DD213074A1 - LIGHT-SENSITIVE PHOTOGRAPHIC MATERIAL WITH ANTISTATIC LAYER - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches fotografisches Material mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht, das eine Antistatikschicht aus synthetischen Polymeren aufweist. Aufgabe der Erfindung ist es, fuer die Antistatikschicht eines Silberhalogenidmaterials synthetische Polymere mit antistatischen Eigenschaften zu finden, die gleichzeitig als Bindemittel fuer die Schicht verwendet werden koennen ohne die fotografischen und mechanischen Eigenschaften negativ zu beeinflussen. Erfindungsgemaess wird ein mit Polyethylenoxyden und Alkoxysilanen modifiziertes Maleinsaeureanhydridmischpolymerisat als Antistatikmittel eingesetzt.The invention relates to a photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer comprising an antistatic layer of synthetic polymers. The object of the invention is to find synthetic polymers with antistatic properties for the antistatic layer of a silver halide material which can simultaneously be used as a binder for the layer without adversely affecting the photographic and mechanical properties. According to the invention, a maleic anhydride copolymer modified with polyethylene oxides and alkoxysilanes is used as antistatic agent.
Description
VEB Filmfabrik Wolfen . Wolfen, den .24.02,1982VEB Filmfabrik Wolfen. Wolfen, the .24.02.1982
PN 933 Wk/MiPN 933 Wk / Mi
DC.Rittmeier Int .Cl, : G 03 C 1/82DC.Rittmeier Int. Cl,: G 03 C 1/82
DC. KrausDC. crinkly
Chem.BarrotChem.Barrot
DC.PlaschnickDC.Plaschnick
DC.GragertDC.Gragert
Prof.Dr. Rä"feschProf. Dr. Bulldozing "fesch
Lichtempfindliches fotografisches Material mit AntistatikschichtPhotosensitive photographic material with antistatic layer
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches fotografisches Material mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht, das eine Antistatikschicht aus synthetischen Polymeren aufweist.The invention relates to a photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer comprising an antistatic layer of synthetic polymers.
Fotografische Aufzeichnungsmaterialien besitzen im allgemeinen einen Träger, der elektrisch isolierend ist. Durch Reibungsvorgänge während der Produktion und der Verarbeitung des Materials kommt es zur Akkumulation von elektrostatischen Ladungen. Diese bereiten vielfältige Schwierigkeiten, da bei deren Entladung das Material belichtet wird. Diese sogenannten statischen Markierungen setzen die Qualität der fotogra~ fischen Materialien herab, bzw. lassen deren Herstellung nicht zu. Die Akkumulation von elektrostatischen Ladungen kann durch Verminderung des elektrischen Widerstandes der Trägeroberfläche verhindert -werden. Üblicherweise geschieht das durch Aufbringen einer Antistatikschicht direkt auf eine Oberfläche des Trägers oder auf die fotografische Schicht. Man kann die antistatische Funktion dieser Schicht auch koppeln mit der Funktion weiterer Hilfsschichten ,z,8. Antiroll-Photographic recording materials generally have a support which is electrically insulating. Friction during production and processing of the material causes the accumulation of electrostatic charges. These pose a variety of difficulties, as the discharge of the material is exposed. These so-called static markings reduce the quality of the photographic materials or do not permit their production. The accumulation of electrostatic charges can be prevented by reducing the electrical resistance of the carrier surface. Usually, this is done by applying an antistatic layer directly to a surface of the support or to the photographic layer. It is also possible to couple the antistatic function of this layer with the function of further auxiliary layers, z, 8. antiroll
— 2 — 19 HDD -iQfl9*nO99&n- 2 - 19 HDD -iQfl9 * nO99 & n
_ 2 —_ 2 -
schicht/ Lichthofschutzschicht, Oberflächenschutzschicht. Ss wurden verschiedene Verbindungen beschrieben, um die Leitfähigkeit der Oberfläche des Trägers oder der aufgetragenen Schichten zu verbessern, beispielsweise oberflächenaktive Mittel (US-PS 3 552 972, US-PS 3 655 387, US-PS 3 786 002), Zinkoxid, Halbleiter und kolloidales Siliciumdioxid (US-PS 3 525 521) und verschiedene, meist halogensubstituierte Polymerisate (US-PS 3 615 531, US-PS 3 753 716, DE-OS 2 717998)» Die beschriebenen Verbindungen zeigen jedoch unterschiedliche Eigenschaften in Abhängigkeit von der Art des Trägers oder der fotografischen Schichten. Ihre Wirkung ist zudem meist nur gering, wodurch eine ausreichende antistatische Ausrüstung nicht erreicht werden kann. Weiterhin führen diese Verbindungen oft zur Störung des Schichtaufbaues der polymeren Schichten bzw. es liegt ein nur ungenügendes Haften auf dem Trägermaterial vor. Vielfach tritt ein verstärkter Abtrieb auf oder die Schichten besitzen untereinander eine höhere Adhäsion, als die "Schicht auf dem Trägermaterial, wodurch ein Verkleben dieser Schichten .eintritt (Abklatschen). Hierdurch resultieren unbrauchbare Materialien .'....layer / antihalation layer, surface protective layer. For example, various compounds have been described to improve the conductivity of the surface of the support or coated layers, such as surfactants (U.S. Patent 3,552,972, U.S. Patent 3,655,387, U.S. Patent 3,786,002), zinc oxide, semiconductors, and the like colloidal silica (US Pat. No. 3,525,521) and various, mostly halogen-substituted polymers (US Pat. No. 3,615,531, US Pat. No. 3,753,716, DE-OS No. 2,717,998). However, the compounds described show different properties depending on the type of the vehicle or photographic layers. In addition, their effect is usually low, which means that sufficient antistatic equipment can not be achieved. Furthermore, these compounds often lead to disruption of the layer structure of the polymeric layers or there is only insufficient adhesion to the carrier material. In many cases, an increased downforce occurs or the layers have a higher adhesion to one another than the "layer on the carrier material, whereby a sticking of these layers occurs." This results in unusable materials.
Oftmals werden auch die fotografischen Kenndaten unzulässig beeinflußt. Außerdem sind diese Verbindungen häufig nicht diffusionsfest , wodurch ihre Wirkung verlorengeht oder Störungen im Informationsaufzeichnungsmaterial hervorgerufen werden. In der DE-OS 2 513 791 werden Antistatikmittel vorgestellt, die viele dieser Nachteile nicht zeigen sollen. Es handelt sich dabei um Mischpolymerisate auf der Basis des Maleinsäureanhydrids, die mit Polyethylenoxiden verestert sind. Es erweist sich jedoch, daß die antistatische Wirksamkeit dieser Polymerisate nicht sehr gut ist. Der spezifische Oberf lächenvviderstand bei Verwendung dieser Verbindungen liegt höher als 10^Sl cm„ Außerdem zeigen diese Polymerisate auf den Trägermaterialien nur ungenügendes Haften, weshalb mhr Einsatz nicht erfolgen kann. In Gelatineschichten werden die Ouellwerte unzulässig erhöht, wodurch deren physikalisch-mechanische Eigenschaften unzureichend sind. Durch die gebräuchlichen Härtungsmittel kann keine Abhilfe geschaffen werden, da diese Polymerisate diesenOften, the photographic characteristics are influenced inadmissibly. In addition, these compounds are often not diffusion-resistant, thereby losing their effect or causing disturbances in the information recording material. In DE-OS 2,513,791 antistatic agents are presented which are not intended to show many of these disadvantages. These are copolymers based on maleic anhydride, which are esterified with polyethylene oxides. It turns out, however, that the antistatic activity of these polymers is not very good. The specific surface resistivity when using these compounds is higher than 10 ^ 5 cm. In addition, these polymers show only insufficient adhesion to the support materials, which is why their use can not be carried out. In gelatin layers, the oil levels are improperly increased, which makes their physico-mechanical properties inadequate. The conventional hardening agents can not be remedied because these polymers
Substanzen chemisch nicht zugänglich sind. Ziel der Erfindung Substances are chemically inaccessible. Object of the invention
Ziel der Erfindung ist es, lichtempfindliche fotografische Materialien mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht mit verbesserten antistatischen und mechanischen Eigenschaften herzustellen,The aim of the invention is to produce photographic light-sensitive materials having at least one silver halide emulsion layer with improved antistatic and mechanical properties,
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, für lichtempfindliche fotografische Silberhalogenidmaterislien, die eine Antistatikschicht aufweisen, ein synthetisches Polymer mit antistatischen Eigenschaften zu finden, das gleichzeitig als Bindemittel verwendet werden kann und die fotografischen und mechanischen Eigenschaften der Materialien nicht negativ beeinflußt.The invention is based on the object of finding a synthetic polymer with antistatic properties for photosensitive photographic silver halide materials which have an antistatic layer which can simultaneously be used as a binder and does not adversely affect the photographic and mechanical properties of the materials.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein lichtempfindliches fotografisches Material mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht eine Ant'istatikschicht aufweist, die ein Mischpolymerisat aus in der Hauptkette sich wiederholenden Struktureinheiten der allgemeinen FormelnThis object is achieved according to the invention in that a photosensitive photographic material having at least one silver halide emulsion layer has an antistatic layer comprising a copolymer of recurring structural units of the general formulas in the main chain
CH CHCH CH
RO CRO C
IlIl
-OM-OM
CH — CHCH - CH
R — 0 — CR - 0 - C
-b-b
, Ο -CH9-CH.., Ο -CH 9 -CH ..
I 2 4L ηI 2 4L η
II undII and
0 00 0
CH CCH C
U VVU VV
IIIIII
worinwherein
R und M gleich oder verschieden Wasserstoff, Alkalimetall, Erdalkalimetall, AmmoniumR and M are identical or different and are hydrogen, alkali metal, alkaline earth metal, ammonium
T den Rest einer organischen Verbindung, die ein aktives Wasserstoffatom besitzt, an das Ethylenoxid addiert werden kann, vorzugsweise lineare und verzweigte Alkohole, Phenole mit 4 bis 25 C-Atomen,T is the radical of an organic compound having an active hydrogen atom to which ethylene oxide can be added, preferably linear and branched alcohols, phenols having 4 to 25 carbon atoms,
U Wasserstoff, -C'U hydrogen, -C '
^•0 - R ^ • 0 - R
V - Wasserstoff oder MethylV - hydrogen or methyl
OY OYOY OY
W -X-$i-0Y , -/ V" X-Si-OYW -X- $ i-0Y, - / V "X-Si-OY
OYOY
OY OYOY OY
I SI S
-C-Z-X-Si-OY , -C-O-CH0-CH-CH0-Z-X-Si-OY-CZX-Si-OY, -CO-CH-CH 0 CH 0 -ZX-Si-OY
0 OY Ö OH - OY0 OY O OH - OY
X Alkylen mit 1 bis 5 C-Atomen, -CH2-CH-O-CH2-CH2-CH2-,X alkylene having 1 to 5 C atoms, -CH 2 -CH-O-CH 2 -CH 2 -CH 2 -,
OHOH
-CH0-CH0-I-NH-CH0-CH0 A- CH0--CH 0 -CH 0 -I-NH-CH 0 -CH 0 A- CH 0 -
d d \ d Δ /m Z ' dd \ d Δ / m Z '
Y Alkyl, vorzugsweise mit 1 bis 2 C-AtomenY is alkyl, preferably having 1 to 2 C atoms
Z Sauerstoff, -NH-Z oxygen, -NH-
n 1 bis 100 m 1 bis 10n 1 to 100 m 1 to 10
a,b und' c die Molenbrüche der Monomeren mita, b and 'c the molar fractions of the monomers with
a 0,1 bis 0,4 b 0,1 bis 0,4 c OSO5 bis 0,8 bedeuten,a 0.1 to 0.4 b 0.1 to 0.4 c O S O5 to 0.8,
und anderen mit Maleinsäureanhydrid copolymerisierbaren Monomereinheiten, enthält.and other maleic anhydride copolymerizable monomer units.
Solche copolymerisierbaren Monomeren sind z.B. Styren, Ethylen, Propylen, Methylvinylether, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Vinylacetat.Such copolymerizable monomers are e.g. Styrene, ethylene, propylene, methyl vinyl ether, methyl methacrylate, ethyl acrylate, vinyl acetate.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß bei Einführung der Struktureinheit III der spezifische Widerstand der erfindungsgemäßen Polymeren um mehrere Größenordnungen absinkt, wodurch bei Verwendung als Antistatikum wesentliche Verbesserungen gegenüber den bisher bekannten Antistatikmitteln erreicht werden,Surprisingly, it has been found that upon introduction of the structural unit III, the specific resistance of the polymers according to the invention drops by several orders of magnitude, whereby, when used as antistatic agent, substantial improvements are achieved compared with the previously known antistatic agents,
Dis erfindungsgemäßen Polymeren besitzen außerdem eine ausgezeichnete Löslichkeit In Wasser und in organischen Lösungsmitteln .In Kombination mit Gelatine werden transparente Filme erhalten, deren Quellwerte deutlich unter denen der Gelatine liegen.The polymers according to the invention also have excellent solubility in water and in organic solvents. In combination with gelatin, transparent films are obtained whose swelling values are significantly lower than those of gelatin.
Die Produkte besitzen weiterhin ausgezeichnete filmbildende Eigenschaften, sodaß sich ein weiteres Bindemittel in der Antistatikschicht erübrigt. Besonders hervorzuheben ist die ausgezeichnete Haftung auf Trägermaterialien unterschiedlichster Art, wie Glas, Polyester und Celluloseacetat. Sie sind jedoch auch mit den gebräuchlichen Bindemitteln der Fotoindustrie (z.B. Gelatine, modifizierte Gelatine, .Cellulosederivate) sehr gut verträglich, was ihren Einsatz im Gemisch mit den genannten Bindemitteln erlaubt. ' Die erfindungsgemäßen Mischpolymerisate können allein oder im Gemisch mit anderen Bindemitteln und Hilfsstoffen (z.B. Beschichtungshilfsmittel, Härtungsmittel, Weichmacher, Filterfarbstoffe, Lichthofschutzfarbstoffe, andere antistatische Mittel, Gleitmittel, adhäsionsverhindernde Mittel, Konservierungsmittel) mit allen gebräuchlichen Beschichtungsverfahren vergossen werden.The products further have excellent film-forming properties, so that there is no need for a further binder in the antistatic layer. Particularly noteworthy is the excellent adhesion to substrates of various kinds, such as glass, polyester and cellulose acetate. However, they are also very well compatible with the common binders of the photographic industry (e.g., gelatin, modified gelatin, cellulose derivatives), allowing their use in admixture with said binders. The copolymers of the invention may be cast alone or in admixture with other binders and excipients (for example coating aids, curing agents, plasticizers, filter dyes, antihalation dyes, other antistatic agents, lubricants, anti-adhesion agents, preservatives) by any conventional coating method.
Erfindungsgemäß werden Mischpolymerisate mit Molekulargewichten zwischen 1000 und 500000, vorzugsweise zwischen 5000 und 100000 eingesetzt.According to the invention, copolymers having molecular weights of between 1,000 and 500,000, preferably between 5,000 and 100,000, are used.
Beispiele von typischen Mischpolymerisaten, die nach der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind im folgenden aufgeführt ;Examples of typical copolymers which can be used according to the present invention are listed below;
Λ C ^ ' * _ ΛΛ C ^ '* _ Λ
CHCH
NgO-CNGO-C
— CH- CH
-0.2 C -ONa-0.2 C-ON
Il οIl ο
IIII
CH - CHCH - CH
NaO-C 0NaO-C 0
0,20.2
C-I-O-CH,C-I-O-CH
CH0 4— C53H, _ L j g öl/CH 0 4- C 53 H, _ L i g oil /
IIIIII
-0,1 NaO - C C — NH-0.1 NaO - C C - NH
j jj j
! ι'! ι '
0 00 0
OCH3 OCH 3
)CH-) CH
Si-OCH-,Si-OCH,
OCH-,OCH,
CbmonomerCbmonomer
.CH — CH 2.CH - CH 2
CH.CH.
/0,5/ 0.5
CH — CHCH - CH
NaONaO
0,350.35
C — ONaC - ONa
ι -ι -
CH - CHCH - CH
NaO — CNaO - C
, ι, ι
IT -Γ" ΤIT -Γ "Τ
MaOMaO
05 C- NH —f CH0-V- Si05 C-NH- f CH 0 -V-Si
!I T 2 j 3 0IT 2 j 3 0
f2H5,f2 H5 ,
OC2H5 OC 2 H 5
Comonoraer —hCH2— CHComonoraer -hCH 2 - CH
0,50.5
CH-CH-
CH — CH 0,35CH - CH 0.35
NeO =— C C —ONaNeO = - C C -ONa
O OO O
H-CHH-CH
NaONaO
_ C_ C
0,10.1
C4- 0CHo_CH, C4 0CH o --CH,
C10H21 C 10 H 21
CH - CHCH - CH
NaO —NaO -
0,05 / C C-O- CHa- CH-P-+- CH0 0.05 / C CO-CHa-CH-P - + - CH 0
O OO O
OCH3 Si—OCH-OCH 3 Si-OCH
OCH.OCH.
ComonoraerComonoraer
CHCH
Γ . CHΓ. CH
0,50.5
I .I.
IIII
H-CHH-CH
0,20.2
HO-C C-OHHO-C C-OH
0 00 0
— CH — CH —- CH - CH -
I i / Jo'2 I i / Jo ' 2
HO — C C-HO - C C-
CHCH
O OO O
IIIIII
CH - CHCH - CH
HO-C C -NHJ-CH,HO-C C -NHH-CH,
X 'X '
O OO O
OCH-OCH
Si-OCHSi-OCH
OCH.OCH.
Comonorner Verbindung Comonorner connection
CH2— CHCH 2 - CH
CH.CH.
0,50.5
_]_ CH — CH —I—_] _ CH - CH -I-
m —m -
0,350.35
C— OHC-OH
IlIl
IIII
-4- CH - CH —-4- CH - CH -
HO-CHO-C
CH — CHCH - CH
0,05.0.05.
HO-C C- NH 4 CHHO-C C-NH 4 CH
Si-0C2H OC2H5 Si - 0C 2 H OC 2 H 5
Comonomercomonomer
CH,CH,
CH-CH-
0,50.5
7 Teile MSA-Styren-Mischpolymerisat werden in 70 Teilen Cyclohexanon gelöst und nach Zusatz von 8 Teilen Pyridin und 37 Teilen' eines ethoxylierten Oktadekanols mit einer mittleren Molmasse von 1500 zwei Stunden bei 14O°C gerührt, Anschließend werden 9 Teile T'-Aminopropyltrimethoxysilan zugesetzt und 30 min bei 20°C gerührt. Das Produkt wird in Ether gefällt und aus Aceton in Ether umgefillt. Das nach dem Trocknen gewonnene gelblich-weiße Pulver kann in organischen Lösungsmitteln, wie Aceton oder Methanol gelöst werden.7 parts of MSA-styrene copolymer are dissolved in 70 parts of cyclohexanone and, after addition of 8 parts of pyridine and 37 parts of an ethoxylated octadecanol having an average molecular weight of 1500, stirred for two hours at 14O ° C. Subsequently, 9 parts of T'-aminopropyltrimethoxysilane are added and stirred at 20 ° C for 30 min. The product is precipitated in ether and refilled from acetone to ether. The yellowish-white powder obtained after drying can be dissolved in organic solvents such as acetone or methanol.
Die wäßrige Lösung wird durch Auflösen des Pulvers in wäßriger Natronlauge erhalten,The aqueous solution is obtained by dissolving the powder in aqueous sodium hydroxide solution,
Nach analogen Vorschriften können auch die übrigen erfindungsgemäßen Polymerisate hergestellt werden.By analogous instructions, the other polymers according to the invention can also be prepared.
Eine fotografische Emulsion für f ototeehnischen Film, die mit den üblichen Härtern und Stabilisatoren versetzt wurde, wird auf eine Polyethylenterephthalatunterlage mit einer darauf befindlichen Haftschicht aufgetragen. Darauf wird eine erfindungsgemäße Antistatikschicht der folgenden Zusammensetzung gegossen:A photographic emulsion for optical film, which has been treated with the usual hardeners and stabilizers, is applied to a polyethylene terephthalate base with an adhesive layer thereon. Then an antistatic layer according to the invention of the following composition is poured:
Gelatine; 2 TeileGelatin; 2 parts
- ΊΟ - .- ΊΟ -.
Verbindung 1: 5 Teile Wasser: 70 TeileCompound 1: 5 parts water: 70 parts
Die Dicke der Antistatikschicht beträgt 1,4 ,um. Gleichermaßen wird mit den erfindungsgemäßen Verbindungen 2 und 3 verfahren.The thickness of the antistatic layer is 1.4 μm. The same procedure is followed with the compounds 2 and 3 according to the invention.
Nach dem Trocknen werden Probestreifen geschnitten und diese bei 20°C und 40%rel. Feuchte 20 Stunden konditioniert. Anschließend wird der spezifische Oberflächenwiderstand mit einer Meßanordnung bestehend aus einem Stromversorgungsteil, einem Widerstandsnormal und einem Schwingkondensatorvoltmeter bestimmt» Als Typ (Vergleichsprobe) wird auf die Silberhalogenidschicht eine Gelatineschicht ohne Antistatikum gegossen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengefaßt.After drying, test strips are cut and these at 20 ° C and 40% rel. Humidity conditioned for 20 hours. Subsequently, the surface resistivity is determined with a measuring arrangement consisting of a power supply unit, a resistance standard and a Schwingkondensatorvoltmeter »As a type (comparative sample) is poured onto the silver halide layer, a gelatin layer without antistatic agent. The results are summarized in Table 1.
Tabelle 1: Spezifischer Oberflächenwiderstand bei Verwendung verschiedener AntistatikaTable 1: Specific surface resistance using different antistatics
F 1 lfd. Nr. Antistatika spez.Oberfl.wid.K^cmF 1 serial no. Antistatic spec. Top
1 ohne (Typ) 2 · ΙΟ15 1 without (type) 2 · ΙΟ 15
2 Verbindung 1 3 · 102 connection 1 3 · 10
3 Verbindung 2 3,5 · 103 compound 2 3.5 · 10
4 Verbindung 3 5 · 107 4 connection 3 5 · 10 7
Die Ergebnisse der Tabelle 1 zeigen daß bei fotografischen Materialien die mit Antistatikschichten, welche die Verbindung 1 bis 3 enthalten, ausgerüstet sind, der spezifische Oberflächenwiderstand um mehrere Größenordnungen besser ist als beim .Vergleichsmaterial .The results of Table 1 show that in photographic materials equipped with antistatic layers containing compounds 1 to 3, the surface resistivity is several orders of magnitude better than that of the comparative material.
Auf einen-'Cellulosetriacetatfilmträger wird eine Lichthofschicht (Triphenylrnethanfarbstoff - Bindemittel Mischkodensat aus Formalin, p-Hydroxybenzoesäure und p-Kresol), eine rotempfindliche Silberhaiogenidemulsionsschicht bestehend aus Sensibilisator, Härtungsmittel, Beschichtungshilfsmittel, Farbkuppler und Kupplarlösungsmittel sowie einer -2Qe la tine - Silber j od-A cyanogen triacetate film support is coated with a halothane layer (triphenylrhene dye - binder mixed codensate of formalin, p-hydroxybenzoic acid and p-cresol), a red-sensitive silver halide emulsion layer consisting of sensitizer, hardener, coating aid, color coupler and coupler solvent, and a silver salt-silver iodide.
bromidemulsion (Oodidgehalt: 2 Mol %), eine Zwischenschicht, eine grünempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht, bestehend aus Sensibilisator, Stabilisator, Härtungsmittel, Beschichtungshilfsmittel, Farbkuppler und Kupplerlösungsmittel sowie einer Gelatine - Silberjodbromidemulsion (Oodidgehalt 3,3 Hol %), eine Gelbfiltsrschicht, eine blauempfindliche SiI-berhalogenidemulsionsschicht, bestehend aus Sensibilisator, Härter, Beschichtungshilfsmittel, Farbkuppler, Kupplerlösungsmittel und einer Gelatine - Silberjodbromidemulsion (Dodidgehalt 3,3 Mol %) und eine Schutzschicht nacheinander aufgetragen.bromide emulsion (osmid content: 2 mol%), an intermediate layer, a green-sensitive silver halide emulsion layer consisting of sensitizer, stabilizer, hardener, coating aid, color coupler and coupler solvent, and a gelatin silver iodobromide emulsion (oxyl content 3.3 % by mol ), a yellow filter film, a blue sensitive SiI emulsion. a halide emulsion layer consisting of sensitizer, hardener, coating aid, color coupler, coupler solvent and a gelatin silver iodobromide emulsion (do not content 3.3 mol %) and a protective layer successively applied.
Als Oberflächenschutzschicht werden zwei Proben verwendet, Probe 1 enthält 1,5 g Gelatine pro m2 und 0,5 g/100 g Bindemittel eines Härtungsmittels (2~Hydroxy-4,6-dichlor~5~triazin-Two samples are used as the surface protective layer, sample 1 contains 1.5 g gelatin per m 2 and 0.5 g / 100 g binder of a curing agent (2-hydroxy-4,6-dichloro-5-triazine).
2 '2 '
natriumsalz) sowie" 0,5 g pro m der erfindungsgemäßen Verbindung 2 als Antistatikmittel,sodium salt) and "0.5 g per m of the compound 2 according to the invention as an antistatic agent,
Probe 2 enthält 0,1 g pro.r Natriumdodecylsulfonat anstelle der erfindungsgemäßen Verbindung 2 als Vertreter eines gebräuchlichen Antistatikums.Sample 2 contains 0.1 g pro.r sodium dodecylsulfonate instead of the compound 2 of the invention as a representative of a common antistatic agent.
Nach dem Trocknen „werden Probestreifen geschnitten und 20 Stunden bei 20°C und 40 % rel. Feuchte konditioniert. Die Bestimmung des Oberflächenwiderstandes erfolgte wie im Beispiel 2,After drying "test strips are cut and 20 hours at 20 ° C and 40 % rel. Humid conditioned. The determination of the surface resistance was carried out as in Example 2,
Bei dem fotografischen Film, dem die erfindungsgemäße Verbindung zur Oberflächenschutzschicht zugegeben wurde,beträgt der spezifische Oberflächenwiderstand 4,5 * 10 Q. cm. Im Gegensatz dazu hat der Vergleichsfilm (Probe 2) einen spezifischen Oberflächenvviderstand von 3 « 101 Sl cm,In the photographic film to which the compound of the present invention has been added to the surface protective layer, the surface resistivity is 4.5 * 10 Ω · cm. In contrast, the comparative film (Sample 2) has a surface resistivity of 3 "10 1 S cm,
*** _L «ΕΪ-*** _L «ΕΪ-
Claims (2)
CH-CI
CH-C
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD23889382A DD213074A1 (en) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | LIGHT-SENSITIVE PHOTOGRAPHIC MATERIAL WITH ANTISTATIC LAYER |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD23889382A DD213074A1 (en) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | LIGHT-SENSITIVE PHOTOGRAPHIC MATERIAL WITH ANTISTATIC LAYER |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD213074A1 true DD213074A1 (en) | 1984-08-29 |
Family
ID=5537820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD23889382A DD213074A1 (en) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | LIGHT-SENSITIVE PHOTOGRAPHIC MATERIAL WITH ANTISTATIC LAYER |
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Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD213074A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8420069B2 (en) | 2008-09-26 | 2013-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial and antifouling polymeric materials |
US8673419B2 (en) | 2008-03-14 | 2014-03-18 | 3M Innovative Properties Company | Stretch releasable adhesive tape |
-
1982
- 1982-04-12 DD DD23889382A patent/DD213074A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8673419B2 (en) | 2008-03-14 | 2014-03-18 | 3M Innovative Properties Company | Stretch releasable adhesive tape |
US9238758B2 (en) | 2008-03-14 | 2016-01-19 | 3M Innovative Properties Company | Stretch releasable adhesive tape |
US8420069B2 (en) | 2008-09-26 | 2013-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial and antifouling polymeric materials |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |