DD232513A1 - EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS - Google Patents

EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS Download PDF

Info

Publication number
DD232513A1
DD232513A1 DD26541284A DD26541284A DD232513A1 DD 232513 A1 DD232513 A1 DD 232513A1 DD 26541284 A DD26541284 A DD 26541284A DD 26541284 A DD26541284 A DD 26541284A DD 232513 A1 DD232513 A1 DD 232513A1
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
evaporator
plasma
evaporation
arc discharge
evaporation sources
Prior art date
Application number
DD26541284A
Other languages
German (de)
Inventor
Bernd Buecken
Eberhard Steigmann
Original Assignee
Hochvakuum Dresden Veb
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hochvakuum Dresden Veb filed Critical Hochvakuum Dresden Veb
Priority to DD26541284A priority Critical patent/DD232513A1/en
Publication of DD232513A1 publication Critical patent/DD232513A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Verdampfer fuer plasmagestuetzte Vakuum-Beschichtungsverfahren mittels Bogenentladung und zwei Verdampfungsquellen. Die Erfindung verfolgt das Ziel eine plasmagestuetzte Vakuumbeschichtung mit hohem energetischen Wirkungsgrad und hoher Betriebsdauer zu realisieren. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Verdampfer fuer plasmagestuetzte Vakuumbeschichtigung zu entwickeln, der die Energieverluste durch das Heizen der Gluehkatode reduziert und die Standzeit derselben wesentlich erhoeht. Erfindungsgemaess wird die Aufgabe dadurch geloest, dass der Verdampfer fuer plasmagestuetzte Vakuum-Beschichtungsverfahren mittels Bogenentladung und zwei Verdampfungsquellen elektrisch derart geschaltet ist, dass die beiden Verdampfungsquellen beim Start des Verdampfers anodisch und zum Verdampfungsbetrieb als Elektroden fuer eine Bogenentladung wechselnder Polaritaet arbeiten. FigurThe invention relates to an evaporator for plasma-assisted vacuum coating process by means of arc discharge and two evaporation sources. The invention aims to realize a plasma-assisted vacuum coating with high energy efficiency and long service life. The invention has for its object to develop a vaporizer for plasma-assisted vacuum assessment, which reduces the energy losses due to the heating of the Gluehkatode and the service life of the same increases significantly. According to the invention, the object is achieved in that the evaporator for plasma-assisted vacuum coating process by means of arc discharge and two evaporation sources is electrically connected such that the two evaporation sources work anodically at the start of the evaporator and the evaporation operation as electrodes for an arc of varying polarity. figure

Description

Verdampfer für plasmagestützte Vakuum-BeschichtungsverfahrenEvaporator for plasma-assisted vacuum coating process

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Die Erfindung betrifft einen Verdampfer für plasmagestützte Vakuum-Beschichtungsverfahren mittels Bogenentladung und zwei Verdampfungsquellen. Derartige Vakuum-Be schicht ungs verfahr en, auch Ionplating genannt, werden insbesondere für die Erzeugung von Hartstoffschichten eingesetzt.The invention relates to an evaporator for plasma-assisted vacuum coating processes by means of arc discharge and two evaporation sources. Such vacuum coating processes, also called ion plating, are used in particular for the production of hard material layers.

'Bei Verfahren mit Zwischenschichten oder Mischschichten ist die wechselweise bzw. gleichzeitige Verdampfung unterschiedlicher Materialien erforderlich.In the case of processes with intermediate layers or mixed layers, the alternate or simultaneous evaporation of different materials is required.

Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions

Als Verdampfer, die gleichzeitig ein Plasma erzeugen und damit für plasmagestützte Bedampfungsprozesse hervorragend geeignet sind, sind Einrichtungen wie der Hohlkatodenbogenentladungs-(HVBE) und der Hiedervoltbogenentladungs (UVBE)-Verdampfer bekannt geworden. Bei beiden Verdampferarten werden bis zu 30 % der zugeführten elektrischen Leistung an einer glühenden'Katode umgesetzt und stehen damit dem Verdampfungsprozeß, der ... im anodisch geschalteten Verdampfertiegel von statten geht, nicht zur Verfügung. Dies führt trotz hoherAs evaporators, which simultaneously generate a plasma and are thus outstandingly suitable for plasma-based vapor deposition processes, devices such as the hollow cathode arc discharge (HVBE) and the hiedervolt arc discharge (UVBE) evaporator have become known. In both types of evaporators, up to 30% of the electrical power supplied is converted to a glowing cathode and is thus not available to the evaporation process which takes place in the anodized evaporator crucible. This leads despite high

Leistung zu relativ geringen Verdampfungsraten. Außerdem ist die Standzeit der glühenden Katoden auf nor wenige Stunden "beschränkt. Der HVBE-Verdampfer erfordert darüber hinaus in seiner bekannt gewordenen Ausführung einen erheblichen technischen Aufwand, da er zusätzliche Magnetfelder (um Vakuumkammer angeordnet) und eine seperate Ionisierungskammer benötigt.Performance at relatively low evaporation rates. In addition, the service life of the glowing cathodes is limited to a few hours. "Moreover, the HVBE evaporator requires considerable technical effort in its known design, since it requires additional magnetic fields (arranged around the vacuum chamber) and a separate ionization chamber.

Im Gegensatz zu Elektronenstrahlverdampfern ist bei beiden Systemen eine Verdampfung aus zwei Tiegeln nicht bekannt geworden*In contrast to electron beam evaporators, evaporation from two crucibles has not become known in both systems *

Wenn es die Beschichtungsaufgäbe erfordert, daß aus zwei Tiegeln verdampft werden muß, dann sind zwei Einrichtungen parallel anzuordnen.If the coating operation requires that two crucibles be evaporated, then two devices should be arranged in parallel.

Ziel der ErfindungObject of the invention

Die Erfindung verfolgt das Ziel, eine plasmagestützte Vakuumbeschichtung mit hohem energetischen Y/irkungsgrad und hoher Betriebsdauer zu realisieren.The invention pursues the goal of realizing a plasma-assisted vacuum coating with a high degree of energy efficiency and a long service life.

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Verdampfer für die plasmagestützte Vakuum-Beschichtung zu entwickeln, der die Energieverluste durch das Heizen der Glühkatode reduziert und die Standzeit' derselben wesentlich erhöht.The invention has for its object to develop an evaporator for the plasma-assisted vacuum coating, which reduces the energy losses due to the heating of the Glühkatode and the service life 'substantially increased.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der Verdampfer für plasmagestützte Vakuum-Beschichtungsverfahren mittels Bogenentladung und zwei Verdampfungsquellen elektrisch derart geschaltet ist, daß die beiden Verdampfungsquellen beim Start des Verdampfers anodisch und zum Verdampfungsbetrieb als Elektroden für eine Bogenentladung wechselnder Polarität arbeiten.According to the invention, the object is achieved in that the evaporator for plasma-assisted vacuum coating method by means of arc discharge and two evaporation sources is electrically connected such that the two evaporation sources at the start of the evaporator anodic and working for evaporation as electrodes for an arc of alternating polarity.

Beim Einsatz des Verdampfers wird in der Startphase in bekannter Weise eine Glühkatode so geheizt, daß eine Giühemission eintritt und daß die Elektronen durch den Potentialunterschied auf die anodischen Verdampfungsquellen gelenkt werden, so, daß eine Bogenentladung gezündet wird, deren Elektronenstrom zur Erwärmung und Verdampfung des Verdampfungsgutes führt. Dabei kann je Verdampfungsquelle eine gesonderte Glühkatode vorgesehen sein oder es ist nur eine Glühkatode vorgesehen, die intermittierend mit den beiden Verdampfungsquellen zusammengeschaltet wird und in gleicher Weise intermittierend brennende Bogenentladung bewirkt· Uach ausreichend langer Aufheizzeit des Verdampfungsgutes in den Verdampfungsquellen wird die Startphase des Verdampfers beendet und auf Verdampfungsbetrieb umgeschaltete Die beiden Verdampfungsquellen werden als Elektroden an eine Wechselspannungsquelle geschaltet, derart, daß sich eine Bogenentladung wechselnder Polarität zwischen den beiden Verdampfungsquellen ausbildet. Die vorteilhafte Wirkung besteht darin, daß während des gesamten Verdampfungsbetriebes die Glühkatode, bzw, die zwei Glühkatoden, außer Betrieb sind, damit keine Heizenergie verbrauchen und keinem Verschleiß unterliegen. Je nach Verdampfungsgut innerhalb der Verdampfungsquellen und den technologischen Aufgaben, ist es auch möglich, die wechselnde Polarität mit variablem Tastverhältnis zu betreiben. D. h., daß z. B. aus einer Verdampfungsquelle mehr Verdampfungsgut verdampft wird als aus der anderen, bzw. unterschiedliche erforderliche leistungsschichten, sind gut realisierbar. Im einfachsten Pail kann gleiches Verdampfungsgut verdampft werden·When the evaporator is used in the starting phase in a known manner, a Glühkatode heated so that a Giühemission occurs and that the electrons are directed by the potential difference on the anodic evaporation sources, so that an arc discharge is ignited, the electron flow for heating and evaporation of the vaporization leads. It can be provided for each evaporation source a separate Glühkatode or it is only a Glühkatode provided, which is interconnected intermittently with the two evaporation sources and causes intermittent burning arc discharge · After sufficiently long heating time of the vaporized in the evaporation sources, the start phase of the evaporator is terminated and switched to evaporation mode The two evaporation sources are connected as electrodes to an AC voltage source, such that an arc of alternating polarity between the two evaporation sources is formed. The advantageous effect is that during the entire evaporation operation, the Glühkatode, or, the two Glühkatoden, are out of order, so do not consume heating energy and are not subject to wear. Depending on the evaporating material within the evaporation sources and the technological tasks, it is also possible to operate the alternating polarity with a variable duty cycle. D. h., That z. B. from a source of evaporation more evaporating material is evaporated than from the other, or different required performance layers are well feasible. In the simplest Pail, the same vaporization material can be evaporated ·

AusführüngsbeispielAusführüngsbeispiel

Nachfolgend soll die Erfindung an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Die zugehörige ZeichnungThe invention will be explained in more detail with reference to an exemplary embodiment. The accompanying drawing

zeigt einen erfindungsgemäßen Verdampfer mit einer Glühkatode in schematischer Darstellung.shows an inventive evaporator with a Glühkatode in a schematic representation.

In einer Vakuum-BeSchichtungskammer 1 sind die nicht dargestellten zu beschichtenden Substrate angeordnet und der erfindungsgemäße Verdampfer· Die Glühkatode 2 ist als Hohlkatode ausgebildet und im oberen Teil der Beschichtungskammer 1 angeordnet. Die Glühkatode 2 kann auch an anderer Stelle, z. B. zwischen den zwei Verdampfungsquellen 3 und 4 angeordnet sein. Mit 5 ist die ansich nicht erfinderische Schalt- und StromYersorgungseinrichtung bezeichnet.The substrates to be coated, which are not shown, are arranged in a vacuum coating chamber 1 and the evaporator according to the invention. The thermal cathode 2 is designed as a hollow cathode and is arranged in the upper part of the coating chamber 1. The Glühkatode 2 can also elsewhere, z. B. between the two evaporation sources 3 and 4 may be arranged. With 5 the ansich not inventive switch and Stromersers supply is called.

Die Punktion des erfindungsgemäßen Verdampfers wird nachfolgend beschrieben.The puncture of the evaporator according to the invention is described below.

Nach dem Erzeugen eines Vakuums innerhalb der Beschichtungs kammer 1 wird die Glühkatode 2 auf Arbeitstemperatur aufgeheizt und die Verdampfungsquellen 3 und 4 intermittierend an eine Gleichspannung gelegt. Danach wird über die Hohlkatode Argon als Trägergas bis zu einem Druck von 2 χ 10 Pa eingelassen und es bildet sich eine Bogenentladung zwischen der Glühkatode 2 und intermittierend mit der anodisehen Verdampfungsquelle 3 bzw. 4 aus. Der Potentialunterschied beträgt dabei 70 V Gleichspannung. Der intermittierende Betrieb wird symbolisch dadurch erreicht, daß der Schalter 6 innerhalb der Schalt- und Stromversorgungseinrichtung 5 zwischen den Stellungen I und II pendelt. Die sich ausbildenden Bogenentladungen sind mit 7 bzw. 8 bezeichnet. Nach ausreichender Aufheizzeit des Verdampfungsgutes innerhalb der Verdampfungsquellen 3 und 4, wenn diese selbst in der Lage sind Elektronen zu emittieren, wird der Schalter 6 auf die Stellung III umgeschaltet. Damit verlischt die intermittierende Bogenentladung von der Glühkatode 2 zu den Verdampfungsquellen 3 bzw 4 und es bildet sich eine Bogenentladung 9 wechselnder Polarität "zwischen den beiden Verdampfungsquellen 3 und 4 aas. Die Wechsel-spannung beträgt ebenfalls 70 V und sichert, unterstützt von der thermischen Trägheit der Verdampfungsquellen 3 und 4, eine gleichmäßige Verdampfung des Verdampfungsgutes. In der Schaltstellung 0 wird der Prozeß beendet.After generating a vacuum within the coating chamber 1, the Glühkatode 2 is heated to working temperature and the evaporation sources 3 and 4 intermittently connected to a DC voltage. Thereafter, argon is introduced as a carrier gas through the hollow cathode to a pressure of 2 χ 10 Pa and it forms an arc discharge between the glow cathode 2 and intermittently with the anodisehen evaporation source 3 and 4, respectively. The potential difference is 70 V DC. The intermittent operation is symbolically achieved in that the switch 6 oscillates within the switching and power supply device 5 between the positions I and II. The forming arc discharges are designated 7 and 8, respectively. After sufficient heating time of the vaporized material within the evaporation sources 3 and 4, if they are themselves able to emit electrons, the switch 6 is switched to position III. Thus, the intermittent arc discharge from the thermionic cathode 2 to the evaporation sources 3 and 4 is extinguished and an arc 9 of alternating polarity is formed between the two evaporation sources 3 and 4. The alternating voltage is also 70 V and ensures, supported by the thermal inertia the vaporization sources 3 and 4, a uniform evaporation of the vaporized material. In the switching position 0, the process is terminated.

Claims (4)

Patent anspruciiPatent application 1· Verdampfer für plasmagestützte Vakaum-Beschichtungsverfahren mittels Bogenentladung mit zwei Verdampfungsquellen, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Verdampfungsquellen (3> 4) beim Start des Verdampfers anodisch und zum Verdampfungsbetrieb als Elektroden für eine Bogenentladung (9) wechselnder Polarität geschaltet sind.1 · Evaporator for plasma-assisted vacuum coating process by arc discharge with two evaporation sources, characterized in that the two evaporation sources (3> 4) are connected anodically at the start of the evaporator and the evaporation operation as electrodes for an arc discharge (9) of alternating polarity. 2. Verdampfer nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Start die Bogenentladung zwischen den Verdampfungsquellen und je einer Glühkatode brennt.2. evaporator according to item 1, characterized in that at the start of the arc discharge between the evaporation sources and a respective Glühkatode burns. 3. Verdampfer nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Start die 'Bogenentladung (7, 8) zwischen einer Glühkatode (2) und den beiden Verdampfungsquellen (3,3. evaporator according to item 1, characterized in that at the start of the 'arc discharge (7, 8) between a thermionic cathode (2) and the two evaporation sources (3, 4) intermittierend brennt.4) burns intermittently. 4. Verdampfer nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bogenentladung (9) während des Verdampfungsbetriebes in Abhängigkeit von Verdampfungsgut und der Menge variable Tastverhältnisse und/oder Energiemengen aufweist.4. evaporator according to item 1, characterized in that the arc discharge (9) during the evaporation operation in dependence of Evampfungsgut and the amount variable duty cycles and / or energy amounts. Hierzu 1 Blatt ZeichnungFor this 1 sheet drawing
DD26541284A 1984-07-19 1984-07-19 EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS DD232513A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD26541284A DD232513A1 (en) 1984-07-19 1984-07-19 EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD26541284A DD232513A1 (en) 1984-07-19 1984-07-19 EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD232513A1 true DD232513A1 (en) 1986-01-29

Family

ID=5558946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD26541284A DD232513A1 (en) 1984-07-19 1984-07-19 EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS

Country Status (1)

Country Link
DD (1) DD232513A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0438627A1 (en) * 1989-08-04 1991-07-31 Vtd - Vakuumtechnik Dresden Gmbh Arc-evaporator with several evaporation crucibles
EP0462303A1 (en) * 1988-12-21 1991-12-27 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO also known as Kobe Steel Ltd. Vacuum arc vapor deposition device having electrode switching means
WO1997023425A2 (en) * 1995-12-22 1997-07-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Process for producing heat-reflecting laminated systems on transparent substrates

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0462303A1 (en) * 1988-12-21 1991-12-27 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO also known as Kobe Steel Ltd. Vacuum arc vapor deposition device having electrode switching means
EP0438627A1 (en) * 1989-08-04 1991-07-31 Vtd - Vakuumtechnik Dresden Gmbh Arc-evaporator with several evaporation crucibles
WO1997023425A2 (en) * 1995-12-22 1997-07-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Process for producing heat-reflecting laminated systems on transparent substrates
WO1997023425A3 (en) * 1995-12-22 1997-08-28 Fraunhofer Ges Forschung Process for producing heat-reflecting laminated systems on transparent substrates

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0306612B1 (en) Process for depositing layers on substrates
EP0275018B1 (en) Process and device for coating conducting objects by means of glow discharge
DE2823876C2 (en) Process for vaporizing material using a low-voltage arc
EP0725843B1 (en) Process and system for plasma-activated electron-beam vaporisation
DE4125365C1 (en)
DE3543316C2 (en)
DE3614384A1 (en) Method for coating substrates in a vacuum chamber
EP2030490B1 (en) Method and apparatus for generating a plasma and use of the same
DE4228499C1 (en) Plasma-aided coating of substrates - with a low-voltage arc discharge between a cathode and an anodic electrode
EP0438627B1 (en) Arc-evaporator with several evaporation crucibles
DD232513A1 (en) EVAPORATOR FOR PLASMA-SUPPORTED VACUUM COATING PROCESS
EP0647961A1 (en) Device for coating elongated bendable products
DE2314284A1 (en) ION SPRAYER VACUUM PUMP
EP0791226B1 (en) Device for coating substrates using a vapour phase material in a reduced pressure or vacuum environment
DE19500262C1 (en) Plasma treatment of workpieces
DE4006457C2 (en) Process for evaporating material in a vacuum evaporation plant and plant thereof
DE3030454C2 (en) Device for large-area deposition of adhesive, particularly hard carbon layers
DE4409761B4 (en) Device for plasma assisted evaporation in an arc discharge plasma
DE69808267T2 (en) METHOD AND DEVICE FOR PVD COATING
DD267262A1 (en) HOLLOW CARDENDER EVAPORATOR AND METHOD FOR OPERATING THE SAME
DE3142900A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR ION-BASED COATING ELECTRICALLY INSULATING SUBSTRATES
DD267261A1 (en) HOLLOW CARDENE EVAPORATOR FOR THE SAME COATING OF LARGE-LIQUID SUBSTRATES AND METHOD FOR THE OPERATION THEREOF
DD249588A1 (en) DEVICE FOR GENERATING A PLASMA USING THE COLD CATALOG
DD233278A3 (en) CIRCUIT ARRANGEMENT FOR REGULATING THE SUBSTRATE POTENTIAL
DE1900627A1 (en) Device for high temperature processing

Legal Events

Date Code Title Description
RPV Change in the person, the name or the address of the representative (searches according to art. 11 and 12 extension act)
UW Conversion of economic patent into exclusive patent
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee