chloride by the phase transfer method, ie by reaction in water immiscible Solvents with an excess (1.2 b : 3 1.5 mol) of an aqueous or solid proton receiver in the presence of a catalyst, preferably a tetraalkylammonium compound.
Eine entscheidende Rolle für die Anwendungseigenschaften, insbesondere für die Lichtempfindlichkeit der Fotokopierlacke, spielt die Zusammensetzung des bei der Herstellung der Trisester verwendeten Protonenfängers. Es wurde nämlich beobachtet, daß die Lacke, deren Trisester unter alleiniger oder fast ausschließlicher Verwendung von wasserfreiem Natriumcarbonat hergestellt wurden, eine besonders hohe Lichtempfindlichkeit, aber dafür eine geringe Alkaliresistenz aufweisen. Außerdem neigen diese Trisester dazu, bei längerem Aufbewahren der Lacklösungen teilweise auszukristallisieren. Mit zunehmendem Anteil von Natriumcarbonat-Dekahydrat (Kristallsoda) bei der Herstellung der Trisester geht zwar die Lichtempfindlichkeit zurück, jedoch steigt die Alkaliresistenz, und die Trisester zeigen praktisch keine Neigung zum Auskristallisieren aus den Lacklösungen. Das Optimum bei der Zusammensetzung des Protonenfängers hängt in geringem Maße von der Kettenlänge der Alkylgruppen des Gallussäurealkylestersab, liegt aber für Alkylgruppen mit 1-8 C-Atomen im Bereich von 10 bis 60 Gew.-% Kristallsoda und 90 bis 40 Gew.-% wasserfreiem Natriumcarbonat (bezogen auf das Gesamtgewicht des Protonenfängers).A decisive role for the application properties, in particular for the photosensitivity of the photocopying lacquers, plays the composition of the proton scavenger used in the preparation of the trisesters. It has been observed that the lacquers whose tris-esters have been prepared under the sole or almost exclusive use of anhydrous sodium carbonate have a particularly high photosensitivity but a low resistance to alkali. In addition, these trisesters tend to partially crystallize upon prolonged storage of the paint solutions. As the proportion of sodium carbonate decahydrate (soda ash) in the preparation of the trisesters increases, the photosensitivity decreases, but the resistance to alkali increases, and the trisesters have virtually no tendency to crystallize out of the lacquer solutions. The optimum in the composition of the proton scavenger is slightly dependent on the chain length of the alkyl groups of the gallic acid alkyl ester, but ranges from 10 to 60% by weight of soda and 90 to 40% by weight of anhydrous for alkyl groups having 1-8 carbon atoms Sodium carbonate (based on the total weight of the proton scavenger).
Der gegenüber Lacken mit konventionell hergestellten 3,4,5-tris-(5',6'-naphthochinon-6'-diazidsulfonyloxy)-benzosäurealkylestern um mehr als das Doppelte gesteigerte Kopierkontrast und der praktisch zu vernachlässigende Schichtabtrag der erfindungsgemäß hergestellten Lacke ermöglicht eine beträchtliche Erweiterung ihres Verarbeitungsspielraumes, wodurch die damit verbundenen Produktionsprozesse in der mikroelektronischen Industrie wesentlich einfacher und sicherer gestaltet werden können.The compared to paints with conventionally prepared 3,4,5-tris (5 ', 6'-naphthoquinone-6'-diazidsulfonyloxy) -benzosäurealkylestern by more than twice the increased copy contrast and the virtually negligible layer removal of the coatings according to the invention allows a considerable Extension of their processing latitude, which makes the associated production processes in the microelectronic industry much easier and safer.
Beispiel 1 (konventionelle Herstellung)Example 1 (conventional preparation)
7,1g (0,034MoI) Propylgallat wurden in 80ml Dioxan gelöst, auf+100C gekühlt und eine Lösung von 26,9g (0,1MoI) 1.2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfochloridin 150ml Dioxan sowie eine Lösung von 10,3g Triethylamin in 30 ml Dioxan unter Rühren und Außenkühlung gleichzeitig so langsam einlaufen gelassen, daß die Temperatur nicht über 15°C stieg.7.1g (0,034MoI) propyl gallate were dissolved in 80 ml of dioxane, cooled to + 10 0 C and a solution of 26,9g (0,1MoI) 1.2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfochloridin 150ml of dioxane and a solution of 10 , 3g triethylamine in 30 ml of dioxane with stirring and external cooling simultaneously run so slowly that the temperature did not rise above 15 ° C.
Nach 24stündigem Stehen bei 12°C wurde von ausgefallenen Triethylammoniumchlorid abfiltriert und die Sulfonester durch Eingießen in 3,51 0,5%ige Salzsäure gefällt. Das braungelbe Pulver wurde abfiltriert, bis'zur Neutralisation mit dest. Wasser gewaschen und 14Tage bei 350C im Vakuum getrocknet.After standing for 24 hours at 12 ° C was filtered off from precipitated triethylammonium chloride and the sulfonic acid precipitated by pouring into 3.51 0.5% hydrochloric acid. The brown-yellow powder was filtered off until neutralization with dist. Washed water and dried for 14 days at 35 0 C in a vacuum.
Die Ausbeuten betrugen im Mittel 79,0% d.Th.The yields were on average 79.0% of theory
Der Gehalt des Produktes an Trisester (bestimmt durch Dünnschichtchromatografie auf SilufolplattemitBenzen/Ethylacetat4:1 als Laufmittel) schwankte bei mehreren Ansätzen zwischen 65 und 85%.The content of trisester in the product (determined by thin-layer chromatography on silica plate with benzene / ethyl acetate 4: 1 as eluent) varied between 65 and 85% for several batches.
(gleichzeitig allgemeine Vorschrift zur erfindungsgemäßen Herstellung)(at the same time general procedure for the production according to the invention)
In 100 ml Dichlormethan wurden unter Rühren nacheinander 0,114 Mol eines Gemisches aus wasserfreiem Natriumcarbonat und Natriumcarbonat-Dekahydrat (Kristallsoda), 5,2g (0,0248MoI) Propylgallat und 20g (0,074MoI) i^-Naphthochinon^-diazid-ösuIfochiorid eingetragen und 500 mg Triethylbenzylammoniumchlorid zugesetzt. Das Reaktionsgemisch wurde bis zum Rückfluß erwärmt, wobei das zunächst braungelbe Gemisch nach ca. 60 min eine braune Färbung annahm, die den Endpunkt der Reaktion anzeigte. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wurde filtriert und das Filtrat in die 7- bis 10facher Menge Methanol eingetragen, dem 0,5ml konzentrierter Salzsäure zugesetzt worden waren. Dabei fiel derTrester als hellgelbes Produkt aus. Es wurde abgesaugt, mit Methanol gewaschen und (gegebenenfalls im Vakuum) getrocknet.In 100 ml of dichloromethane were added, with stirring, successively 0.114 mol of a mixture of anhydrous sodium carbonate and sodium carbonate decahydrate (soda ash), 5.2 g (0.0248 mol) of propyl gallate and 20 g (0.074 mol) of 1-naphthoquinone-diazide-isofluoride, and 500 ml mg of triethylbenzylammonium chloride. The reaction mixture was heated to reflux, with the brown-brownish mixture after about 60 minutes assuming a brown color indicating the end point of the reaction. After cooling to room temperature, it was filtered and the filtrate was introduced into the 7 to 10 times the amount of methanol to which 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid had been added. The remainder precipitated as a pale yellow product. It was filtered off with suction, washed with methanol and dried (if appropriate in vacuo).
Die Ausbeuten betrugen im Mittel 90% d.Th.; der Trisestergehalt wurde dünnschichtchromatografisch (Silufolplatte, Benzen/ Ethylacetat 4:1 als Laufmittel) zu 95-97% bestimmt.The yields averaged 90% of theory; the trisester content was determined by thin-layer chromatography (Silufol plate, benzene / ethyl acetate 4: 1 as eluent) to 95-97%.
Versuchsauswertung:Data analysis:
Zur Bestimmung der Lichtempfindlichkeit, des Koperkontrastes und des Schichtabtrages wurden je 5g nach Beispiel 1 bzw. Beispiel 2 hergestellter S^^-Tris-iö'^'-naphthochinon-e'-diazid-sulfonyloxy-Jbenzoesäurepropylester in einer Lösung aus 10g eines o-/m-Kresol-Novolakes mit einem Erweichungspunkt von 125°Cin 35g eines Gemisches aus Ethoxyethylacetat/ Butylacetat/Xylen im Verhältnis 8:1:1 gelöst, wobei der nach Beispiel 2 hergestellte Trisester ggf. mit halogenierten Kohlenwasserstoffen vorbehandelt wurde. Mit den so erhaltenen Fotokopierlacken wurden Siliciumscheiben beschichtet (Schichtdicke 1,5pm), 20min bei 900C getempert, über ein Stufenrad mit verschiedenen Belichtungszeiten belichtet und mit Natronlauge von pH 12,6 entwickelt. Als Maß der Lichtempfindlichkeit wurde diejenige Lichtdosis (in mJ · cm~2)ermittelt, nach der gerade bei 40s Entwicklungsdauer eine einwandfreie, rückstandslose Entwicklung erzielt werden konnte (nachfolgend als H0 40 bezeichnet.To determine the photosensitivity, the copier contrast and the layer removal, 5 g of each of the examples of Example 1 and Example 2 prepared according to Example 1 or Example 2 were prepared in a solution of 10 g of an oxychlorothiazole-1-naphthoquinone-1'-diazide-sulfonyloxy-propylbenzoate. / m-cresol novolaks having a softening point of 125 ° C in 35g of a mixture of ethoxyethyl acetate / butyl acetate / xylene in the ratio 8: 1: 1 dissolved, wherein the trisester prepared according to Example 2 was optionally pretreated with halogenated hydrocarbons. With the thus obtained photocopying paints silicon wafers were coated (layer thickness 1,5pm), annealed 20 minutes at 90 0 C, exposed through a step wheel with various exposure times and with sodium hydroxide solution of pH 12.6 developed. As a measure of the photosensitivity that the light dose was measured (in mJ · cm -2), after just 40s in development time a perfect, residue-free development could be achieved (hereinafter referred to as H 0 40 indicates.
Der Kopierkontrast wurde aus den Quotienten der Zeiten bis zur völligen Ablösung der unbelichteten und der belichteten Bereiche des Lackes bestimmt. Der Schichtabtrag wird aus der Differenz der Schichtdicken vor und nach 10 min Entwicklung in Natronlauge von pH 12,6 ermittelt und in % angegeben.The copy contrast was determined from the quotients of the times to the complete replacement of the unexposed and the exposed areas of the paint. The layer removal is determined from the difference in the layer thicknesses before and after 10 min development in sodium hydroxide solution of pH 12.6 and indicated in%.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengestellt. Sie zeigen, daß die nach dem Phasentransfer-Verfahren hergestellten Naphthochinondiazidsulfonsäureester den konventionell hergestellten Estern mindestens in einem Anwendungsparameter der damit hergestellten Fotokopierlacke überlegen sind, wobei überraschenderweise eine starke Abhängigkeit von der Zusammensetzung des verwendeten Protonenfängers auftritt.The results are summarized in Table 1. They show that the naphthoquinonediazidesulfonic acid esters prepared by the phase transfer process are superior to the conventionally prepared esters in at least one application parameter of the photoprinting lacquers prepared therewith, surprisingly exhibiting a strong dependence on the composition of the proton scavenger used.
Herstellungsbedingungen fürden 3,4,5-Tris-(5',6'-naphthochinon-6'-diazid-sulfonyloxy)-benzoesäure-propylesterPreparation conditions for the 3,4,5-tris (5 ', 6'-naphthoquinone-6'-diazide-sulfonyloxy) -benzoic acid propyl ester
Anwendungseigenschaften der damit hergestellten Positiv-Fotokopierlacke (Schichtdicke 1,5 μηη) Lichtempfindlichkeit Ho 40[mJ -cm"2]Application properties of the positive photocopying varnishes produced therewith (layer thickness 1.5 μm) Photosensitivity H o 40 [mJ-cm " 2 ]
Kopierkontrastcopy contrast
Schichtabtrag nach 10min[%]Layer removal after 10min [%]
Nach Beispiel 1 (Mittelwert aus 5 Versuchen)According to Example 1 (average of 5 experiments)
95-12095-120
800-1200800-1200
8-208-20
SAö-Tris-iS'^'-naphthochinon-e'-diazid-sulfonyloxyJ-benzoesäurepropylester wurde wie in Beispiel 2 beschrieben, jedoch mit einem Gemisch aus 8,9g (0,084MoI) wasserfreiem Natriumcarbonat und 8,4g (0,0294MoI) Natriumcarbonat-Dekahydrat als Protonenfänger, hergestellt. Die Reaktionszeit betrug 45minSAö-Tris-iS''-naphthoquinone-e'-diazide-sulfonyloxyJ-benzoic acid propyl ester was prepared as described in Example 2 but with a mixture of 8.9 g (0.084 mol) of anhydrous sodium carbonate and 8.4 g (0.0294 mol) of sodium carbonate Decahydrate as a proton scavenger. The reaction time was 45 min
Ausbeute 88% d.Th. mit einem Trisestergehalt von 95-96%. Yield 88% of theory with a trisester content of 95-96%.
SAS-Tris-lo'^-naphthochinon-e'-diazid-sulfonyloxyl-benzoesaure-propylester wurde wie in Beispiel 2 beschrieben, jedoch mit 900mg Trioctylmethylammoniumchlorid (statt mit 500mg Triethylbenzylammoniumchlorid) als Katalysator hergestellt. Ausbeute 79,9% d. Th.SAS-Tris-lo'-naphthoquinone-e'-diazide-sulfonyloxy-benzoic acid propyl ester was prepared as described in Example 2, but with 900mg of trioctylmethylammonium chloride (rather than 500mg of triethylbenzylammonium chloride) as a catalyst. Yield 79.9% d. Th.
SAS-Tris-lo'^'-naphthochinon-e'-diazid-sulfonyloxybenzoesaure-isoamylester wurde durch Umsetzung von 5,95g (0,0248 Mol) Isoamylgallat analog Beispiel 2 hergestelltSAS-Tris-lo '^' - naphthoquinone-e'-diazide-sulfonyloxybenzoic acid isoamyl ester was prepared by reacting 5.95 g (0.0248 mol) of isoamyl gallate analogously to Example 2
Ausbeute 85,2% d.Th. Yield 85.2% of theory
Anwendungseigenschaften von Positiv-Fotokopierlacken frisch und nach 6 Monaten LagerungApplication properties of positive photocopiers fresh and after 6 months of storage
Verhältnis Na2CO3ZNa2CO3 · 10H20 = 87/13Ratio Na 2 CO 3 ZNa 2 CO 3 .10H 20 = 87/13
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD30129787A DD259473A1 (en) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | POSITIVE PHOTO COPIER LACQUER WITH IMPROVED APPLICATION CHARACTERISTICS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD30129787A DD259473A1 (en) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | POSITIVE PHOTO COPIER LACQUER WITH IMPROVED APPLICATION CHARACTERISTICS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD259473A1 true DD259473A1 (en) | 1988-08-24 |
Family
ID=5587869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD30129787A DD259473A1 (en) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | POSITIVE PHOTO COPIER LACQUER WITH IMPROVED APPLICATION CHARACTERISTICS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD259473A1 (en) |
-
1987
- 1987-03-31 DD DD30129787A patent/DD259473A1/en not_active IP Right Cessation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |