DD202456A5 - PROCESS FOR MELTING - Google Patents

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DD202456A5
DD202456A5 DD82236710A DD23671082A DD202456A5 DD 202456 A5 DD202456 A5 DD 202456A5 DD 82236710 A DD82236710 A DD 82236710A DD 23671082 A DD23671082 A DD 23671082A DD 202456 A5 DD202456 A5 DD 202456A5
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DD
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chemical element
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matrix
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DD82236710A
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Ady Joseph
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Metafuse Ltd
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Abstract

Ein Verfahren fuer das Verschmelzen eines zweiten leitfaehigen Elementes mit der Matrix eines ersten leitfaehigen Elementes wird zur Verfuegung gestellt, bei dem das zweite Element entweder in Form eines Feststoffes oder einer dissoziierbaren Loesung mit dem ersten leitfaehigen Element in Kontakt gebracht wird und einem zerhackten elektrischen Signal einer bestimmten Frequenz ausgesetzt wird.A method for fusing a second conductive member to the matrix of a first conductive member is provided wherein the second member is brought into contact with the first conductive member in either a solid or dissociable solution and a chopped electrical signal certain frequency is suspended.

Description

Ve rs chme Iz längsverfahrenIz lengthwise process

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Lie Erfindung "betrifft Verschmelzungsprozesse, Anlagen für die Durchführung derartiger Verfahren und Produkte aus aolchen Verfahren,Lie invention "relates to fusion processes, plants for carrying out such processes and products from such processes,

Diese Anmeldung iat eine Teilweiterbehandlung der US-PA 224.762, eingereicht am 13. Januar 1981.This application is a partial follow-up to US Pat. No. 224,762, filed January 13, 1981.

Für die Zwecke dieser Anmeldung soll unter dem Begriff "Verschmelzung" ein Verfahren zu verstehen sein, mit dessen Hilfe verschiedene Elemente chemisch oder physikalisch verbunden werden.For the purposes of this application, the term "fusion" is intended to mean a process by which various elements are chemically or physically linked.

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen;Characteristic of the known technical solutions;

Bisher war es üblich, Substrate oder Matrizen in unterschiedlichster Weise zur Verbesserung der Kennwerte der Matrix für einen bestimmten Anwendungszweck zu behandeln. Manchmal wurde bei diesen Behandlungen die Matrix als Körper aufgefaßt und bei anderen Techniken wurden nur die Oberflächenkennwerte erhöht»So far, it has been common practice to treat substrates or matrices in a variety of ways to improve the characteristics of the matrix for a particular application. Sometimes the matrix was treated as a body in these treatments, and in other techniques only the surface characteristics were increased »

Diese Techniken wiesen jedoch Grenzen auf. Das Werkstück oder die Matrix kann eine gewisse Form haben, die sich nicht dafür eignet, daß ein bestimmter, die Kennwerte erhöhender Prozeß vorgenommen wird j durch das Verfahren können schon vorhandene erwünschte Eigenschaften dea Werkstückes zerstört werden; oder das behandelte Werkstück kann, obwohl es bestimmte verbesserte Kennwerte aufweist, andere verringerte Eigenschaften erhalten.However, these techniques had limitations. The workpiece or matrix may have a certain shape which is not suitable for carrying out a specific process increasing the characteristic values; the process may destroy already present desired properties of the workpiece; or the treated workpiece, although having certain improved characteristics, may have other reduced properties.

Im allgemeinen- hängt das angewandte Verfahren vom zu behandelnden Werkstück oder der zu behandelnden Matrix und den erwünschten Eigenschaften ab.In general, the method used depends on the workpiece to be treated or the matrix to be treated and the desired properties.

Genauer ausgedrückt, sind Beschichtungstechniken, Wärmebehandlung, Anodisierung, Lichtbogenspritzen, Vakuumverdampfung, chemische Ablagerung, Zerstäubung und Ionenplattierung insgesamt, übliche Prozesse«,More specifically, coating techniques, heat treatment, anodization, arc spraying, vacuum evaporation, chemical deposition, sputtering and ion plating are all common processes,

Nicht-Eisenmetalle können durch Alterung, Wärmebehandlung oder Anodisieren gehärtet werden»Non-ferrous metals can be hardened by aging, heat treatment or anodizing »

231151.1982*024536231151.1982 * 024536

23b/1O 223b / 1O 2

Durch α iese . Techniken wird aber kein ausreichender Schutz gegen Trockenabriebverschleiß erzielt.By α iese. However, techniques do not provide adequate protection against dry abrasion wear.

Durch. Spritzbeschichtungstechniken konnten die Korrosionsbeständigkeit oder die physikalischen Eigenschaften von eisenhaltigen Werkstoffen nicht verbessert werden.By. Spray coating techniques could not improve the corrosion resistance or physical properties of ferrous materials.

Die Abriebfestigkeit von Nicht-Eis ensubstrat en konnte durch elektro-chemiache oder elektromechanisch^ Plattierung mit Hartchrom verbessert werden, aber diese Maßnahme ist teuer und zeitaufwendig»The abrasion resistance of non-ice substrate could be improved by electrochemical or electromechanical plating with hard chrome, but this measure is expensive and time consuming. "

Die anderen Techniken wie Lichtbogenspritzen, Vakuumverdampfen und Zerstäuben weisen auch Nachteile auf, weil die aufgebrachte Schicht gewöhnlich dünn ist, die Grenzflächenbindungafestigkeit schiecht ist, oder sie nur zur Behandlung kleiner Oberflächenbereiche angewandt werden können«The other techniques, such as arc spraying, vacuum evaporation and sputtering, also have disadvantages because the applied layer is usually thin, interfacial bonding strength is poor, or it can only be used to treat small surface areas. "

Bei der praktischen Anwendung liegen die Nachteile darin, daß Gastechniken oder Hochspannungen erforderlich sind, die Schwierigkeiten bereiten und ihre Vielseitigkeit einschränken.In practical use, the disadvantages are that guest techniques or high voltages are required, which cause difficulties and limit their versatility.

Zur einfacheren Bezugnahme" soll sich in dieser Beschreibung de;r Begriff "erstes leitfähiges chemisches Element" auf die Matrix beziehen, mit der die Verschmelzung erfolgen soll; und der Begriff "chemisches Element" soll ein derartiges Element oder eine Legierung davon kennzeichnen; der Begriff "zweites leitfähiges chemisches Element oder eine Legierung davon" soll das Element bezeichnen, das mit der Matrix verschmolzen werden soll. : For ease of reference, in this specification , the term "first conductive chemical element" shall refer to the matrix with which the fusion is to occur, and the term "chemical element" shall denote such element or an alloy thereof; "second conductive chemical element or an alloy thereof" is intended to indicate the item that is to be merged with the matrix.:

Es ist auch beabsichtigt, daß mit-dem in dieser·· Spezifikation verwendeten Begriff "Verschmelzung" eine Eindringung von Atomen oder Molekülen eines zweiten Elementes in die feste Matrix eines ersten Elementes oder einer Legierung desselben gemeint sein soll.It is also intended that the term "fusion" as used in this specification should be understood as meaning penetration of atoms or molecules of a second element into the solid matrix of a first element or alloy thereof.

Ziel der Erfindung;Aim of the invention;

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, diese Nachteile zumindest teilweise auszuschalten, indem ein neuartiges Verfahren und eine Anlage für das Verschmelzen der verschieden-The invention is therefore based on the object, at least partially eliminate these disadvantages by a novel method and a system for merging the various

~ J ~ / in/ 531 ~ J / in / 531

sten leitfähigen Elemente mit entweder eisenhaltigen oder licht-Eisen-Matrizen zur Verfügung gestellt werden.most conductive elements are provided with either iron-containing or light-iron matrices.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung betrifft eine neuartige Anlage und ein Verfahren unter Anwendung einer Auftragungstechnik bei Umgebungstemperaturen, durch die eine hohe Bindungsfestigkeit ohne Verzerrung oder Verlust von Werkstück- oder IvIatrizeneigenschaften erzielt wird.It is another object of the invention to provide a novel apparatus and method utilizing a deposition technique at ambient temperatures that achieves high bond strength without distortion or loss of workpiece or die memory properties.

Eine weitere erfindungsgemäße Aufgabe betrifft ein Verfahren, bei dem der Einsatz von Prozeßgas-Luft nicht erforderlich ist und bei dem keine Sicherheitsrisiken auftreten und durch das keine "Wärmeverzerrungen hervorgerufen werden.Another object of the invention relates to a method in which the use of process gas-air is not required and in which no security risks occur and are caused by the no "heat distortion.

Noch eine erfindungsgemäße Aufgabe betrifft ein Verfahren, das einen geringen Energieeinsatz verlangt und das Beschichtungsmaterial trotzdem wirksam angewandt wird«Yet another object of the invention relates to a process which requires a low energy input and the coating material is nevertheless used effectively.

Eine andere erfindungsgemäße Aufgabe besteht darin, eine Anlage zur Verfügung zu stellen, die billig und transportabel soviie leicht ist*Another object of the invention is to provide a plant that is cheap and portable so easy.

Noch eine erfindungsgemäße Aufgabe betrifft ein Verfahren, durch das eine feste Grenzflächenbindung geschaffen wird, und das für die Ausführung keine geübten Arbeiter erfordert.Yet another object of the invention relates to a method by which a solid interfacial bonding is provided, and which does not require skilled workers for execution.

Sine andere Aufgabe der Erfindung besteht darin, Lösungen von leitfähigen chemischen Elementen zur Verfügung zu" stellen, die für die Verschmelzung dieser chemischen Elemente mit festen Matrizen anderer leitfähiger Elemente oder Legierungen derselben eingesetzt werden können.It is another object of the invention to provide solutions of conductive chemical elements which can be used for the fusion of these chemical elements with solid matrices of other conductive elements or alloys thereof.

Eine Aufgabe der Erfindung besteht auch darin, neue und verbesserte Produkte zu erzeugen, die verbesserte physikalische und chemische Eigenschaften haben werden.It is also an object of the invention to produce new and improved products which will have improved physical and chemical properties.

Darlegung des Wesens der Erfindung:Explanation of the essence of the invention:

Gemäß der Erfindung werden ein Verfahren, eine Anlage und Lösungen zur Verfügung gestellt, die für die Veränderung der Oberflächeneigenschaften eines Metalls oder einer Legierung desselben bei Umgebungstemperaturen durch physikalisches Auftragen eines zweiten leitfähigen chemischen Elementes auf dieAccording to the invention, there is provided a method, apparatus and solutions for altering the surface properties of a metal or alloy thereof at ambient temperatures by physically applying a second conductive chemical element to the substrate

w U / \ U L L · w U / \ U L

Oberfläche, deren Kennwerte verändert werden sollen, und daa Anlegen eines zerhackten elektrischen' Signals einer bestimmten Frequenz an beide Elemente, wenn sie physikalischen Kontakt haben, eingesetzt werden,Surface whose characteristics are to be changed, and that applying a chopped electrical signal of a certain frequency to both elements when in physical contact are used,

Ea wird eine Anlage geschaffen, die einen Schwingkreis zur Erzeugung eines Halbwellensignals am Ausgang sowie Mittel für die Verbindung eines zweiten Elementes, das geschmolzen werden soll, und des ersten chemischen Elementes, mit dem das zweite verschmolzen werden soll, mit dem Ausgang aufweist..Ea a plant is created, which has a resonant circuit for generating a half-wave signal at the output and means for the connection of a second element to be melted, and the first chemical element, with which the second is to be fused, with the output.

Es werden auch Lösungen für den Einsatz bei dem Verfahren und in Verbindung mit der Anlage zur Verfügung gestellt. Diese lösungen bestehen aus einer Lösung einer leitfähigen Chemikalie der in einer dissoziierbaren Form zu verschmelzenden Chemikalie; die in einer Menge von 0,10 bis 10 Massel vorhanden sein kann und einen im Bereich von 0,4 bis.14 liegenden pH-Wert aufweist. Ea ist günstig, wenn der spezifische. Widerstand der. Lösung im Bereich von 5 bis 500 0hm-cm-liegt, vorzugsweise zwischen 10 und 80 Ohm-cm,-Solutions are also provided for use in the process and in connection with the plant. These solutions consist of a solution of a conductive chemical of the chemical to be melted in a dissociable form; which may be present in an amount of from 0.10 to 10 masses and has a pH ranging from 0.4 to 14. Ea is favorable if the specific. Resistance of the. Solution in the range of 5 to 500 ohm-cm, preferably between 10 and 80 ohm-cm,

Durch die' Anwendung des 1Verfahrens für-eisenhaltige-und ilicht-Eisenmatrizen werden neue Produkte erzeugt, in denen ein zweites" chemisches- leitfähiges Element in ein erstes chemisches' leitfähiges Element bis zu einer Tiefe von mehr als 0,5 /tun eingeschmolzen wurde und eine Oberflächenschicht des zweiten chemischen leitfähigen Elementes in Dicken von über 0,5 /Um aufgebracht worden ist·Was melted by the 'application of the procedure for 1-ferrous and ilicht-Eisenmatrizen new products are generated, in which a second "chemisches- conductive element in a first chemical' conductive element to a depth of more than 0.5 / tun and a surface layer of the second chemical conductive element has been applied in thicknesses greater than 0.5 / μm.

Ausführungsbe!spiele;! Ausführungsbe games;

Diese- und andere Aufgaben und Merkmale- der Erfindung/;w erden aus der folgenden Beschreibung und den Zeichnungen deutlicher werden, in denen spezifische·'Ausführungsbeispiele der Prozeßanlage und von Produkten des Verfahrens zur Verdeutlichung der Erfindung erläutert werden.These and other objects and features of the invention will become more apparent from the following description and drawings, in which specific embodiments of the process plant and of products of the method for illustrating the invention are explained.

In den Zeichnungen stellen dar:In the drawings:

Fig. 1 eine allgemeine perspektivische Ansicht einer Ausführungsform der erfindungs gemäß en Anlage', die für das erfindungsgemäße Verfahren eingesetzt wird-jFig. 1 is a general perspective view of an embodiment of the fiction, according to the system ', which is used for the inventive method-j

23671O I 23671O I

Fig. 2 eine allgemeine perspektivische Ansicht einer'zweiten Ausfuhr ungs form der erfindungsgemäßen Anlage, die für das erfindungsgemäße Verfahren eingesetzt wird;FIG. 2 is a general perspective view of a second embodiment of the installation according to the invention, which is used for the method according to the invention; FIG.

Fig. 3 einen schematischen elektrischen Schaltkreis für die Erfindung;Fig. 3 is a schematic electrical circuit for the invention;

Fig. 4 ein Schaltdiagramm eines Oszillators, der für die Anlage bei einer Ausführungsform der Erfindung verwendet wird;Fig. 4 is a circuit diagram of an oscillator used for installation in an embodiment of the invention;

Fig. 5 eine Mikroaufnahme in einer 500-fachen Vergrößerung einer Stahlprobe, die erfindungsgemäß mit Titanmcnokarbid behandelt wurde; . .Fig. 5 is a photomicrograph at 500x magnification of a steel sample treated with titanium mococarbide according to the invention; , ,

Fig. 6 eine Mikroaufnahme in einer 110-fachen Vergrößerung, die die Eindringung von Titan in den behandelten Prüfkörper von Fig. 5 zeigt;Fig. 6 is a photomicrograph at 110x magnification showing the penetration of titanium into the treated specimen of Fig. 5;

Fig. 7 eine Hontgenatrahlenabtastung mit einem Elektronenscndenmikroanalysator (EPMA) der Ti-K-Oberflächenschlcht des Prüfkörpers, dessen Schnitt in den Fig. 5 und 6 gezeigt wird;Fig. 7 is a photomicrograph scan with an electron scanning microanalyser (EPMA) of the Ti-K surface layer of the test specimen, the section of which is shown in Figs. 5 and 6;

Fig. 8 eine Mikroaufnahme in einer 1100-fachen Vergrößerung des in Figo 5 gezeigten Prüfkörpers nach starker Hickelplattierung und Polieren, die die Dicke der Ablagerung zeigen soll;Fig. 8 is a photomicrograph at 1100 magnification of the specimen shown in Fig. 5 after heavy hickel plating and polishing to show the thickness of the deposit;

Fig« 9 bis 16 EPMA-Zeilenabtastungen von jeweils den Stellen 1 bis 8, wie in Fig. 5„angegeben;Figs. 9 to 16 are EPMA line scans respectively of locations 1 to 8 as indicated in Fig. 5;

Fig. 17 eine EPMA-Abtastung der mit Ti angereicherten, in Fig, 8 markierten Zone;Figure 17 is an EPMA scan of the Ti-enriched zone marked in Figure 8;

Fig. 18 eine Verbund-Mikroaufnahme, aufgenommen mit einem Rastermikroskop (SEM), mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatrix, mit der Molybdän mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens von einer festen Molybdänelektrode verschmolzen, wurde; die linke Hälfte ist eine 655-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 1965-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;Fig. 18 is a composite micrograph taken with a scanning microscope (SEM) having right and left halves, a steel matrix to which molybdenum has been fused by a solid molybdenum electrode by the method of the present invention; the left half is a 655x magnification and the right half is a 1965x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 18A eine Verbund-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer weiteren Stahlmatrix, mit der Molybdän unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens von einer festen Mo-18A is a composite micrograph, with right and left half, another steel matrix, with the molybdenum using the method according to the invention of a solid Mo-

ZJO/IU L ZJO / IU L

lybdänelektrode verschmolzen -wurde; die linke Hälfte ist eine 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 3930-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;molybdenum electrode fused-became; the left half is a 1310-fold magnification and the right half a 3930-fold magnification of the area marked in the left half;

Pig. 19 ein Diagramm einer SM/EPIvIA der in Fig. 18 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Molybdän mit dem Stahl zeigt;Pig. Fig. 19 is a diagram of a SM / EPIvIA of the sample shown in Fig. 18, showing the fusion of molybdenum with the steel;

Fig., 19A ein Diagramm einer Rastermikroskopabtastung der in Fig. 19 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Molybdän mit dem Stahl zeigt;Fig. 19A is a diagram of a scanning microscopic scan of the sample shown in Fig. 19, showing the fusion of molybdenum with the steel;

Fig. 20 eine SH.I-Mikroaufnahme in 1310-facher Vergrößerung einer Stahlmatrix, mit der Wolfram mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens von einer festen Wolframelektrode verschmolzen wurde;20 shows a SH.I micrograph at 1310 × magnification of a steel matrix with which tungsten has been fused by a solid tungsten electrode by means of the method according to the invention;

Fig. 21 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 20 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Wolfram mit dem Stahl zeigt;Fig. 21 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 20, showing the fusion of tungsten with the steel;

Fig. 22 eine Verbund-SEM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Molybdän unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Molybdänlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung.-· und'die- rechte'Hälfte eine 8-fache ^ Vergrößerung· der in der linken Hälfte markierten Fläche;Fig. 22 is a composite SEM micrograph, with right and left halves, of a copper matrix fused to molybdenum from a molybdenum solution using the method of the present invention. The left half is a 1250x magnification.- and the "right" half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 23 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 22 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Molybdän mit Kupfer zeigt;Fig. 23 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 22, showing the fusion of molybdenum with copper;

Fig. 24 eine Verbund-SEM-Mikroaufnähme, mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatrix, mit der Molybdän-unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Molybdänlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 8-fache Vergrößerung der in der linken Hälfte markierten Fläche;Figure 24 is a composite SEM micrograph, right and left half, of a steel matrix to which molybdenum was fused from a molybdenum solution using the method of the present invention. The left half is a 1250x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 25 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 24 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Molybdän mit Stahl zeigt;Fig. 25 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 24, showing the fusion of molybdenum with steel;

Fig. 26 eine Verbundmikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Wolfram unter Anwendung desFig. 26 is a composite micrograph, with right and left half, a copper matrix, with the tungsten using the

erfindungsgemäßen Yerfahrena aus einer Wolframlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;Yerfahrena invention was fused from a tungsten solution. The left half is a 1250x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig» 27 eine weitere SSI-Mikroaufnahme der Probe von Fig. 26 in einer 10 000-fachen Vergrößerung eines Teiles des in Figo 26 markierten Bereichs;FIG. 27 shows a further SSI micrograph of the sample of FIG. 26 at a magnification of 10,000 times a portion of the region marked in FIG. 26; FIG.

Fig. 28 ein Diagramm einer SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der in den Fig. 21S und 2ψ £P) gezeigten Probe;28 is a diagram of a SEM / ΕΡΜΑ scanning of the sample shown in Figures 2 and 1 S 2ψ £ P)..;

Fig. 29 eine Verbundmikrcaufnahme, mit rechter und linker Half-.. te, einer Stahlmatrix, mit der Wolfram unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Wolframlösung verschmolzen wurde, Die; linke Hälfte ist eine 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;FIG. 29 is a composite micrograph, with right and left halfs, of a steel matrix to which tungsten has been fused from a tungsten solution using the method of the present invention ; left half is a 1310x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 30 ein Diagramm einer SM/SPMA-Abtastung der in Fig. 29 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Wolfram mit Stahl zeigt;Fig. 30 is a diagram of an SM / SPMA scan of the sample shown in Fig. 29, showing the fusion of tungsten with steel;

Fig. 31 eine Verbund-Mikrοaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Indium mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Indiumlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung und die-rechte Hälfte" ist eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;31 shows a composite micrograph, with right and left halves, of a copper matrix, with which indium was fused with the aid of the method according to the invention from an indium solution. The left half is a 1250x magnification and the right half "is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 32 ein Diagramm einer Elektronenmikrosondenabtastung der in Fig. 31 gezeigten Probe;Fig. 32 is a diagram of an electron microprobe scan of the sample shown in Fig. 31;

Fig. 33 eine Verbund-SM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatrix, mit der Indium unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Indiumlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 625-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 8-fache des in der linken Hälfte markierten Bereichs;33 shows a composite SM micrograph, with right and left halves, of a steel matrix to which indium has been fused from an indium solution using the method according to the invention. The left half is a 625x magnification and the right half is 8x the area marked in the left half;

Fig. 34' ein Diagramm einer SEM/SPMA-Abtastung der in Fig. 33 gezeigten Probe;Fig. 34 'is a diagram of an SEM / SPMA scan of the sample shown in Fig. 33;

ZJb/ I ϋ Ι ZJb / I ϋ Ι

Fig, 35 eine Verbtmd-SEM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Nickel unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer ITickellcsung verschmolzen wurde· Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung dea in der linken Hälfte markierten Bereichs;Fig. 35 is a cross-section SEM micrograph, with right and left halves, of a copper matrix fused to nickel from a nickel package using the method of the present invention. The left half is a 1250X magnification and the right half is an 8X magnification. magnify dea in the left half marked area;

Fig. 36 ein Diagramm einer SM/EPMA-Abtastung der in Fig. 35 gezeigten Probe;Fig. 36 is a diagram of an SM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 35;

Fig. 37 eine Verbund-SEM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatrix, mit" der Nickel unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer Nickellösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine. 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;Fig. 37 is a composite SEM micrograph with right and left halves, a steel matrix, fused with nickel from the nickel solution using the process of the present invention, the left half is a 1310x magnification, and the right half is one 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 38 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 37 gezeigten Probe; 'Fig. 38 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 37; '

Fig. 39 eine Verbundmikroaufnahme einer Kupfermatrix, mit der Gold verschmolzen 'wurde.-. Die. linke Hälfte ist eine , 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung· des' in der linken Halfte markierten Bereichs;Fig. 39 is a composite micrograph of a copper matrix with which gold has been fused. The. left half is a 1310x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 40 ein Diagramm einer SEM/SPMA-Abtastung der in Fig. 39 gezeigten Probe, das mit der Kupfermatrix verschmolzenes Gold (k.J zeigt;Fig. 40 is a diagram of an SEM / SPMA scan of the sample shown in Fig. 39 showing fused gold ( kJ) with the copper matrix;

Fig. 41 eine Verbundmikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatrix, mit der Gold unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens' verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;Fig. 41 is a composite micrograph, with right and left halves, of a steel matrix to which gold has been fused using the process of the present invention. The left half is a 1310x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 42 ein Diagramm einer SM/EPMA-Abtastung der in Fig. 40 gezeigten Probe, das in die Stahlmatrix eingeschmolzenes Gold zeigt;Fig. 42 is a diagram of an SM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 40, showing gold molten in the steel matrix;

Fig. 43 eine SEM-Mikroaufnähme in 10 000-facher Vergrößerung von einer Kupfermatrix, mit der Chrom unter Anwendung des er-FIG. 43 shows an SEM micrograph magnified 10 000 times from a copper matrix with which chromium is deposited using the

findungagemäßen Verfahrens aus einer ersten Chromlösung verschmolzen wurde.In accordance with the invention, the process was melted from a first chromium solution.

Pig. 44 ein Diagramm einer SM/ SPM A- Ab tastung der in Fig. 43 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Chrom mit Kupfer zeigt 5Pig. FIG. 44 is a diagram of an SM / SPM A scan of the sample shown in FIG. 43 showing the fusion of chromium with copper 5. FIG

Fig. 45 eine SEM-Mikrοaufnähme in einer 10 000-fachen Vergrößerung von einer Stahlmatrix, mit der Chrom unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus der oben genannten ersten Chromlösung verschmolzen wurde;Fig. 45 shows an SEM micrograph magnified 10,000X from a steel matrix to which chromium has been fused using the method of the present invention from the above-mentioned first chromium solution;

Fig,- 46 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 45 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Chrom mit Stahl zeigt;Fig. 46 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 45, showing the fusion of chromium with steel;

Fig. 47 eine Verbund-SEM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Chrom unter Anwendung des erf Ladungsgemäßen Verfahrens aus einer zweiten Chromlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 625-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 8-fache Vergrößerung des in der linken Hälfte markierten Bereichs;47 shows a composite SEM micrograph, with right and left half, of a copper matrix, with which chromium was fused from a second chromium solution using the method according to the invention. The left half is a 625x magnification and the right half is an 8x magnification of the area marked in the left half;

Fig. 47A eine stärker vergrößerte SEEvI-M ikr ο auf nähme des vergrößerten Bereichs von Fig. 47 in einer 10 000-fachen Vergrößerung;Fig. 47A is a more enlarged SEEvI-M ikr ο at the enlarged portion of Fig. 47 at a magnification of 10,000X;

Fig. 48 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 47 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Chrom mit Kupfer zeigt;Fig. 48 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 47, showing the fusion of chromium with copper;

Fig. 49 eine Verbund-SEM-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Stahlmatris, mit der Chrom unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer zweiten Chromlösung verschmolzen wurde. Die linke Hälfte ist eine 1250-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung • des in der linken Hälfte markierten Bereichs;49 shows a composite SEM micrograph, with right and left half, of a steel matris with which chromium has been fused from a second chromium solution using the method according to the invention. The left half is a 1250x magnification and the right half is an 8x magnification • of the area marked in the left half;

Fig. 49A eine stärker vergrößerte SM-M ikro auf nähme des vergrößerten Bereichs von Fig. 49 in einer 10 000-fachen Vergrößerung;Fig. 49A shows a more enlarged SM-axis at the magnified area of Fig. 49 at a magnification of 10,000X;

Fig. 50 ein Diagramm einer SM/EPMA-Abtastung der in Fig* 48 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Chrom mit Stahl zeigt;Fig. 50 is a diagram of an SM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 48 showing the fusion of chromium with steel;

23671 023671 0

/ -. —/ -. -

Pig. 51 eine·Verbund-Mikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Cadmium unter Anwendung dea erfind unga gemäß en Verfahrens aus einer ersten Cadmiumlösung verschmolzen wurde; die linke Hälfte ist eine 1310-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 5-fache Vergrößerung dea markierten Bereichs;Pig. 51 a composite micrograph, with right and left halves, of a copper matrix with which cadmium has been fused from a first cadmium solution using the invented method; the left half is a 1310x magnification and the right half is a 5x magnification of the marked area;

Fig. 52 ein Diagramm einer SEM/EPMA-Abtastung der in Flg. 51 gezeigten Probe, das eine Verschmelzung von Cadmium mit Kupfer zeigt;Fig. 52 is a diagram of an SEM / EPMA scan of the type shown in Flg. 51, which shows a fusion of cadmium with copper;

Fig. 53 eine Mikroaufnahme in 11 500-facher Vergrößerung...von einer Stahlmatrix, mit der Cadmium unter Anwendung des erfindungsgemäSen Ve rf ahrens "aus einer'; zweiten Cadmiumlösung verschmolzen wurde;Fig. 53 is a micrograph at 11 500 x magnification ... of a steel matrix to which cadmium has been fused using the "cadmium" second solution of the present invention;

Fig. 54 ein Diagramm einer SM/EPMA-Abtastung der in Fig. 53 gezeigten Probe., das die Verschmelzung von Cadmium mit Stahl ζ e igt;Fig. 54 is a diagram of an SM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 53, showing the fusion of cadmium with steel;

Fig» 55 eine Verbundmikroaufnahme, mit rechter : und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, ..mit der Zinn unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer ersten Zinnlösung verschmolzen wurde; die., linke Hälfte ist eine 655-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung des markierten Bereichs;Figure 55 is a composite micrograph, with right and left halves, of a copper matrix, with which tin has been fused from a first tin solution using the method of the present invention; the., left half is a 655x magnification and the right half is an 8x magnification of the marked area;

Flgr 56 eine""SEM/EPMA-Abtastung der Probe von Fig. 55, das die Verschmelzung von Zinn mit Zupfer; zeigt;Fig. 55 shows an SEM / EPMA scan of the sample of Fig. 55 showing the fusion of tin with pluck; shows;

Fig. 57 eine Verbundmikroaufnahme, mit rechter und linker Hälfte, einer Kupfermatrix, mit der Zinn unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer zweiten Zinnlösung verschmolzen wurde; die linke Hälfte ist eine 326-fache Vergrößerung und die rechte Hälfte eine 8-fache Vergrößerung des markierten Bereichs;Figure 57 is a composite micrograph, with right and left halves, of a copper matrix to which tin has been fused using the process of the present invention from a second tin solution; the left half is a 326x magnification and the right half is an 8x magnification of the marked area;

Fig. 58 eine SEM/EPMA-Abtastung der Probe von Fig. 57, das die Verschmelzung von Zinn mit Kupfer;zeigt; .Fig. 58 is an SEM / EPMA scan of the sample of Fig. 57 showing the fusion of tin with copper; ,

Fig. 59 eine Verbund-SEM-Mikroaufnähme, mit rechter und linker Hälfte einer Stahlmatrix, mit der Zinn unter Anwendung desFigure 59 is a composite SEM micrograph, with right and left half of a steel matrix, with the tin using the

/SUZ/ IIP

erfindungsgemäßen Verfahrens aus der zweiten Zinnlösung verschmölzen wurde; die rechte Hälfte ist eine 1310-fache Vergrößerung und die linke Hälfte ist eine 8-fache Vergrößerung des markierten Bereichs;inventive method was fumigated from the second tin solution; the right half is a 1310x magnification and the left half is an 8x magnification of the marked area;

Fig. 60 eine SEM/EPMA-Abtastung der in Pig. 59 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Zinn mit Stahl zeigt;Fig. 60 shows an SEM / EPMA scan of the type in Pig. 59, which shows the fusion of tin with steel;

Pig. 61 eine SEM-Mikroaufnähme in einer 5200-fachen Vergrößerung von einer Kupfermatrix, mit der Kobalt unter ·Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer ersten Kobaltlösung verschmolzen wurde; - Pig. Figure 61 shows an SEM micrograph at 5200 magnification of a copper matrix to which cobalt has been fused from a first cobalt solution using the method of the present invention; -

Pig. 62 eine SEM/EPMA-Abtastung der in Fig. 61 gezeigten Probe, das die Verschmelzung von Kobalt mit Kupfer zeigt;Pig. Fig. 62 is an SEM / EPMA scan of the sample shown in Fig. 61 showing the fusion of cobalt with copper;

Fig. 63 und 63A Mikroaufnahmen einer Kupfermatrix, mit der Silber unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer ersten Silberlösung verschmolzen wurde;FIGS. 63 and 63A are micrographs of a copper matrix fused to silver from a first silver solution using the method of the invention;

Fig. 63 ein Verbund, wobei die linke Hälfte eine 625-fache Vergrößerung ist und die rechte Hälfte eine 8-fache Vergrößerung des markierten Bereichs · ist;Fig. 63 is a composite wherein the left half is 625 times magnification and the right half is 8 times magnification of the marked area.

Fig. 63A eine stärker vergrößerte SM-Mikroaufnahme des vergrößerten Bereichs von Fig. 63 in einer 10 000-fachen Vergrößerung;Fig. 63A is a more magnified SM micrograph of the enlarged portion of Fig. 63 at 10,000X magnification;

Fig. 64 eine SEM/EPMA-Abtastung der Probe von Fig. 63, das die Verschmelzung von Silber mit Kupfer zeigt;Fig. 64 is an SEM / EPMA scan of the sample of Fig. 63 showing the fusion of silver with copper;

Fig. 65 eine SEM-Mikroaufnähme in 10 000-facher Vergrößerung von einer Kupfermatrix, mit der Silber unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einer zweiten Silberlösung verschmolzen wurde;Fig. 65 shows an SEM micrograph magnified 10,000X from a copper matrix to which silver has been fused from a second silver solution using the method of the present invention;

Fig. 66 eine Elektronenmikrosondenabtastung der Probe von Fig.FIG. 66 shows an electron microprobe scan of the sample of FIG.

65, die die Verschmelzung von Silber mit Kupfer zeigt*65, which shows the fusion of silver with copper *

In den Diagramme; darstellenden Figuren, von Fig. 19 bis FigoIn the diagrams; illustrative figures, from Fig. 19 to Figo

66, ist die vertikale Achse logarithmisch, während die horizontale Achse linear ist. Und in diesen Diagrammen wurde die Oberflächenschicht -an der Stelle ermittelt, an der die Konzentration (Massel) der Matrix und des damit verschmolzenen66, the vertical axis is logarithmic, while the horizontal axis is linear. And in these diagrams, the surface layer was determined at the point where the concentration (ingot) of the matrix and the fused therewith

-•12 -- • 12 -

23671 O23671 O

Elementes beide 50 % betragen, wie durch die Verlängerungen verdeutlicht wird. VBoth elements are both 50 % , as illustrated by the extensions. V

Die Pig. 1 und Fig. 2 der Zeichnungen zeigen in allgemeiner perspektivischer Ansicht die erfihdungsgemäße Anlage, die zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eingesetzt wird»The pig. 1 and 2 of the drawings show a general perspective view of the installation according to the invention, which is used to carry out the method according to the invention »

In Pig. 1, die ein Feststoff-mit-Feststoff-Verfahren verdeutlicht, bezeichnet die Nummer 10 eine Energiequelle und 11 einen Oszillator«In Pig. 1, which illustrates a solid-solid process, the number 10 designates an energy source and 11 an oscillator «

Eine Seite des Oszillatorausganges ist durch eine Fassung 12 mit der Elektrode 13 verbunden. Die Fassung 12 ist mit einem drehbaren Spannfutter versehen und besitzt einen Auslöseschalter, der die Drehgeschwindigkeit der Elektrode 13 steuert. Die Drehzahl ist zwischen 5000 bis 10 Ό00 U/min variabel«,One side of the oscillator output is connected by a socket 12 to the electrode 13. The socket 12 is provided with a rotatable chuck and has a trigger switch which controls the rotational speed of the electrode 13. The speed is variable between 5000 and 10 Ό00 rpm «,

Die Elektrode 13 besteht aus dem mit der Matrix zu verschmelzenden Material. Die Matrix oder das Substrat, für die (das) das Verfahren angewandt und die (das) behandelt werden soll, ist mit 14 bezeichnet. Die Matrix ist auch mit der anderen Seite»des Oszillatorausganges durch eine Klemme 15 und Leitung 16 verbundeneThe electrode 13 consists of the material to be fused with the matrix. The matrix or substrate for which the method is to be used and which is to be treated is designated 14. The matrix is also connected to the other side of the oscillator output through a terminal 15 and line 16

Durch diese Verbindungen wird die Elektrode positiv und die Matrix negativ geladen, wenn das Signal angelegt wird»These connections make the electrode positive and the matrix negatively charged when the signal is applied »

In Fig« 2 sind.die entsprechenden Bestandteile entsprechend numeriert. Aber bei dieser Ausführungsform kann das angewandte Verfahren als Flussigkeit-mit-Feststoff-Prozeß charakterisiert werden. In dieser.Anlage weist das zu verschmelzende Material e Form /aüfuna befindet sich in -einem Behälter·-17. Der Behälter 17 ist durch ein Rohr 18 mit einer Elektrode. 19 verbunden. Elektrode 19 ist eine Platte, die mit einem isolierten Griff 20 versehen ist, mit dein, eine Seite des Ausganges von Oszillator 11 verbunden ist. Dieser Ausgang wird in einen Hauptkanal 21 in Elektrode 19 geführt. Kanal 21 ist mit einer Reihe von Seitenkanälen 22 versehen, die zur Unterseite der Elektrode 20 hin offen sind. Das Fließen aus dem Behälter 17 erfolgt durch Schwerkraft oder mit Hilfe einer Pumpe und kann durch ein Ventil wie bei 23 am Griff 20 reguliert werden. ZurIn Fig. 2 sind.die corresponding components are numbered accordingly. But in this embodiment, the process used can be characterized as a liquid-by-solid process. In dieser.Anlage, the material to be fused form e / aüfuna is in -this container · -17. The container 17 is through a tube 18 with an electrode. 19 connected. Electrode 19 is a plate provided with an insulated handle 20 to which one side of the output of oscillator 11 is connected. This output is fed into a main channel 21 in electrode 19. Channel 21 is provided with a series of side channels 22 which are open to the bottom of the electrode 20. The flow from the container 17 is by gravity or by means of a pump and can be regulated by a valve as in 23 on the handle 20. to

ι υ ι ι υ ι

weiteren Steuerung, zur gleichmäßigeren Verteilung der Lösung und zur Verhinderung des Einschlusses von Fremdstoffen ist die Oberfläche von Elektrode -19 vorzugsweise mit einer durchlässigen Membran wie Baumwolle oder rlylon überzogen.Further control, for more uniform distribution of the solution and for preventing the inclusion of foreign substances, the surface of electrode 19 is preferably coated with a permeable membrane such as cotton or rlylon.

Es hat sich herausgestellt, daß zur Erzielung der VerschmelzungIt has been found that to achieve the merger

die Anlegung von 50 000 Watt/cm oder alternativ die Anlegungthe application of 50 000 watts / cm or alternatively the application

eines Stromes in der Größenordnung von 10 000 A/cm erforderlich ist. . a current of the order of 10 000 A / cm is required. ,

Aus praktischen Erwägungen können 10 000 A/cm nicht konstant ohne Beschädigung der zu behandelnden Matrix angelegt werden.As a practical matter, 10,000 A / cm can not be applied consistently without damaging the matrix to be treated.

Es hat sich allerdings als durchführbar erwiesen, ein Impulssignal 2,5 Mikrosekunden bis 28,6 Fanosekunden lang mit einer Stärke von 3 A an die Elektrode anzulegen, wodurch die Ver-However, it has proved feasible to apply a pulse signal of 2.5 A to 28 A for a duration of 3 A to the electrode for a period of 2.5 seconds to 28.6

2 Schmelzung auf einer Fläche von annähernd 0,3 mm erfolgt.2 melt on an area of approximately 0.3 mm.

Um eine Verschmelzung auf einer Fläche mit der in Fig. 1 gezeigten Anlage durchaufuhren, werden die Elektrode 13, Matrix Η und der Oszillatorausgang wie gezeigt-miteinander verbunden.To complete a fusion on a surface with the equipment shown in Fig. 1, the electrode 13, matrix Η and the oscillator output are connected together as shown.

Der Arbeiter führt die sich drehende Elektrode 135 die mit der Oberfläche der Matrix in Berührung steht, mit einer bestimmten Geschwindigkeit über die Matrixoberfläche, um das Elektrodenmaterial auf die Matrix aufzutragen und damit zu verschmelzen.The worker performs the rotating electrode 13 5 communicating with the surface of the matrix in contact with a certain speed on the matrix surface, to deposit the electrode material on the matrix and to fuse it.

Es hat sich ebenfalls gezeigt, daß die kontinuierliche Anlegung 6ines Wechselsignals beträchtliche Wärme in dem Substrat oder der Matrix erzeugt, und um diese Wärmeansammlung zu beseitigen und Verschweißungen zu vermeiden, ist das in der erfindungsgemäßen Anlage erzeugte Signal ein Halbwellensignal, das die Ableitung von Wärme ermöglicht.It has also been found that the continuous application of an alternating signal generates considerable heat in the substrate or matrix, and to eliminate this accumulation of heat and avoid welding, the signal generated in the system according to the invention is a half-wave signal enabling the dissipation of heat ,

Wie dem Fachmann bekannt ist, hat jedes Material, sowohl die , Matrix als auch'das aufzutragende Material, spezifische Widerstandskennwerte. So wird mit jeder Veränderung bei einem dieser Stoffe oder bei beiden eine Veränderung im spezifischen Widerstand des Stromkreises verbunden sein.As known to those skilled in the art, each material, both the matrix and the material to be applied, has resistivity characteristics. Thus, any change in either or both of these substances will be associated with a change in the resistivity of the circuit.

In Fig. 3 sind R- = der Widerstand der ElektrodeIn Fig. 3, R = the resistance of the electrode

R2 = der Widerstand der Matrix und Ro = der Widerstand des Stromkreises von 10 undR 2 = the resistance of the matrix and Ro = the resistance of the circuit of 10 and

I tI t

u / s yu / s y

Eine Veränderung von R.. und R2 wird zu Veränderungen der Fre- '. quenz dea erzeugten Signals und der Amplitude dieses Signals führen.A change of R .. and R 2 becomes changes of Fre- '. frequency of the generated signal and the amplitude of this signal.

Wie bereits ermähnt, wird von einem Signal mit einer .Amplitude von 3 A angenommen, daß ea die bevorzugte Amplitude hat. Iat die Amplitude höher, tritt Entkohlung oder Verbrennen der Matrix auf und bei darunter liegender Amplitude werden in der Grenzfläche Hydroxide gebildet.As already mentioned, it is assumed by a signal with an amplitude of 3 A that ea has the preferred amplitude. If the amplitude is higher, decarburization or burning of the matrix occurs, and at lower amplitude, hydroxides are formed in the interface.

Pig. 4 ist ein schematischea Diagramm einer Oszillatorschaltung, wie aie bei einer erfindungagemäßen Anlage angewendet wird«Pig. 4 is a schematic diagram of an oscillator circuit as applied to a system according to the invention. "

In diesem Stromkreia iat eine Energiequelle 30 mit dem Eingang verbunden und an den Eingang ist ein Kondensator 31 angeachloaaen. Eine Seite des Kondensators 31 ist mit dem LC-Stromkreia 32 verbunden, der eine Regeldroaaelapule 33 und einen Kondenaator 34 enthält, die parallel geschaltet sind.In this Stromkreia iat a power source 30 connected to the input and to the input a capacitor 31 is angeachloaaen. One side of the capacitor 31 is connected to the LC power circuit 32, which includes a control battery 33 and a condenser 34, which are connected in parallel.

Der LC-Stromkreia 32 ist mit einer Seite einer Kristalloszillatorschaltung verbunden, die Kristall 35, Drosselspule 36» UPN-Transistor 37 und den RC-Stromkreis' mit dem Regelwiderstand 38 und dem kapazitiven Widerstand 39 umfaßt.The LC Stromkreia 32 is connected to one side of a crystal oscillator circuit comprising crystal 35, inductor 36 »UPN transistor 37 and the RC circuit with the variable resistor 38 and the capacitive resistor 39.

Dieaer,Oszillatoratromkreia iat mit dem Ausgang 50 verbunden, und zviar an einer Seite durch den Kondenaator 40 und an derThe oscillator array is connected to the output 50, and zviar on one side by the condenser 40 and at the

/--\ anderen. Seite durch Diode 41 , um am Auagang 50 ein Halbwellen- *-"" signal zu erzeugen./ - \ other. Page through diode 41, to generate a half-wave * - "" signal at the Auagang 50.

In der tatsächlich benutzten Anlage /hatten die einzelnen Bestandteile folgende KennwertesIn the actually used plant / the individual components had the following characteristics

31 = 1,2 /U-Parad31 = 1.2 / U-Parad

32 = 0,3 Pikofarad32 = 0.3 picofarad

33 = 0 - 25 Millihenry33 = 0 - 25 millihenry

35 = 400 - 30 kHz35 = 400 - 30 kHz

36 = 20 Millihenry36 = 20 millihenries

37 = IPN37 = IPN

38 = 3,5 /U-Farad38 = 3.5 / U Farad

39 = 0 - 500 0hm39 = 0 - 500 0hm

40 = 400 /U-Farad40 = 400 / U Farad

41 = Diode41 = diode

-15 - ι jo / ι υ ι -15 - ι jo / ι υ ι

Um die Amplitude dea Signala auf 3 A zu halten, wird R^-Widerstand 38 variiert; zur Veränderung der Frequenz wird Drosaelapule 33 variiert.To keep the amplitude of the signala at 3 A, R ^ resistance 38 is varied; Drosaelapule 33 is varied to change the frequency.

Wenn C = die Kapazität der Schaltung von Pig« 3 und R-, Rp und R^ die oben charakteriaierten Wideratände aind, dann kann man' davon ausgehen, daß die optimale Frequenz dea SchmelzeignalaIf C = the capacitance of the circuit of Pig «3 and R-, Rp and R ^ are the resistances characterized above, then one can assume that the optimum frequency is the melt signala

F aus folgender Formel bestimmt werden kann ο · ° .F can be determined from the following formula ο °.

F Formel IF Formula I

2? -/lc?2? - / lc?

worin bedeutenj L = ILeRo «Rowhere L = ILeRo «Ro

und G = Kapazität dea Stromkreises«and G = capacitance of the circuit «

L und C können nach Jeder allgemein bekannten Methode bestimmt werden.L and C can be determined by any well-known method.

F ist von dem zu behandelnden Material und dem aufzubringenden Material abhängig, wird aber im Bereich von 400 Hz bia 35 MHz liegen» Man nimmt an, daß die Frequenz· die Geschwindigkeit des Prozesses bestimmt.F depends on the material to be treated and the material to be applied, but will be in the range of 400 Hz to 35 MHz. It is believed that the frequency determines the speed of the process.

Zum Verschmelzen, einer bestimmten Fläche wird dieselbe.gemessen,For merging, a certain area the same is measured,

ρ Da durch jede Entladung annähernd 0,3 mm geschmolzen werden, wird die - Vorachubgeschwindigkeit durch die folgende Formel bestimmt :Since approximately 0.3 mm are melted by each discharge, the Vorachub velocity is determined by the following formula:

Vorschubgeschwindigkeit = " pormel ιχ Feed rate = " pormel ιχ

^4^. and ^ 4 ^. and

2 A = zu beschichtende Fläche in mm F-= die Anzahl der Entladungen pro Sekunde.2 A = area to be coated in mm F = the number of discharges per second.

Wie oben erläutert wurde, können die Widerstände R- und Rp nach jeder bekannten Methode gemessen werden»As explained above, the resistances R and Rp can be measured by any known method »

Es ist jedoch entdeckt worden, daß die Meaaung dea Widerstandes in der flüssigen Phase möglicherweise nicht gleichbleibend ist. In diesem Fall wird der Widerstand mit Hilfe einer Standardmethode gemessen. Zwei Elektroden in einem Abstand von 1 cm undHowever, it has been discovered that the mechanism of resistance in the liquid phase may not be consistent. In this case, the resistance is measured using a standard method. Two electrodes at a distance of 1 cm and

23671O 223671O 2

mit einer Fläche von 1 cm werden in ein Bad der flüssigen Phase eingesetzt and der Widerstand wird nach einer Verzögerung von 20 Sekunden gemessen. Nachdem die variablen Parameter bestimmt worden sind und Anlage, Matrix und Sonde wie in den Fig» 1 und 3 gezeigt verbunden worden aind, wird die Sonde 13 mit der festgelegten Geschwindigkeit über die Oberfläche der Matrix geführt, wobei sie dieselbe berührt»with an area of 1 cm are placed in a bath of the liquid phase and the resistance is measured after a delay of 20 seconds. After the variable parameters have been determined and the equipment, matrix and probe have been connected as shown in Figures 1 and 3, the probe 13 is passed over the surface of the matrix at the specified speed, touching the same »

Von der Drehzahl nimmt man gleichfalls an, daS sie die Qualität einer Verschmelzung beeinflußt, wobei bei einer Drehzahl von 5000 U/min eine Oberflächenbeschaffenheit in einer ungleichmäßigen 200 bis 300 /um Ausführung erzielt wird und bei einer Drehzahl von 10 000 U/min die Oberflächenbeachaffenheit im wesentlichen eine 15 /um Ausführung aufweist.The speed is also believed to affect the quality of fusion, with a surface finish in a non-uniform 200 to 300 / μm design being achieved at a speed of 5000 rpm, and surface finish at a speed of 10,000 rpm essentially has a 15 / um execution.

Die Anlage von Pig. 2 vsird in der gleichen Weise wie die Anlage von.Fig. 1 betrieben, und das Verfahren ist im wesentlichen das gleiche, nur wird eine Flüssigkeit mit einer festen Elektrode verwendeteThe plant of Pig. 2 vsird in the same way as the attachment of.Fig. 1, and the process is essentially the same, except that a liquid with a solid electrode is used

Aus den folgenden spezifischen Beispielen wird das Verfahren noch deutlicher werden«The procedure will become even clearer from the following specific examples. «

Bei jedem"dieser Beispiele war die -Elektrode'so angeschlossen, wie es aus der Beschreibung hervorgehen wird, so daß nach dem Laden die Elektrode positiv und die Matrix negativ geladen ist.In each of these examples, the electrode was connected as shown in the description, so that after charging the electrode is positive and the matrix negatively charged.

Der Feststoff-mit-Feststoff-Prozeß wird durch die Beispiele . I, II, HA, III und IV veranschaulicht*The solid-by-solid process is exemplified by the examples. I, II, HA, III and IV illustrate *

Beispiel IExample I

Werkzeugstahl^ Atlas A151 OT'wurde als Matrix 14 mit der Anlage von Fig. 1 verbunden und als Elektrode 13- diente als Kennametal K165 bezeichnetes Titancarbid.Tool steel ^ Atlas A151 OT 'was connected as matrix 14 to the plant of Fig. 1, and as electrode 13- was used as titanium carbide designated as Kennametal K165.

Im folgenden sind die Kennwerte und die Behandlungsbedingungen aufgeführt:The following are the characteristics and treatment conditions:

Matrixwiderstanä 0,002 0hmMatrix resistance 0.002 ohms

Sondenwiderstand 0,026 0hmProbe resistance 0.026 ohms

Stromkreiswiderstand ·0,01 OhmCircuit resistance · 0.01 ohms

-π- I Jb/ ! U Ί -π- I Jb /! U Ί

Frequenz (F1) 12 kHz bei 4,62 yU-FaradFrequency (F 1 ) 12 kHz at 4.62 yU Farad

Spannung 3 VoltVoltage 3 volts

Auftragungsgeschwindigkeit 50 cm/MinuteApplication speed 50 cm / minute

Behandlungstiefe # 40 /umTreatment depth # 40 / um

Oberflächendickenzunahme £0,5 /umSurface thickness increase £ 0.5 / um

Die Ergebnisse von der Behandlung dea Werkzeugstahles Atlas A151 01 mit dem Titankarbid sind in den Mikroaufnahmen und den Spektrometerabtastungen von Fig. 5 bia Fig. 17 wiedergegeben.The results from the treatment of the tool steel Atlas A151 01 with the titanium carbide are shown in the micrographs and the spectrometer scans of Fig. 5 to Fig. 17.

Der polierte und mit Titankarbid behandelte Stahl wurde mit Hil fe von SM/BPMA untersucht und zeigte das Aussehen von Fig. 5° Von Jeder der in Fig. 1 angegebenen numerierten Stellen wurden Röntgenaufnahmen gemacht und diese werden in den Diagrammen der Fig. 9 bis 16 gezeigt und sie entsprechen jeweils den Stellen 1 bia 8.The polished and titanium carbide-treated steel was examined by means of SM / BPMA and showed the appearance of Fig. 5 °. From each of the numbered locations indicated in Fig. 1, X-ray images were taken and these are shown in the graphs of Figs shown and they correspond to the points 1 bia 8, respectively.

Fig. 9, 10 und 11 geben Spektren des Grundmetalls wieder.Figures 9, 10 and 11 represent spectra of the parent metal.

Fig 12 bis 16 zeigen das Vorhandensein einer kleinen Titanapitze, deren Höhe sich bei Überkreuzen der Zone nicht merklich ver änderte. Figures 12 to 16 show the presence of a small titanium cap whose height did not change appreciably when crossing the zone.

Wie aus Fig. 6 hervorgeht, ist die annähernde Breite der Zone, in der Titan nachgewiesen wurde, etwa 50 /Um, obwohl sich diese Dimension mit der Prüfkörperlänge veränderte.As is apparent from Fig. 6, the approximate width of the zone in which titanium was detected is about 50 / μm, although this dimension changed with the length of the probe.

Eine-TJ-nte-r-a-ttchung" der^Obe'rflächenschicht unter Einsatz eines Mikrosondenanalysators ergab das in Fig. 7 wiedergegebene Ti-K-d Röntgenbild, das zeigt,- daß die Titanmenge bis zu einer gemessenen Tiefe von etwa 40 /um ziemlich konstant war.TJ nte coverage of the top surface layer using a microprobe analyzer gave the Ti-Kd X-ray image shown in Figure 7, which shows that the amount of titanium was fairly constant to a measured depth of about 40 / um was.

Die Probe wurde anschließend mit einem dicken Mckelüberzug versehen und wieder poliert. Wie aus Fig. 5 zu sehen ist, zeigt die angefertigte Rastermikroaufnahme eine Oberflächenschicht von etwa 1/2 Mikrometer. Fig. 17 ist ein Röntgenspektrum dieser Schicht.The sample was then covered with a thick coat of Mckel and polished again. As can be seen from Fig. 5, the custom built scanning micrograph showing a surface layer approximately 1/2 micrometers. Fig. 17 is an X-ray spectrum of this layer.

Anschließend wurde eine Härteprüfung der beschichteten Stahlprobe vorgenommen, und es wurden die in Tabelle I aufgeführten Ergebnisse ermittelt.A hardness test of the coated steel sample was then carried out and the results listed in Table I were determined.

Z/ I UZ / I U

Tabelle ITable I

Knoop-Härteteats, Belastung 100 GrammKnoop-hardened beats, load 100 grams angereicherte Zoneenriched zone 650650 (2)(2) Entfernungdistance zur Prüfkörperkante KHNto the test piece edge KHN 536  536 516516 (Zoll)(Inch) (D(D 655655 728728 0,0005) Ti 0,0005) Ti 790790 770770 0,001 )0.001) 863863 872872 0,0015)0.0015) 955955 10061006 0,0020,002 536536 10061006 0,00250.0025 243243 453453 0,0030,003 -- 0,0040,004 148148 0,0050.005 0,010.01

Wie man feststellen wird, waren die Härtekennwerte des Stahles erheblich verbessert worden.As you will notice, the hardness characteristics of the steel have been significantly improved.

Beispiel II., Example II .,

Stahl 1018 wurde mit der Anlage von Fig. 1 als Matrix 14 verbunden und als Elektrode 13 diente Molybdän, Typ Mo 1, Der Stahl war 72 Zoll breit, χ Y 4 Zoll dick χ 11/2 Zoll lang, das Molybdän 1 Zoll lang bei einem Durchmesser von 4 mm. Die angelegte Frequenz betrug 43» 31 kHz und die Geschwindigkeit der Elektrodendrehung annähernd 12 000 U/min.1018 steel was connected to the system of Fig. 1 as the matrix 14 and served as the electrode 13 of molybdenum, type Mo 1, the steel was 72 inches wide, Y χ 4 inch thick χ 1 1/2 inches long, the molybdenum 1 inch long at a diameter of 4 mm. The applied frequency was 43-31 kHz and the rate of electrode rotation was approximately 12,000 rpm.

Die Oberfläche des Stahla wurde bia zu einer Oberflächengüte mit einer Körnung.von. 600 abgeschliffen. ..Die, Elektrodenapitze wurde mit der Hand über die Oberfläche der Stahlprobe in geraden nebeneinanderlegenden Linien geführt'. Der "Vorgang wurde in 90 wiederholt, um die ganze Oberfläche zu bedecken. Unter dem Lichtmikroskop konnten bei, einer. 40-fachen Vergrößerung kleine Perlen von geschmolzenem und wieder verfestigtem Material nachgewiesen werden.The surface of the steel was bia to a surface finish with a grain of. 600 ground. The electrode tip was passed by hand over the surface of the steel sample in straight juxtaposed lines. The process was repeated in 90 to cover the entire surface, and small beads of molten and resolidified material could be detected under light microscopy at 40x magnification.

Wie aus Fig. 18 zu erkennen ist, ist die Verschmelzung des Molybdäns mit dein Stahl ganz deutlich zu seheno As can be seen from Fig. 18, the fusion of molybdenum with steel is clearly seen o

Die Ergebnisse einer Elektronenmikrosondenabtastung der Grenzfläche zeigen, daß Molybdän bis zu einer Tiefe von mindestensThe results of electron microprobe scanning of the interface show that molybdenum is at least

23571 O23571 O

15 /um vorhanden ist, wie aua.nachstehender Tabelle und Fig. 19 hervorgeht.15 / um is present, as shown in the table below and Fig. 19 shows.

Tiefe,Depth, /um/around Masse%Dimensions% MoMo 11 6,96.9 22 7,67.6 33 7,07.0 44 7,57.5 1010 6,66.6 1515 6,06.0

93,1 92,4 93,0 92,5 93,4 94,093.1 92.4 93.0 92.5 93.4 94.0

Mikrohärtemessungen wurden am Probenquerschnitt vorgenommen und brachten folgende Ergebnisse:Microhardness measurements were made on the sample cross section and gave the following results:

Knoop Härtezahl Belastung Tiefe von der Oberfläche 493 200 g 30 yum Knoop hardness number load depth from the surface 493 200 g 30 yum

198 200 g 40 ,um198 200 g 40, um

Die durchschnittliche KHN des unbehandelten Stahles betrug 188. Die Härte des gleichen Stahls nach Erhitzen auf 900 0C und Wasserabschreckung betrug 285 (KHN) bei 200 g„The average KHN of the untreated steel was 188. The hardness of the same steel after heating to 900 0 C and water quenching was 285 (KHN) at 200 g "

Beispiel HAExample HA

Die gleiche Matrix und Elektrode sowie die gleiche Verfahrens— weiae wie in Beispiel II wurden bei einer. Frequenz von 30,63 kHz und der gleichen Drehzahl angewandt.The same matrix and electrode and the same Verfahrensweiae as in Example II were in a. Frequency of 30.63 kHz and the same speed applied.

Unter dem Lichtmikroskop wurden kleine Perlen von geschmolzenem und wieder verfestigtem Material nachgewiesen.Small beads of molten and resolidified material were detected under the light microscope.

Wie aus Fig. 18A hervorgeht, war die Verschmelzung von Molybdän mit Stahl ganz eindeutig.As shown in Fig. 18A, the fusion of molybdenum with steel was quite clear.

Die Ergebnisse einer Elektronenmikrosondenabtastung der Grenzfläche ergab, daß Molybdän bis zu einer Tiefe von mindestens 50 ,um vorhanden war, wie in der nachstehenden Tabelle und in Fig. 19A gezeigt wird:The results of electron microprobe scanning of the interface revealed that molybdenum was present to a depth of at least 50 μm, as shown in the table below and in Figure 19A:

- 20 - ο υ / \ - 20 - L · ο υ / \

Tiefe.,Depth., ,um,around Massed MoMassed Mo Massed PeMassed Pe 1010 8,88.8 91,291.2 2020 11,211.2 88,888.8 3030 3,63.6 96,496.4 4040 3,63.6 96,496.4 5050 2,52.5 97,597.5

Tiefe,Depth, /Um/Around KMKM 1515 375375 2525 506506 4040 445445 150150 227227 500500 188188

Knoop-Mikrohärtemessungen wurden am Querschnitt der Probe ausgeführt. Ea vjurden folgende Ergebnisse ermitteltjKnoop microhardness measurements were made on the cross section of the sample. The following results have been obtained

Belastung 200 200 200 200 200 Load 200 200 200 200 200

Die Härtewerte in den Beispielen II und HA, die über KHH 285 liegen, resultieren aus dem Vorhandensein von Molybdän.The hardness values in Examples II and HA above KHH 285 result from the presence of molybdenum.

Beispiel IIIExample III

Stahl mit den gleichen Spezifikationen Wie in den Beispielen II und HA wurde als Matrix 14 mit der Anlage von Figo 1 verbunden, und als Elektrode 13 diente Wolframcarbid (Kennametal Sorte Ur. 68). Diese Elektrode hatte einen Durchmesser von 5 mm und war 1 Zoll lang.Steel having the same specifications As in Examples II and HA, matrix 14 was connected to the plant of Fig. 1, and tungsten carbide (Kennametal type Ur. 68) served as the electrode 13. This electrode had a diameter of 5 mm and was 1 inch long.

Die angelegte Frequenz betrug 26,20 kHz und die Geschwindigkeit der Elektrodendrehnung lag bei annähernd 12 000 U/min.The applied frequency was 26.20 kHz and the rate of electrode diffusion was approximately 12,000 rpm.

Als Verfahrensweise wurde die gleiche viie in den Beispielen II und HA angewandt»As a procedure, the same viie was used in Examples II and HA »

Wie·aus Fig. 20 hervorgeht, viurde Wolfram mit der Stahlmatrix verschmolzen. Die Ergebnisse einer Elektronenmikroskopanalyse der Probe zeigen, daß Wolfram bia zu einer Tiefe von mindestens 80 /um vorhanden ist, wie aus Fig. 21 und der nachstehenden Tabelle zu erkennen ist:As is apparent from Fig. 20, tungsten was fused with the steel matrix. The results of electron microscopic analysis of the sample show that tungsten bia is present to a depth of at least 80 μm, as can be seen from Fig. 21 and the table below:

ίου/ ϊίου / ϊ

Massed FeMassed Fe

75,6 .75.6.

72,572.5

98,398.3

98,298.2

98,998.9

98,398.3

Knoop-Mikrohärtemessungen wurden am Probenquerschnitt vorgenommen. Ea wurden folgende Ergebnisse ermittelt:Knoop microhardness measurements were made on the sample cross-section. Ea the following results were determined:

Tiefe,Depth, /Um/Around Masse% WMass% W 11 24,424.4 55 27,527.5 1010 1,7-1,7- 20 .20. 1,81.8 5050 1,11.1 8080 1,71.7

Tiefe, /umDepth, / um KHHKHH 2828 908908 4545 718718 T5T5 329329 120120 220220

Belastungburden SS 200200 gG 200200 SS 200200 gG 200200

Die Härte der unbehandelten Probe liegt bei annähernd 188 KHIi und_nach Erhitzen auf 900 0C und Abschrecken bei 285 KHN.The hardness of the untreated sample is approximately 188 KHi and after heating to 900 0 C and quenching at 285 KHN.

Aua dem Vorstehenden wird eindeutig klar, daß durch die Behandlung der Stahlmatrix die Oberflächenhärte verbessert wird, und das iat für diejenigen Anwehdungsfalle, bei denen die Oberflächenhärte eine wichtige Rolle spielt, sehr nützlich»In addition to the above, it is clear that the surface hardness is improved by the treatment of the steel matrix, and that it is very useful for those cases where surface hardness plays an important role. "

Für das Einschmelzen eines zweiten leitfähigen chemischen Elementes in die feste Matrix eines ersten leitfähigen chemischen Elementes- unter"Anwendung einer Lösung der zweiten leitfähigen Chemikalie sowie für jede Lösung wurde das Verfahren bei Umgebungstemperatur, 20 G, in folgender Weise auageführt.For fusing a second conductive chemical element into the solid matrix of a first conductive chemical element using a solution of the second conductive chemical, as well as for each solution, the process was carried out at ambient temperature, 20 G, in the following manner.

Die Metallmatrix 14 wurde wie oben beschrieben mit dem Stromkreis verbunden. Die Frequenz wurde nach der oben angeführten Formel bestimmt, und die in dem Behälter 17 befindliche Lösung wurde dadurch aufgebracht, daß die Elektrode unterschiedlich lange, wie durch Formel II bestimmt wurde, über eine Oberfläche des ersten Metalls geführt wurde. Um eine gleichmäßige Verteilung der Lösung des zweiten Metalls auf der Oberfläche des ersten Metalls zu gewährleisten, wurde die Elektrode mit Baumviollgaze oder lylon umhüllt. Es ist klar, daß auch andere Stoffe verwendet werden können. Diese Maßnahme diente auch dazu, die Verunreinigung der Lösung bei der Verwendung von Graphit-The metal matrix 14 was connected to the circuit as described above. The frequency was determined according to the formula given above, and the solution contained in the container 17 was applied by passing the electrode over a surface of the first metal for different lengths of time, as determined by formula II. In order to ensure even distribution of the second metal solution on the surface of the first metal, the electrode was covered with tree gauze or lylon. It is clear that other substances can be used. This measure also served to reduce the contamination of the solution when using graphite

elektroden zu "begrenzen» Bei diesen besteht die Möglichkeit, daß sich .Graphitteilchen im Laufe der Bewegung ablösen»"limit" electrodes. With these, there is the possibility that "graphite particles will detach in the course of the movement".

Die behandelten Proben wurden anschließend zersägt, um eine Schnittprobe -zu erhalten, in kaltem Wasser gewaschen, mit Ultraachall gesäubert, in Plaste eingebettet und geschliffen und poliert, um eine ebene Oberfläche und eine glatte Kante zu erhalten. Bei anderen Proben von weicheren Metallen, bei denen di< Gefahr bestand, daß die Kante beim Schleifen abbricht, wurden zwei Schnitte mit den behandelten Flächen aneinanderliegend verbunden, wie zuvor eingebettet und geschliffen und poliert.The treated samples were then sawn to obtain a cut sample, washed in cold water, cleaned with ultrasonics, embedded in plastic, and ground and polished to obtain a flat surface and a smooth edge. For other samples of softer metals, where there was a risk that the edge would break off during grinding, two sections were bonded to the treated surfaces, as previously embedded and ground and polished.

Nach dem Einbetten wurde die Probe geätzt.,. wobei für Stahl, das eisenhaltige Substrat, Hital und für Kupfer, das Nichteisen-Substrat, Ammoniumhydrogenperoxid verwendet wurde»After embedding, the sample was etched.,. for steel, the iron-containing substrate, Hital and for copper, the non-ferrous substrate, ammonium hydrogen peroxide was used »

Im Laufe einiger Auftragungaarbeiten wurde festgestellt, daß manchmal Einstellungen von entweder der Frequenz oder der Auftragungsgeschwindigkeit erforderlich waren. Diese waren infolge Veränderungen in der Lösungszusammensetzung oder Abweichungen bei der Matrix erforderlich geworden.In the course of some application work, it was found that sometimes adjustments of either the frequency or the speed of application were required. These had become necessary as a result of changes in solution composition or deviations in the matrix.

Eine halb quantitative Elektronensondenmikroanalyse der verschmolzenen Grenzflächen wurde unter Anwendung einer Energy Disperaive X-Ray Spectroscopy (EDX) (Energiezerstreuungs-Röntgej spektroskopie) und eines Rastermikroskopes (SEM) durchgeführt.Semi-quantitative electron probe microanalysis of the fused interfaces was performed using Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDX) and a Scanning Microscope (SEM).

Die Oberfläche des Einbettungsplasts wurde leitend gemacht, indem eine etwa 20 /Um-dicke Kohlenstoffschicht in einem Vakuumverdampfer auf sie aufgedampft wurde. Diese Maßnahme wurde zur Verhinderung des Aufbaues elektrischer Ladungen auf einem ansonsten nicht-leitenden Material und einer daraus resultierenden Instabilität des SEM-Bildes ergriffen. Kohlenstoff, der keine durch die EDX nachweisbare Strahlung erzeugt, wurde gegenüber einem herkömmlicheren Metallüberzug bevorzugt, um Interferenz einer derartigen Beschichtung bei der Elementaranalyse zu verhüten«The surface of the embedding paste was made conductive by depositing an approximately 20 μm thick carbon layer on it in a vacuum evaporator. This measure was taken to prevent the build up of electrical charges on an otherwise non-conductive material and the resulting instability of the SEM image. Carbon which does not produce EDX detectable radiation was preferred over a more conventional metal coating to prevent interference of such a coating in elemental analysis. "

Die Betriebsbedingungen der SEM.wurden so gewählt, daß Störsignale und Kontinuumstrahlung auf ein Mindestmaß beschränkt waren und gleichzeitig die beste mögliche Raumauflösung erzielt wurde«The operating conditions of the SEM were chosen so that interference and continuum radiation were kept to a minimum and at the same time the best possible spatial resolution was achieved. «

10 -10 - 20 kV20 kV 2000 Hz2000 Hz 200 -200 - 300300 180 s180 s 50 nm50 nm 100 -100 - 300 pA300 pA 12 -12 - 34 mm . 34 mm. 50005000 - 10 000- 10 000 senkrecht zum Strahlperpendicular to the beam 225°225 ° 800 -800 - 60 -60 -

Die für die Elementaranalyse durch EDX allgemein angewandten Bedingungen, vj ar en wie folgt:The general conditions used for elementary analysis by EDX are as follows:

Beschleunigungspotentialacceleration potential

Endöffnungend opening

Fleckengrößespot size

Strahlstrom n Beam current n

Arbeitsabstandworking distance

Vergrößerungsfaktormagnification

Prüfkörperwinkel 'Test specimen angle '

Ableitungswinkelderivation angle

Zählratecount rate

Zeit unter SpannungTime under tension

Die Energieeichung wurde unter Anwendung von Al-Kd-Emiss ion bei 1,486 keV und Gu-K bei 8,040 keV getestet.Energy calibration was tested using Al-Kd emission at 1.486 keV and Gu-K at 8.040 keV.

Eine standardlose halbquantitative Analyse wurde für die Bestimmung der Elementkonzentration herangezogen, bei der Bezugsstoffe mit Zertifikat (UBS 478, 78 % Gu - 27 % Zn und NBS 479a, Έί, 11 %, Gr 18 %, Fe) zur Bestätigung der Ergebnisse verwendet wurden. Mehrfachanalysen von Bezugstoffen stimmten ausgezeichnet mit den bestätigten Werten von NBS überein. Es wurde eine durchschnittliche Genauigkeit von + 1 % erzielt. Eine Größe.von analysiertem Volumen wurde aus der folgenden Gleichung 1 berechnet:A standard semi-quantitative analysis was used to determine the elemental concentration using certified (UBS 478, 78 % Gu-27 % Zn and NBS 479a, Έί, 11 %, Gr 18 %, Fe) reference materials to confirm the results. Multiple cover analyzes were in excellent agreement with the confirmed values of NBS. An average accuracy of + 1 % was achieved. A size of analyzed volume was calculated from the following equation 1:

pfiCx) = 0,064 (EO168 - E0J68) .pfi Cx) = 0.064 (E O 1 68 - E 0 J 68 ).

worin bedeuteniin which mean

R/ \ = der Massebereich (das Röntgenstrahl-Erzeugungsvolumen) ρ = Dichte des analysierten Materials EQ = das BeschleunigungspotentialR / \ = the mass range (the X-ray generation volume) ρ = the density of the analyzed material E Q = the acceleration potential

E = eine kritische ErregungsenergieE = a critical excitation energy

Der Durchmesser von analysiertem Volumen wurde für typische analysierte Elemente berechnet und wie folgt ermittelt: Ii 0,46The diameter of analyzed volume was calculated for typical analyzed elements and determined as follows: Ii 0.46

Cu 0,39Cu 0.39

Fe - 0,55Fe - 0.55

W 0,30W 0.30

2367123671

Zur ürmittlung der Diffusionstiefe wurde ein statischer Strahl in Intervallen, die größer waren als der oben genannte Massebereich, über die Grenzfläche geführt» Dadurch war die Genauigkeit der Analyse gesichert.To determine the depth of diffusion, a static beam was passed over the interface at intervals greater than the above mass range. This ensured the accuracy of the analysis.

Die "Ergebnisse der Elementkonzentration wurden für jeden an der Verschmelzungsgrenzflache gemessenen Punkt in Massefe angegebeneThe "element concentration results were reported in masses for each point measured at the confluence interface

In den verschiedenen Beispielen, die beschrieben werden, ist das zweite leitfähige chemische Element, d, h. das in die Matrix zu diffundierende Element, vorhanden. In einigen LösungenIn the various examples that will be described, the second conductive chemical element is d, h. the element to be diffused into the matrix exists. In some solutions

sind auch kleine Mengen von Me tallionen?vorhanden. Man nimmtAre there even small amounts of metal ions? One takes

&th£$ c/sv irSH /ig fatlS& th £ $ c / sv irsH / ig fatlS

an, daß diese MetallionenVaTs Komplexbildungsmittel vorhanden sein müssen, um die Verschmelzung zu erleichtern. Kleine Mengen organischer Katalysatoren wie Akaziengummi, Hydrochinon, Knochenleim, Pepsin, Dextrin, Lakritze oder deren Äquivalente können gleichfalls vorhanden sein.indicate that these metal ionVaTs complexing agents must be present to facilitate fusion. Small amounts of organic catalysts such as acacia, hydroquinone, bone glue, pepsin, dextrin, licorice or their equivalents may also be present.

Netzmittel wie Hatriumlaurylsulfat oder dessen Äquivalent werden normalerweise verwendet.Wetting agents such as sodium lauryl sulfate or its equivalent are normally used.

Wenn erforderlich, werden.den pH-Wert verändernde Mittel wie Ammoniumhydroxid oder Schwefelsäure gewöhnlich zur Erreichung des verlangten pH-Wertes zugesetzt.If necessary, pH modifiers such as ammonium hydroxide or sulfuric acid are usually added to achieve the required pH.

Einige weitere Lösungen erfordern Komplexbildungsmittel für das zweite chemische leitfähige Element, die die Ausfällung des zweiten Elementes ausschließen. Solche Mittel sind beispielsweise Zitronensäure oder Natriumpyrophosphat oder Äthyldiamintetraessigsäure oder deren Äquivalente*Some other solutions require complexing agents for the second chemical conductive element which preclude precipitation of the second element. Such agents are, for example, citric acid or sodium pyrophosphate or ethyldiaminetetraacetic acid or their equivalents *

In einigen Lösungen wird, wenn es erforderlich ist, auch ein geeigneter Puffer vorgesehen.In some solutions, a suitable buffer is also provided, if necessary.

Das Wasser ist immer entmineralisiert.The water is always demineralized.

Und für bestimmte Anwendungsfälle, bei denen das Äußere des Produktes ansprechend sein muß, können geringe Mengen von Aufhellungsmitteln wie. Formaldehyd, Kohlenstoffdisulfid,. Benzolaulfonsäure oder deren Äquivalente verwendet werden«And for certain applications, where the appearance of the product must be appealing, small amounts of brightening agents such as. Formaldehyde, carbon disulfide ,. Benzolauronic acid or its equivalents can be used «

In diesen Beispielen wird, wenn nichts anderes angeführt wird, als Stahlmatrix ASA 1018 und als Kupfer Legierung 110 nach ASTM B-i333 verwendet.In these examples, unless otherwise stated, ASA 1018 steel matrix and ASTM B-i333 copper alloy 110 are used.

0,0018 Ohm0.0018 ohms Ki IoohmKi Ioohm 0,4 Pikofarad0,4 picofarad 22 150150 0,01 Ohm0.01 ohms cm/Minutecm / minute 650 Hz bei650 Hz at ,5 /um, 5 / um 2αη2αη 5 /um5 / um 6060 ·» O· »O \> ' \> '

Beispiel IVExample IV

Stahl Atlas Al 51 1020 wurde.als Matrix 14 mit der Anlage von Fig. 2 verbunden, und eine 10 %ige Lösung von Ammoniummolybdat in Wasser wurde in den Behälter 17 gegeben«,Steel Atlas Al 51 1020 was connected as matrix 14 to the plant of Fig. 2, and a 10% solution of ammonium molybdate in water was placed in vessel 17,

Die folgenden Kennwerte und Behandlungsbedingungen wurden angewandt:The following characteristics and treatment conditions were used:

Matrixw id erstand + Sondenwiderstand Stromkreiswiderstand Fre quenz Kontaktfläche Geschwindigkeit Behändlungs tiefe OberflächenerhöhungMatrix resistance + Probe resistance Circuit resistance Fre quency Contact surface Speed Handling Deep surface elevation

+ 2+ 2

Bestimmt durch Messung von 1 cm Platten, die 1 cm aufeinander lagen, nach einer Verzögerung von 20 Sekunden,,Determined by measuring 1 cm plates that were 1 cm apart, after a delay of 20 seconds,

Die Probe von Beispiel IV wurde einem Wärmekorrosions test unterzogen. 25 %ige Schwefelsäure konnte 20 Minuten lang bei 325 G auf die Oberfläche ohne irgendeine Oberflächenpenetration einwirken.The sample of Example IV was subjected to a thermal corrosion test. 25% sulfuric acid was allowed to act on the surface for 20 minutes at 325 G without any surface penetration.

Beispiel VExample V

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender ZusammensetzungIt was an aqueous solution having the following composition

hergestellt: '~made: '~

lame Gramm/Literlame grams / liter

Natriummolyb.dat 37 > 8Sodium molybdate 37> 8

Eisen(II)-ammoniumsulfat 7Iron (II) ammonium sulfate 7

Eisen (III)-ammoniums ulf at 8,6Iron (III) ammonium sulphate 8.6

Zitronensäure 66,0Citric acid 66.0

Wasser (destilliert) 997 mlWater (distilled) 997 ml

Hatriumlaurylsulfat 0,5Sodium lauryl sulfate 0.5

Ammoniumhydroxid bis zum verlangten pH-WertAmmonium hydroxide to the required pH

Akaziengummi (Gummi arabicum) 0,1-0,2Acacia gum (gum arabic) 0.1-0.2

Formaldehyd . 7,5 mlFormaldehyde. 7.5 ml

Die Lösung zeigte folgende KennwertesThe solution showed the following characteristic value

- Hb - L όΌ / I U - Hb - L όΌ / IU L ·

pH-Wert = 7,5pH = 7.5

spezifischer Widerstand =19 Ohm-cmresistivity = 19 ohm-cm

Mo+ Konzentration =1,8 MasselMo + concentration = 1.8 mass

Fe+2 = 0,10 MasselFe +2 = 0.10 mass

Pe+3 = 0,10 MasselPe +3 = 0.10 mass

Die Konzentration von Mo+ kann von 1,5 bis 2,5 Massel variiert werden; der pH-Wert kann von 7,2. "bis 8,2 betragen and der spezifische Widerstand kann zwischen 17 und 25 Ohm-cm liegen«The concentration of Mo + can be varied from 1.5 to 2.5 masses; the pH can be from 7.2. "to 8.2 and the resistivity can be between 17 and 25 ohm-cm"

Reaktionab ed indungenReaction derivatives

Matrix = KupferMatrix = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektredenüberzug = BaumwollgewebeElectrode cover = cotton fabric

Frequenz =9,09 kHzFrequency = 9.09 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 736,2 mm/MinuteApplication speed = 736.2 mm / minute

Auftragungsdauer = 2 MinutenApplication time = 2 minutes

Man nimmt an, daß in den in den Beispielen V and "VT erläuterten Lösungen die Anwesenheit von" Eiaen(II)- und E is en (HI-)*· Ionen dazu dient, den Wertigkeitszustand'von Mo+ auf :einen geringeren-lertigkeitszuatand zu reduzieren*·It is believed that in the "explained VT solutions, the presence of" in Examples V and Eiaen (II) - * · ion serves the Wertigkeitszustand'von Mo + to - and E is en (HI): a geringeren- to reduce the activity factor * ·

Obwohl das Eisen anscheinend gleichzeitig übertragen wird, wie es in Pig» 23 gezeigt wird, übt das Eisen offensichtlich keinen Materialeinfluß auf die Kennwerte der Matrix oder des Molybdäns aus·Although the iron appears to be transferred simultaneously, as shown in Pig. 23, the iron evidently exerts no material influence on the characteristics of the matrix or molybdenum.

Eine Untersuchung der Probe mit einem Lichtmikroskop zeigt eine durchgehende Molybdänbeachichtung, die frei von Grübchenbildung ist und eine dunkelsilberne !färbung aufweist«An examination of the sample with a light microscope shows a continuous molybdenum coating which is free of pitting and has a dark silver coloration.

Wie in der nachstehenden Tabelle and Jig. 23 gezeigt wird, geht aus einer SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zwischen der Matrix und dem aufgebrachten Metall hervor, daß Molybdän bis zu einer Tiefe von mindestens 4 /um bei einer Oberflächenablage«* rung von annähernd T /Um verschmolzen worden ist.As in the table below and Jig. 23, it is apparent from an SEM / EPMA scan of the interface between the matrix and the deposited metal that molybdenum has been fused to a depth of at least 4 μm at a surface deposition of approximately T / μm.

Tabelle Tiefe, /.am Element' Konzentration (Massel) Table depth, / element ' concentration (mass)

0,5 -· Mo - · 65,4 0,5 - · Mo - · 65,4

Pe 19,9Pe 19,9

Gu 1.4,5Gu 1.4.5

1,0 Mo 58,41.0 Mo. 58.4

Pe 10,9Pe 10.9

Ca 30,5About 30.5

2,0 Mo 6,62.0 Mo 6.6

Pe 0,8Pe 0.8

Gu 92,5Gu 92.5

3,0 Mo 2,93.0 Mo 2.9

Pe 0,4 Ca . ' 96,6Pe 0.4 Ca. '96.6

4,0 Mo 0,94.0 Mo 0.9

Pe . 0,0Pe. 0.0

Ca 98,9About 98.9

Beispielexample

Ea wurde eine wäßrige Lösung mit der gleichen· Zusammensetzung wie in Beispiel Ύ hergestellt and anter folgenden Bedingungen auf gebrächt:, . " Ea, an aqueous solution having the same composition as in Example 1 was prepared and made into the following conditions. "

Reaktionsbed indungenReaction conditions

Matrix": = Stahl (ASA 1018)Matrix ": = steel (ASA 1018)

Elektrode = Graphit; Electrode = graphite; -

Elektrodenüberzug . = BaumwollgewebeElectrode coating. = Cotton fabric

Preqaenz = 4,11 kHzPreqaenz = 4.11 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 739,8 nun/MinuteApplication speed = 739.8 now / minute

Auftragungsdauer = 3 MinatenDuration of application = 3 minates

Die Untersuchung unter dem Lichtmikroskop ergab eine durchgehende dunkelsilber gefärbte"Oberfläche.Examination under the light microscope revealed a continuous dark silver colored surface.

Die Mikroaufnahme von Pig. 24 zeigt die Ablagerung einer im wesentlichen gleichmäßigen Schicht von Molybdän in einer Dicke von 1 /am und mit gleichmäßiger Pichte.The micrograph of Pig. Figure 24 shows the deposition of a substantially uniform layer of molybdenum in a thickness of 1 / am and with uniformity.

Wie aus Pig. 25 zu sehen ist, zeigt eine SEM/EFMA-Abtastung der Grenzfläche zwischen dem Substrat und dem aufgebrachten Metall, daß Molybdän bis zu einer Tiefe von mindestens 10 Mikrometer vorhanden war» und zwar mit einem wie in der nachstehenden Tabelle aufgeführten Molybdängradienten»Like from Pig. 25, an SEM / EFMA scan of the interface between the substrate and the deposited metal shows that molybdenum was present to a depth of at least 10 microns "with a molybdenum gradient as shown in the table below."

Tabelle Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Table Depth, / around Element Concentration (Massel)

0,5 - ' ' · Mo 81,00.5 - "Mo 81.0

Pe 19,0Pe 19.0

22 Mo FeMo Fe 33 Mo FeMo Fe 1010 Mo FeMo Fe Beispiel YIIExample YII

2,2 97,82.2 97.8

0,8 99,20.8 99.2

0,6 99,40.6 99.4

Ea wurde eine Wäßrige Lösung mit folgender Zusammensetzung hergestelltsEa an aqueous solution with the following composition was prepared

Harne . Gramm/Liter Urine . Grams / liter

Uatriamwolframat 31,40~~ 'Uatriam tungstate 31,40 ~~ '

Eisen(III)-ammoniumsulfat 8,63Ferric ammonium sulphate 8,63

Eiaen(II)-aulfat 4,98Eiaen (II) -aulfat 4.98

Zitronensäure 66,00Citric acid 66,00

Wasser (destilliert) 1000 mlWater (distilled) 1000 ml

immoniumhydrQxid "' "bis zum erforderlichen pH-Wertimmonium hydride "" to the required pH

/Natriumlaurylsulfat 0,1 '/ Sodium lauryl sulfate 0.1 '

Formaldehyd 5 mlFormaldehyde 5 ml

Die Lösung hatte folgende KennwertesThe solution had the following characteristics

pH-Wert ' " « 7,99pH value "" 7.99

spezifischer Widerstand = 22 ©hm-cmresistivity = 22 © hm-cm

W*6 · =1,75 MasselW * 6 x = 1.75 mass

Fe+2 _ = 0,1 Massel'Fe +2 _ = 0.1 mass

= ©,.1 Massel= ©, .1 Massel

Die WTVJ Konzentration kann zwischen 1,6 und 2,5 Massel variieren; der; pH-Wert kann von 7,5 "bis 8,5 "betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 18 Ohm-cm und 24 Ohm-cm liegen.The W TVJ concentration can vary between 1.6 and 2.5 mass ; the; pH may be from 7.5 "to 8.5" and the resistivity may be between 18 ohm-cm and 24 ohm-cm.

ReaktionäredingungenReaktionäredingungen

Matrix ' ' - · - · = KupferMatrix '' - · - · = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz =3,83 kHzFrequency = 3.83 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 689,4 mm/MinuteApplication speed = 689.4 mm / minute

Auftragungsdauer . =3 MinutenDuration of application. = 3 minutes

?/ie aus den Mikroaufnahmen der Fig. 26 und 27 zu erkennen ist,? / ie can be seen from the micro-images of FIGS. 26 and 27,

lab / ! U lab / ! U

FeFe CaCa 38,538.5 24,224.2 2,12.1 93,193.1 Ot3O t 3 99,299.2 0,20.2 99,199.1 0,20.2 99,599.5

zeigte die Probe eine gleichmäßige Wolframschicht mit einer Dicke von annähernd 1 Mikrometer. Erne SEM/SPMA-Abtastung zeigte eine Verschmelzung von Wolfram auf Kupfer-bis-zu einer Tiefe von mindestens 5,0 Mikrometer, wie aus der nachstehenden Tabelle und fig. 28 zu entnehmen ist.The sample showed a uniform tungsten layer with a thickness of approximately 1 micron. Erne SEM / SPMA scanning showed a tungsten-to-copper-to-fusion to a depth of at least 5.0 micrometers, as shown in the table below and FIG. 28 can be seen.

Tabelle . " . Table . ".

Tiefe, /um Konzentration (Massel) Depth, around concentration (Massel)

1,0 37,31.0 37.3

2,0 4,82.0 4.8

3,0 · 0,53.0 x 0.5

4,0 0,74.0 0.7

5,0 ' 0,35.0 '0.3

Beispiel VIIIExample VIII

Es wurde eine wäßrige; lösung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:It became an aqueous; solution prepared with the following composition:

CTame . Gramm/Liter CTame . Grams / liter

Matriumvnolframat 34,00'"Matriumvolthrate 34.00 '"

Eisen(II)-sulfät1 .. 4,98Iron (II) sulphate 1 .. 4,98

Ei sen (II)-ammoniums ulf at 7,02Egg (II) ammonium sulfate at 7.02

Eisen(III)-ammoniumsulf at 8,62Iron (III) ammonium sulphate 8.62

Zitronensäure . 66,00Citric acid. 66,00

Wasser (destilliert) 980Water (distilled) 980

Ammoniumhydroxid " bis zum erforderlichen pH-Wert Natriumlaurylsülfat . 0,10 "Ammonium hydroxide "to the required pH sodium lauryl sulfate 0.10"

Anmerkung; Es kann entweder 1 oder 2 verwendet werden.Annotation; It can be used either 1 or 2.

Die Lösung hatte folgende Kennwerte: pH-Wert ' * = 8The solution had the following characteristics: pH * = 8

spezifischer Widerstand = 20,9 Ohm-cmresistivity = 20.9 ohm-cm

W+6 =1,9 MasselW +6 = 1.9 mass

=0,1 Massel =0,1 Massel= 0.1 mass = 0.1 mass

Die Konzentration von Wolfram kann zwischen 1,6 und 2,5 Massel variieren; der pH-Wert kann von 7,5 bis 8,5 betragen und der 'The concentration of tungsten can vary between 1.6 and 2.5 masses; the pH can be from 7.5 to 8.5 and the '

apezifische Widerstand kann zwischen 18,8 Ohm-cm und 22,8 Ohm-cm liegen.apecific resistance can range from 18.8 ohm-cm to 22.8 ohm-cm.

HeaktJonabedindungenHeaktJonabedindungen

Matrix = Stahl (ASA 1018)Matrix = steel (ASA 1018)

Elektrode - = GraphitElectrode - = graphite

Elektrodenüberzug = BaamwollgazeElectrode coating = Baamwollgaze

Frequenz = 4,78Frequency = 4.78

Auftragungsgeaehwindigkeit = 860,4 mm/MinuteApplication speed = 860.4 mm / minute

Auftragungsdauer = 3 MinutenApplication time = 3 minutes

Eine Untersuchung der Probe mit Hilfe der SEM/ΕΡΜΑ, Pig. 29, zeigte eine T/olframachicht von annähernd 0^5 /um, und wie aua Pig. 30 und der nachatehenden Tabelle deutlich wird, konnte Wolfram bia zu einer Tiefe von mindestens 3 /um nachgewiesenAn examination of the sample with the help of SEM / ΕΡΜΑ, Pig. 29, showed a T / olframachicht of approximately 0 ^ 5 / um, and as with Pig. 30 and the subsequent table, tungsten bia could be detected to a depth of at least 3 / um

^erden· - Tabelle earth table Konzentration (Massel)Concentration (mass) Die Löaung hatte folgende KennwertesThe solution had the following characteristics " = 1,60"= 1.60 Tiefe, /um Element'Depth, um element pH-WertPH value = 51,8 0hm-cm= 51.8 ohm-cm '/ '. ' 0,5 "' W '/'. '0.5 "' W 66 spezifischer Widerstandspecific resistance = 1 ,75 Massel= 1, 75 mass 1 W1 W 11 Konzentration In+ .:. ' '/· ' , .': .··. ·,., . . 'γ-, -*Concentration In + .:. '' / · ', .':. ·,.,. , 'γ-, - * " ' . · ' *" ":. ; ' , = 0,077 Massel''. * '* "" : .;', = 0.077 mass 2 W2 W 1*11 * 1 .·. . :.- ·;· . . .: .·.. . .'· '4-3 Konzentration Al     . ·. , : .- ·; ·. , .: .. · ... . '' '4-3 Concentration Al 3 W . '3 W. ' Beiapiel IXBeiapiel IX folgender Zusammensetzungfollowing composition Es wurde"eine wäßrige Löaung mitIt was "an aqueous Löaung with hergeatellt:hergeatellt: Gramm/LiterGrams / liter NameSurname 40,0 "- 40.0 "- Indium's ulf atIndium's ulf at 9,69.6 Aluminiums ulf atAluminum sulphate at 3,53.5 Natriumsulfat·Sodium sulphate · 0,05 - 0,10.05-0.1 Gelatinegelatin 0,1 - 0,20.1-0.2 NatriumlaurylaulfatNatriumlaurylaulfat 1000 ml1000 ml Wasser (destilliert)Water (distilled)

Die Indiumkonzentration kann zwischen 0,2 und 2,2 Massel variieren; der pH-Wert kann von 1,60 bis 1,68 betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 48,8 Ohm-cm und 54,8 Ohm-cm liegen.The indium concentration can vary between 0.2 and 2.2 masses; the pH may be from 1.60 to 1.68 and the resistivity may be between 48.8 ohm-cm and 54.8 ohm-cm.

ReaktionabedingungenReaktionabedingungen

Matrix ~ ' = KupferMatrix ~ '= copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

frequenz =4,75frequency = 4.75

Auftragungsgeschwindigkeit = 855 mm/MinateApplication speed = 855 mm / min

Auftragtingadauer = 3 MinutenOrdering time = 3 minutes

Eine Untersuchung der Probe unter dem Lichtmikroskop und dem Rastermikroskop zeigte eine durchgehende Oberfläche, die frei von Gefügefehlern war, wie Pig. 31 zeigt*An examination of the sample under the light microscope and the scanning microscope showed a continuous surface that was free from structural defects, such as Pig. 31 shows *

Wie aus der nachstehenden Tabelle und Fig» 32 hervorgeht, ergab eine SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche zwischen der Kupfermatrix und der Indiumschicht eine Auftragung von annähernd 1 /Um und eine Verschmelzung von Indium bis zu einer Tiefe von min—-destens 4 /Um.As shown in the table below and Figure 32, an SEM / ΕΡΜΑ scan of the copper matrix-indium layer interface revealed a plot of approximately 1 / μm and a fusion of indium to a depth of at least 4 / μm ,

' Tabelle' Table

Tiefe, /umDepth, / um 11 Elementelement Konzentration von IndiumConcentration of indium ιι 22 (Massel)(Pig) 33 InIn 90,3 90.3 44 InIn . 5,.5, 5, .5 Beispiel XExample X InIn 4,34.3 InIn 3,63.6

Is wurde die Lösung von Beispiel IX verwendet und auf eine Stahlmatrix aufgebracht: Reaktionsbedindungen Is, the solution of Example IX was used and applied to a steel matrix: reaction conditions

Matrix = Stahl (ASA 1010)Matrix = steel (ASA 1010)

Elektrode ~ = PlatinElectrode ~ = platinum

Elektrodenüberzag = NylongewebeElectrode overlay = nylon fabric

Frequenz = 6,29 kHzFrequency = 6.29 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 1132,2 mm/MinuteApplication speed = 1132.2 mm / minute

Auftragungsdauer = 3 Minuten'Duration of application = 3 minutes'

Wie aus den Pig. 33 und 34 zu erkennen ist, wurde auf die Oberfläche der Matrix eine glatte.durchgehende Schicht von Indium in einer Dicke von annähernd 1 /um aufgebracht. Eine SEM/SPMA-Abtastung, Fig. 34» der Grenzfläche und die nachstehende Tabelle zeigen eine Verschmelzung bis zu einer Tiefe von mindestens 3 /um.Like the pig. 33 and 34, a smooth continuous layer of indium was deposited on the surface of the matrix to a thickness of approximately 1 μm. An SEM / SPMA scan, Figure 34 'of the interface and the table below, show a fusion to a depth of at least 3 / um.

Tabelletable

Tiefe,Depth, /um/around InIn (Massel)(Pig) Pe (Massel)Pe (Massel) 0,50.5 91,91 44 8,68.6 1,01.0 5,5, 22 94,894.8 2,02.0 1,1, OO 99,099.0 3,03.0 o,O, 99 99,199.1

Pig, 35 zeigt eine feste Nickelschicht mit gleichmäßiger Dichte und einer Dicke von annähernd 1,5 /um. Wie die nachstehende Tabelle und Pig· 36 verdeutlichen, zeigte eine SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche zwischen der Matrix und der Nickelschicht, daß Nickel bis zu einer Tiefe von mindestens 4 /um verschmolzenPig, 35 shows a solid nickel layer of uniform density and thickness of approximately 1.5 / μm. As the following table and Pig. 36 illustrate, an SEM / ΕΡΜΑ scan of the interface between the matrix and the nickel layer showed that nickel fused to a depth of at least 4 / um

Masselpig

92,6 '92.6 '

; 4,5; 4.5

3,33.3

1,01.0

Ea wurde eine wäßrige Lösung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:Ea was prepared an aqueous solution having the following composition:

Name Gramm/LiterName grams / liter

Nickel(II)-sulfat 248,9'"Nickel (II) sulfate 248.9 '"

Nickel(II)-chlorid 37,3Nickel (II) chloride 37.3

Borsäure". 24,9Boric acid ", 24.9

Formaldehyd 3 ml/LiterFormaldehyde 3 ml / liter

Benzolaulfonsäure 10 ml/LiterBenzolauronic acid 10 ml / liter

Natriumlaurylsulfat 0,1Sodium lauryl sulfate 0.1

Wasser (destilliert) 900Water (distilled) 900

worden ist.has been. Elementelement Tiefe, /umDepth, / um Ni-Ni 11 NiNi 22 NiNi 33 NiNi 44 Beispiel. JIExample. JI

4- W W / 3 W im 4- WW / 3 W im

Die Lösung hatte folgende Kennwerte:The solution had the following characteristics:

pH-Wert =3,10pH = 3.10

apezifischer Widerstand = 22,5 Ohm-cmSpecific resistance = 22.5 ohm-cm

Konzentration von Hi =6 MasselConcentration of Hi = 6 pigs

Die Nickelkonzentration kann zwischen 2 und 10 % variieren; der pH-Wert kann von 3,10 bia 3,50 betragen und'dar spezifische Widerstand kann zwischen 17 Ohm-cm und 26 Ohm-cm liegen.The nickel concentration can vary between 2 and 10 % ; the pH may be from 3.10 to 3.50 and the resistivity may be between 17 ohm-cm and 26 ohm-cm.

ReaktionabedingungenReaktionabedingungen

Matrix = KupferMatrix = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = 7,50 kHzFrequency = 7.50 kHz

Auftragungageschwindigkeit = 1350 mm/MinuteApplication speed = 1350 mm / minute

Auftragungadauer " · = 3 MinutenApplication time "= 3 minutes

Beiapiel XCIBeiapiel XCI

Es wurde die gleiche Lösung wie für Beispiel XE hergestellt und auf eine Stahlmatrix aufgetragen:The same solution was prepared as for Example XE and applied to a steel matrix:

ReaktionabedingunganReaktionabedingungan

Matrix ' = Stahl (ASA 1018)Matrix '= steel (ASA 1018)

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz ' =7,50 kHzFrequency '= 7.50 kHz

Auf tragunga ge a c hm ind igke it = 1350 mmr/MinuteAt transmission rate = 1350 mm / min

Auftragungadauer ' =3 MinutenApplication duration = 3 minutes

Wie in Fig. 37 gezeigt wird, ist die Efickelschicht durchgehend und zeigt eine im wesentlichen einheitliche Dicke von etwa 1,5 /Um.As shown in Fig. 37, the efickel layer is continuous and exhibits a substantially uniform thickness of about 1.5 / μm.

Wie aus Fig. 38 und der nachstehenden Tabelle hervorgeht, wurde Nickel bia zu einer Tiefe von mindestens 3 /Um verschmolzen,As shown in Fig. 38 and the table below, nickel bia was fused to a depth of at least 3 / μm,

Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Depth, / around element concentration (Massel)

1 Ni 95,91 Ni 95.9

2 Ni 28,02 Ni 28.0

3 . ,Ni 0,73. , Ni 0.7

2 36 7 10 22 36 7 10 2

Beispiel XEIIExample XEII

Sa wurde eine wäßrige Lösung mit folgender ZusammensetzungSa became an aqueous solution having the following composition

hergestellt:manufactured:

Harne Gramm/LiterHarness grams / liter

Goldchlonnaaaeratoffsäure 2,5Gold chloroacetic acid 2.5

Kaliumferrocyanid 15jOPotassium ferrocyanide 15jO

Karlimcarbonat 15,0Karlimcarbonate 15.0

Wasser (destilliert) 1000 mlWater (distilled) 1000 ml

Diese Lösung hatte folgende Kennwertes pH-Wert " =10,99This solution had the following characteristic value pH = 10.99

spezifischer Widerstand = 40 Ohm-cmresistivity = 40 ohm-cm

Konzentration von Au+ -Ionen = 0,14 MasselConcentration of Au + ions = 0.14 mass

Der pH-Wert kann zwischen 3»70 und 11 variiert werden; die Konzentration von Au+ -Ionen kann--von 0,1 bis 0,5 Massel betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 40 Ohm-cm und 72 Ohk-cm liegen.The pH can be varied between 3 »70 and 11; the concentration of Au + ions may be from 0.1 to 0.5 mass and the resistivity may be between 40 ohm-cm and 72 ohm-cm.

ReaktionabedindungenReaktionabedindungen

Matrix " ., = KupferMatrix "., = Copper

Elektrode = PlatinElectrode = platinum

Elektrodenüberzug. = BaumwollgazeElectrode coating. = Cotton gauze

Frequenz i 4,33 kHzFrequency i 4.33 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 779,4 mm/MinuteApplication speed = 779.4 mm / minute

Auftragungsdauer = 2 MinutenApplication time = 2 minutes

Die Untersuchung mit Hilfe dea Licht- und Rastermikroskops ergab ,eine,;».Oberflächenschicht von" Gold mit einer Dicke von annähernd 1,5 /um. Die Schicht war durchgehend und einheitlich dicht,;wie es Pig. 39 zeigt.Examination with the aid of the light and scanning microscope revealed a surface layer of gold approximately 1.5 μm thick, which was continuous and uniformly dense, as shown in Pig.

Eine .SM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von'Gold bis zu einer Tiefe von mindestens 3 /um, wie aus der nachstehenden Tabelle und Pig. 40 zu entnehmen.ist.An SMM / EPMA scan of the interface showed a fusion of gold to a depth of at least 3 / um as shown in the table below and Pig. 40. is.

Tiefe, /iim Element , Konzentration (Massel) Depth, in element , concentration (mass)

0,50.5 AuAu T,0T, 0 AuAu 2,02.0 AuAu 3,03.0 AuAu

61,3 9,6 0,9 0,561.3 9.6 0.9 0.5

/IU/ IU

Beispiel XIVExample XIV

Es wurde eine wäßrige Lösung mit der gleichen Zusammensetzung wie für Beispiel XIII hergestellt:An aqueous solution having the same composition as that of Example XIII was prepared.

Reaktionsbedingungenreaction conditions

Matrix = StahlMatrix = steel

Elektrode . = GraphitElectrode. = Graphite

Elektrodenüberzug . = BaumwollgazeElectrode coating. = Cotton gauze

Frequenz = 3,95 kHzFrequency = 3.95 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 711,0 mm/MinuteApplication speed = 711.0 mm / minute

Auftragungadauer ' =2,0 MinutenApplication duration '= 2.0 minutes

Untersuchungen mit dem Licht- und Rastermikroskop ergaben eine Goldschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 1,0 /um. Die Schicht war gleichmäßig dick und dicht, wie Fig. 41 zeigt.Examination with the light and scanning microscope revealed a gold layer on the surface with a thickness of approximately 1.0 μm. The layer was uniformly thick and dense, as shown in FIG. 41.

Eine SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von"Gold' bis zu einer Tiefe von mindestens 4,0 /um, wie nachstehende Tabelle und Fig. 42 zeigen.An SEM / EPMA scan of the interface showed a fusion of "gold" to a depth of at least 4.0 / μm as shown in the table below and FIG. 42.

Tiefe, /um Element Konzentration (l»Iasse%)Depth, by element concentration (%)

0,5 Au 84,90,5 Au 84,9

1,5 Au 10,61.5 Au 10.6

2,0 Au 2,12.0 Au 2.1

3,0 Au 0,83.0 Au 0.8

4,0 Au 0,64.0 Au 0.6

Beispiel XVExample XV

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:An aqueous solution with the following composition was prepared:

Name - Gramm/Liter Name - grams / liter

Chromtrioxid . 150 - Chromium trioxide. 150 -

Chromsulfat 0,06Chromium sulfate 0.06

Schwefelsäure 2,15Sulfuric acid 2.15

Natriumhexafluorosilikat 0,2Sodium hexafluorosilicate 0.2

Kohlenstoffdisulf id 2 - 3 mlCarbon disulfide id 2 - 3 ml

Natriumlaurylsulfai 0,05Sodium lauryl sulphite 0.05

Wasser (destilliert) ' bis 1000 mlWater (distilled) 'to 1000 ml

Dieae Lösung hatte folgende Kennwerte: pH-Wert ' "=0,6The solution had the following characteristics: pH '' = 0.6

spezifischer Widerstand = 12 Ohm-cmresistivity = 12 ohm-cm

Konzentration von Gr+ =7,8 MasselConcentration of Gr + = 7.8 mass

Der pH-Wert kann zwischen 0,6 und 1,0 variiert werden; die Konzentration von Gr -Ionen kann zwischen 3 und 20 Mässe% betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 11 Ohm-cm und 14 Ohm-cm liegen.The pH can be varied between 0.6 and 1.0; the concentration of Gr ions may be between 3 and 20% by mass and the resistivity may be between 11 ohm-cm and 14 ohm-cm.

Reaktionabedindungen- Reaction conditions -

Matrix · = KupferMatrix · = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Pre quenz = 6,25 kHzPrequency = 6.25 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit =1125 mm/MinuteApplication speed = 1125 mm / minute

Auftragungsdauer = 5»0 MinutenApplication time = 5 »0 minutes

Untersuchungen mit dem Licht- und Rastermikroskop haben eine Ghromschicht auf der Oberfläche von annähernd 1 /um Dicke gezeigt. Die Oberfläche der,Schicht war unregelmäßig, aber die Schicht schien frei von.Fehlern zu sein und war durchgehend, wie Pig. 43 zeigt.Light and scanning microscope studies have shown a Ghrom layer on the surface of approximately 1 / μm thickness. The surface of the layer was irregular, but the layer appeared to be free from imperfections and was continuous, like Pig. 43 shows.

Eine SEH/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zeigte, daß Chrom bis zu einer"Tiefe von mindestens 3,0 /um verschmolzen war, wie aus der nachstehenden Tabelle und Pig. 44 hervorgeht.An SEH / EPMA scan of the interface showed that chromium was fused to a depth of at least 3.0 μm, as shown in the table below and Pig.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Konzentration (Massel)Concentration (mass) 0,5, :0,5,: GrGr 94,094.0 1,01.0 GrGr 32,032.0 2,02.0 GrGr 1,81.8 3,03.0 GrGr 1,0-1.0 Beispiel XVIExample XVI

Es wurde eine wäßrige Lösung mit der gleichen Zusammensetzung hergestellt, wie sie in Beispiel XV verwendet wurde:An aqueous solution of the same composition as used in Example XV was prepared:

ReaktionabedindungenReaktionabedindungen

Matrix ; = Stahl (ASA 1018)Matrix ; = Steel (ASA 1018)

Elektrode = Graphit'·-Electrode = graphite '· -

U -U -

Elektrodenüberzug = BauinwollgazeElectrode coating = Bauinwollgaze

Frequenz =6,48 kHzFrequency = 6.48 kHz

Auf tragunga gea chvs ind igke it = 11 66 , 4 mm/MinuteOn tragunga gea chvs ind igke it = 11 66, 4 mm / minute

Auftragungadauer =5,0 MinutenApplication duration = 5.0 minutes

Untersuchungen mit dem Licht- und Raatermikroskop ergaben eine Chromachicht auf der" Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 3,0 /um. Sie entaprach der in Pig» 45 gezeigten.Examination with the light and razor microscope revealed a chrome layer on the "surface with a thickness of approximately 3.0 μm, corresponding to that shown in Pig" 45.

Eine SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von Chrom bia zu einer Tiefe von mindestena 5,0 /um,wie aus der nachstehenden Tabelle und Fig. 46 hervorgeht.An SEM / ΕΡΜΑ scan of the interface showed a fusion of chromium bia to a depth of at least 5.0 / μm, as shown in the table below and FIG. 46.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Maaae%Maaae% 1,01.0 CrCr 100 100 2,02.0 CrCr 97,297.2 3,03.0 CrCr ' 20,8'20,8 4,04.0 CrCr 2,82.8 5,05.0 CrCr 2,12.1

Beispiel XVIIExample XVII

Es wurde eine wäßrige Losung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:An aqueous solution with the following composition was prepared:

Ή ame ' · Gramm/Liter Ή amegrams / liter

Chrom(Ui) -Chlorid . 213: : ""Chromium (Ui) chloride. 213: ""

Natriumchlorid 36Sodium chloride 36

Ammoniumchlorid 2.6Ammonium chloride 2.6

Borsäure 20Boric acid 20

Dimethylformamid 400 mlDimethylformamide 400 ml

Natriumacetat 3,0Sodium acetate 3.0

Natriuml.aurylsulfat 0,5Sodium lauryl sulfate 0.5

?/asser. (destilliert) bis 1000 ml? / Ater. (distilled) to 1000 ml

Diese Lösung zeigte folgende Kennwerte:This solution showed the following characteristics:

pH-Wert ' =3,0pH value = 3.0

spezifischer Widerstand = 17,4 Ohm-cmresistivity = 17.4 ohm-cm

Konzentration von Cr+ = 2,5 bia 3,5Concentration of Cr + = 2.5 bia 3.5

Der pH-Wert kann zwischen 2,5 und 3,5 variiert werden; dieThe pH can be varied between 2.5 and 3.5; the

Konzentration von Cr+ -Ionen kann zwischen 1,8 und 5,0 MasselConcentration of Cr + ions can be between 1.8 and 5.0 mass

ZJD/ i U I ZJD / i U I

liegen und der apeziflache Widerstand kann 16 Ohm-cm bia 20 Ohm-cm betragen.and the specific resistance may be 16 ohm-cm to 20 ohm-cm.

ReaktionäredindungenReaktionäredindungen

Matrix = KupferMatrix = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = 6,85 kHzFrequency = 6.85 kHz

Auftragungageschwindigkeit =1251 mm/MinuteApplication speed = 1251 mm / minute

Auftragungsdauer =3,0 MinutenApplication time = 3.0 minutes

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Chromachicht auf der"Oberfläche von annähernd 0,5 /um Dicke» Die Schicht -,mar feat und durchgehend wie die Fig. 47 und 47A 'zeigen.Examination with the light and scanning microscope revealed a chrome layer on the "surface of approximately 0.5 / μm thickness." The layer, mar feat and continuous as Figs. 47 and 47A 'show.

Eine SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Chrom bia zu einer Tiefe von mindestens 3,0 ,um wie die nachstehende Tabelle und Fig. 48 zeigen.An SEM / ΕΡΜΑ scan of the interface revealed a fusion of chromium bia to a depth of at least 3.0 , as shown in the table below and FIG. 48.

Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Depth, / around element concentration (Massel)

1 - Cr , 21,21 - Cr, 21.2

2 Cr 4,02 Cr 4.0

3 ' Cr 0,93 'Cr 0.9

Beispiel XVIIIExample XVIII

Ea wurde eine wäßrige Löaung mit der gleichen Zusammensetzung, wie sie für Beispiel XVII hergestellt wurde, verwendet:Ea was an aqueous Löaung with the same composition as prepared for Example XVII was used:

Eeakt ionsbe d indungenEctictive Indications

Matrix. . = Stahl (ASA Ί0Τ8)Matrix. , = Steel (ASA Ί0Τ8)

Elektrode GraphitElectrode graphite

Elektrodehüberzug = BaumwollgazeElektrodehüberzug = cotton gauze

Frequenz =6,85 kHzFrequency = 6.85 kHz

Auftragungageschwindigkeit = 1251 mm/MinuteApplication speed = 1251 mm / minute

Auftragungadauer =3,0 MinutenApplication duration = 3.0 minutes

Die untersuchung mit dem Licht- und Raatermikroakop ergab eine Chromachicht auf der Oberfläche., mit.-einer. Dicke von annähernd 1,0 /Um. Die Oberfläche der Schicht schien etwaa unregelmäßig zu sein, aber die 'Schicht-war fest und frei von Feh-The investigation with the light and Raatermikroakop resulted in a Chromachicht on the surface., Mit.-one. Thickness of approximately 1.0 / um. The surface of the layer appeared to be somewhat irregular, but the layer was firm and free of defects.

- 39 - ι JD / I U I - 39 - ι JD / IU I

lern, ν?ie die Fig. 49 und 49A zeigen»learn, Figs. 49 and 49A show »

Bine SEM/ΕΡΜΑ-AIdtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von Chrom bia zu einer Tiefe von mindestens 3,0 /um, wie es aus nachstehender Tabelle und Fig. 50 hervorgeht.Bine SEM / ΕΡΜΑ-Aldtastung of the interface showed a fusion of chromium bia to a depth of at least 3.0 / um, as shown in the table below and Fig. 50.

Tiefe, /am Element Konzentration (Massel)Depth, / at element concentration (Massel)

0,5 Gr 97,20.5 gr 97.2

1,0 Cr 97,61.0 Cr 97.6

1,5 Cr . 22,21,5 Cr. 22.2

2,0 Cr -1,52.0 Cr -1.5

3,0. Cr 0,83.0. Cr 0.8

Beispiel example UXUX

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:An aqueous solution with the following composition was prepared:

Uame Gramm/Liter Uame Gram m / Lite r

Cadmiumchlorid STatriumd !phosphat Wasser (destilliert)Cadmium chloride Sodium phosphate Phosphate (distilled)

Die Lösung hatte folgende.Kennwerte; ρH-WertThe solution had the following characteristics: ρH value

spezifischer Widerstandspecific resistance

- +2 ^Konzentration von Cd- +2 ^ concentration of Cd

Der pH-Wert kann zwischen 10 und 10,2 variiert werden; die Konzentration von Cd -Ionen kann zwischen 0,2 und 0,5 Massel liegen,und der spezifische Widerstand kann 28 Ohm-cm bis Qhm-cm betragen.The pH can be varied between 10 and 10.2; the concentration of Cd ions may be between 0.2 and 0.5 mass, and the resistivity may be 28 ohm-cm to Qhm-cm.

Reaktionsbedingungenreaction conditions

Matrix ' = KupferMatrix '= copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = (1) 7,29 kHz;Frequency = (1) 7.29 kHz;

- (2) 7,91 kHz' Auftragungsgeschwindigkeit = (1) 1 312,2 mm/Minute;- (2) 7.91 kHz 'application speed = (1) 1 312.2 mm / minute;

" (2) 1423,8 mm/Minute'"(2) 1423.8 mm / minute"

6,6 7474 1010 mlml 5454 3333 10001000 P,P, 0hm—cm0hm-cm __ 32 Massel32 pigs 77 77

- 40 - I ά Ö / I U L - 40 - I ά Ö / IU L

Auftragungε dauer =(1)1,0 min;Plot duration = (1) 1.0 min;

(2) 3,0 min.(2) 3.0 min.

In diesem Beispiel handelte es sich bei der verwendeten Lösung anfangs um' die oben erläuterte, die nach den als (1) gekennzeichneten Bedingungen aufgebracht wurde. Eine zweite Lösung, die in Beispiel ΧΣ angeführte, wurde anschließend unter den 8.1s (2) gekennzeichneten Bedingungen aufgebracht.In this example, the solution used was initially that described above, which was applied according to the conditions indicated as (1). A second solution, cited in example ΧΣ, was then applied under the 8.1s (2) labeled conditions.

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Cadmiurnschicht auf der' Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 4 /um. Diese Schicht war, wie .!Fig. 51 zeigt, nicht homogen, aber eine SM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von Cadmium bis zu einer Tiefe von mindestens 9 /um, wie die nachstehende Tabelle und Fig. 52 zeigen.Examination with the light and scanning microscope revealed a cadmium layer on the surface with a thickness of approximately 4 μm. This layer was as.! 51, not homogeneous, but an SM / EPMA scan of the interface showed a fusing of cadmium to a depth of at least 9 / um as shown in the table below and FIG. 52.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Konzentration (Massel)Concentration (mass) 22 CdCD 77,477.4 33 CdCD 65,265.2 44 CdCD 6,76.7 VJlVJL CdCD 1,21.2 66 CdCD 0,480.48 77 CdCD 2,12.1 88th CdCD 2,92.9 99 CdCD 0,890.89 Beispiel SXExample SX

Es i,iurde eine :wäßrige: Lösung ,mit folgender Zusammensetzung·, hergestellt;It i iurde, a: aqueous: solution prepared with the following composition ·;

Harneurine Gramm/LiterGrams / liter Cadmiumsulfatcadmium sulfate 26,65" 26.65 " Natriumchloridsodium chloride .8,7.8,7 Borsäureboric acid 15,015.0 Aluminiumsulfataluminum sulphate 17,517.5 Akaziengummi (Gummi arabicum)Acacia gum (gum arabic) 0,250.25 NatriumtetraboratSodium tetraborate 5,05.0 Benzols ulf onaäure,.Benzenesulfonic acid ,. 2,52.5 HatriumlaurylsulfatHatriumlaurylsulfat 0,50.5 Wasser (destilliert)Water (distilled) 1000 ml1000 ml

O / 1 U I O / 1 U I

Diese Lösung hatte folgende Kennwerte: pH-Wert " =3,40This solution had the following characteristics: pH value = 3.40

spezifischer Widerstand = 54.0hm-cmresistivity = 54.0hm-cm

Konzentration von Cd = 1,1 % Concentration of Cd = 1.1 %

Der pH-Wert kann zwischen 3»2 und 3}5 variiert werden; die Kcnzenträtion von Cd -Ionen kann 1 "bis 4 üasae% betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 45 Ohm-cm und 55 Ohm-cm liegen.The pH can be varied between 3 »2 and 3 } 5; the concentration of Cd ions can be from 1 "to 4% by weight and the resistivity can be between 45 ohm-cm and 55 ohm-cm.

Reaktionsbedindungenreaction conditions

matrix = Stahlmatrix = steel

Elektrode = PlatinElectrode = platinum

Elektrodenüberzug = HylontuchElectrode cover = Hylontuch

Fre quenz '. =13,7 kHzFre quency '. = 13.7 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit ' =2466 mm/MinuteApplication speed '= 2466 mm / minute

Auftragungsdauer = 2 MinutenApplication time = 2 minutes

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Cadmiumschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 1 /um. Die. Oberfläche der Schicht war unregelmäßig, aber sie war fest und durchgehend, wie aus Fig. 53 zu sehen ist.Examination with the light and scanning microscope revealed a cadmium layer on the surface with a thickness of approximately 1 / um. The. The surface of the layer was irregular, but it was solid and continuous, as shown in FIG. 53.

Eine SΕΜ/ΞΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von Cadmium bis zu einer Tiefe von mindestens 4 /um, aus nachstehender Tabelle und Fig. 54 zu sehen ist.An SΕΜ / ΞΡΜΑ scan of the interface showed a fusing of cadmium to a depth of at least 4 / um, as shown in the table below and Figure 54.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Konzentration (Massel)Concentration (mass) 0,50.5 CdCD 73,373.3 1,01.0 CdCD 8,88.8 2,02.0 CdCD ' 1,4'1.4 3,03.0 CdCD 1,21.2 4,04.0 CdCD 1,11.1 Beispiel XXIExample XXI

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender Zusammensetzung hergestellt:An aqueous solution with the following composition was prepared:

Name Gramm/LiterName grams / liter

Zinn(II)-chlorid 77,3 *Tin (II) chloride 77.3 *

Natriumhydroxid 66,0Sodium hydroxide 66.0

3 %J 3 % y

Uatriumacetat 14,7Sodium acetate 14,7

V/asser (destilliert) 1000 mlV / asser (distilled) 1000 ml

Diese Lösung hatte folgende Kennwerte; pH-Wert "=12,4This solution had the following characteristics; pH "= 12.4

apezifischer Widerstand =8,6 Ohm-cmSpecific resistance = 8.6 ohm-cm

Konzentration von Sn -Ionen = 4 MasselConcentration of Sn ions = 4 pigs

Der pH-Wert kann zwischen 11,2 und 12,7 variiert werden; dieThe pH can be varied between 11.2 and 12.7; the

+ 2 —+ 2 -

Konzentration der Sn -ionen kann zwischen 2 und 5 Masse% liegen, und der spezifische Widerstand kann 6,2 Ohm-cm bis 10,3 Ohm-cm betragen.Concentration of the Sn ions may be between 2 and 5 mass%, and the resistivity may be 6.2 ohm-cm to 10.3 ohm-cm.

Re akt ionsbe d ingungenReception procedures

Matrix ' = KupferMatrix '= copper

Elektrode . = GraphitElectrode. = Graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = 9,85 kHzFrequency = 9.85 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 1773 mm/MinuteApplication speed = 1773 mm / minute

Auftragungsdauer = 2 MinutenApplication time = 2 minutes

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Zinnschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 1,2 /um» Die Schicht war einheitlich dick "und' homogen«. Das geht - aus Fig. 55 hervor·Examination with the light and scanning microscope revealed a tin layer on the surface with a thickness of approximately 1.2 μm "The layer was uniformly thick" and "homogeneous." This is evident from FIG.

Eine SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Zinn bis zu einer Tiefe von mindestens 4 /um, wie - -·- aus der nachstehenden Tabelle und Fig. 56 zu sehen ist.An SEM / EPMA scan of the interface resulted in a fusion of tin to a depth of at least 4 / um, as can be seen from the table below, and Figure 56.

Konzentration1 (Masse?!) 91,4 Concentration 1 (mass ?!) 91.4

4,4:4,4:

0,9 0,50.9 0.5

Beispiel ΣΣΙΙExample ΣΣΙΙ

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender ZusammensetzungIt was an aqueous solution having the following composition

hergestellt:.manufactured:.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement 11 Snsn 2.Second Snsn 33 Snsn 44 Snsn

ΙόΌΙόΌ

NameSurname Gramm/LiterGrams / liter Kennwerte:Characteristics: = 9,05= 9.05 Zinn(II)-ChloridTin (II) chloride 9,4 -9.4 - =34 Chm-cm= 34mm-cm Natriumdiphosphatsodium diphosphate 44,744.7 Dextrindextrin 6,256.25 Wasser (destilliert)Water (distilled) 1000 ml1000 ml Iiatriumlaurylsul^f atSodium lauryl sulfate at 0,50.5 Diese Lösung hatte folgendeThis solution had the following pH-WertPH value spezifischer Widerstandspecific resistance

Konzentration von Sn =0,50 MasselConcentration of Sn = 0.50 mass

Der pH-Wert kann zwischen 9 und 9,7 variiert werden; die Konzentration von Sn -Ionen kann zwischen 0,4 und 1 Massel betragen und der spezifische Widerstand kann zwischen 30 Ohm-cm und 36 0hm-cm liegen.The pH can be varied between 9 and 9.7; the concentration of Sn ions can be between 0.4 and 1 mass and the resistivity can be between 30 ohm-cm and 36 ohm-cm.

Reaktionsbedingungenreaction conditions

Matrix = KupferMatrix = copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Blektrodenüberzug = BaumwollgazeBlektrodenüberzug = cotton gauze

Frequenz =9,85 kHz Auftragungsgeschwindigkeit - = 1773 min/MinuteFrequency = 9.85 kHz Application rate - = 1773 min / minute

Auftragungsdauer = 2 MinutenApplication time = 2 minutes

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Zinnschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 4 /um. Diese Auftragung scheint aus einer "tieferen einheitlichen und im wesentlichen homogenen Schicht mit einer Dicke von annähernd 1 /um und einer äußeren, leicht porösen Schicht mit einer Dicke von annähernd 3 /um zu bestehen, wie in Pig, 57 zu sehen ist.Examination with the light and scanning microscope revealed a tin layer on the surface with a thickness of approximately 4 / um. This plot appears to consist of a "lower uniform and substantially homogeneous layer having a thickness of approximately 1 μm and an outer slightly porous layer having a thickness of approximately 3 μm, as can be seen in Pig, 57.

Eine SEM/ΕΡΜΑ-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Zinn bis zu einer Tiefe von mindestens 5 /um, wie die nachstehende Tabelle und Fig. 58 zeigen.An SEM / ΕΡΜΑ scan of the interface resulted in a fusion of tin to a depth of at least 5 / um as shown in the table below and FIG. 58.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Konzentration (Masse?!)Concentration (mass ?!) 11 Snsn 9797 IV)IV) Snsn 97,397.3 33 Snsn 94', 394 ', 3 55 Snsn 1,01.0

- 44 - / < r\ / ι y- 44 - / < y

Beispiel XXIIIExample XXIII

Es wurde eine -wäßrige Lösung mit der gleichen Zusammensetzung, wie sie für Beispiel XZII hergestellt wurde, verwendet:An aqueous solution of the same composition as prepared for Example XZII was used:

Reaktionabedingungen . Reaction conditions .

Matrix = Stahl (ASA 1010)Matrix = steel (ASA 1010)

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = 10,61 kHzFrequency = 10.61 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 1909,8 mm/MinuteApplication speed = 1909.8 mm / minute

Auftragungsdauer = 3 MinutenApplication time = 3 minutes

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Zinnschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von über 2 /um. Diese Schicht war porös aber durchgehend, wie Fig. 59 zeigt.Examination with the light and scanning microscope revealed a tin layer on the surface with a thickness of over 2 / μm. This layer was porous but continuous, as shown in FIG. 59.

Eine SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Zinn bis zu einer Tiefe von mindestens 2 /um, wie aus nachstehender Tabelle und Fig. 60 zu sehen ist.An SEM / EPMA scan of the interface resulted in a fusion of tin to a depth of at least 2 / um, as can be seen from the table below and FIG. 60.

Tiefe, /umDepth, / um Elementelement Masse%Dimensions% 0,50.5 Snsn 96,296.2 1,01.0 Snsn 81,481.4 2,02.0 Snsn 2,52.5 Beispiel XXIYExample XXIY

Es wurde eine wäßrige Lösung mit folgender ZusammensetzungIt was an aqueous solution having the following composition

hergestellt:manufactured:

Uame · Uame ·

Kobalt(II)-sulfat Natriumfluorid BorsäureCobalt (II) sulfate sodium fluoride boric acid

Dextrosedextrose

Matriumlaurylsulfat Wasser (destilliert)Matrium lauryl sulfate water (distilled)

Diese Lösung hatte folgende Kennwerte pH-Wert 'This solution had the following characteristic values pH value '

spezifischer Widerstand Konzentration von Goresistivity concentration of Go

Gramm/LiterGrams / liter mlml 252252 0303 1414 ,5 Ohm-cm, 5 ohm-cm 4545 3 Massed3 massed 55 0,20.2 10001000 = 6,= 6, = 28= 28 = 5,= 5,

L Ö D / i Ua L Ö D / i Ua

Der pH-Wert kann zwischen 4,5 und 6,5 variieren; die Konzentration der Go -Ionen kann 2 bia 6 Massel betragen und der spezifiache Widerstand kann zwischen 25 Ohm-cm und 30 Ohm-cm liegen.The pH can vary between 4.5 and 6.5; the concentration of Go ions can be 2 to 6 masses and the specific resistance can be between 25 ohm-cm and 30 ohm-cm.

Reaktionsbedingungenreaction conditions

Matrix " = KupferMatrix "= copper

Elektrode = PlatinElectrode = platinum

Elektrodenüberzug = NylontüllElectrode coating = nylon waste

Frequenz ._._.. = 5»1 kHzFrequency ._._ .. = 5 »1 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit =918 mm/Minute .Application speed = 918 mm / minute.

Auftragungadauer =3,0 MinutenApplication duration = 3.0 minutes

Die Unterauchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Kobaltschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 6,5 /um. Diese Schicht war gleichmäßig und durchgehend, wie die Fig. 61 zeigt.Scanning with the light and scanning microscope revealed a cobalt layer on the surface with a thickness of approximately 6.5 / μm. This layer was uniform and continuous, as shown in FIG. 61.

Eine SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche zeigte eine Verschmelzung von Kobalt bis zu einer Tiefe von mindestens 20 /um, wie aus nachstehender Tabelle und Fig. 62 hervorgeht.An SEM / EPMA scan of the interface showed a fusion of cobalt to a depth of at least 20 μm, as shown in the table below and FIG. 62.

Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Depth, / around element concentration (Massel)

10 Go 2,6510 Go 2.65

15 Go 1,615 Go 1.6

20 Go 0,8720 Go 0.87

25 . Go 0,4425. Go 0.44

Aus der visuellen Untersuchung und den vorausgehenden Experimenten ging hervor, daß die Ablagerung von Kobalt bei einer Höhe von über 10 /uzn extrem dicht war.From the visual examination and the preliminary experiments, it was found that the deposition of cobalt was extremely dense at a level of over 10 Ω / □.

Beispiel 2X7Example 2X7

Ea wurde eine wäßrige Lösung mit folgender ZusammensetzungEa became an aqueous solution with the following composition

hergestellt:manufactured:

Name ' Gramm/Liter Name ' grams / liter

Silbercyanid . 26 "Silver cyanide. 26 "

Kai i urne y an id 46Kai i urne y an id 46

Kalimcarbonat 37Potassium carbonate 37

Natriumlaurylaulfat 1Sodium Laurylaulfate 1

Kohlenstoffdiaulfid 1,-2Carbon disulfide 1, -2

Wasser (destilliert) 1000 mlWater (distilled) 1000 ml

Diese Lösung hatte die folgenden Kennwerte; pH-Wert " =11,55This solution had the following characteristics; pH "= 11.55

spezifischer Widerstand = 10,5 Ohm-cmresistivity = 10.5 ohm-cm

Konzentration von Ag+ = 2,09 MasselConcentration of Ag + = 2.09 mass

Der pH-Wert kann zwischen 11,2 und 11,7 variiert werden; dieThe pH can be varied between 11.2 and 11.7; the

+ 1+ 1

Konzentration der Ag -Ionen kann von 1 bis 3 Massel betragen, und der spezifische Widerstand kann zwischen 8 Ohm-cm und 13 Ohm-cm liegen.The concentration of Ag ions may be from 1 to 3 masses and the resistivity may be between 8 ohm-cm and 13 ohm-cm.

Reaktionsbedingungenreaction conditions

Matrix = KupferMatrix = copper

Elektrode = PlatinElectrode = platinum

Elektrodenüberzug = NylonElectrode coating = nylon

!Frequenz = 7,7 kHz! Frequency = 7.7 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit . = 1386 inm/MinuteApplication speed. = 1386 inm / minute

Auftragungsdauer =1,0 MinuteApplication time = 1.0 minute

Die Untersuchung mit dem Licht- und Rastermikroskop ergab eine Silberschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 5 /um. Das Gefiige ist in Fig. 63 und 63A zu sehen.Examination with the light and scanning microscope revealed a silver layer on the surface with a thickness of approximately 5 / um. The figure can be seen in Figs. 63 and 63A.

Eine SELi/EPMA-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Silber bis zu einer Tiefe von mindestens 3 /urn, wie aus der nachstehenden Tabelle und Pig. 64 zu erkennen ist.An SELi / EPMA scan of the interface resulted in a fusion of silver to a depth of at least 3 / urn, as shown in the table below and Pig. 64 can be seen.

Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Depth, / around element concentration (Massel)

1 Ag 98,71 Ag 98.7

2 Ag 91,42 Ag 91.4

3 Ag 46,33 Ag 46,3

4 Ag 2,44 Ag 2,4

5 Ag .1,05 Ag .1.0

Beispiel ΣΣΥΙExample ΣΣΥΙ

Es wurde, eine·' wäßrige. Lösung mit .folgender Zusammensetzung hergestellt!It became, an 'aqueous. Solution made with .following composition!

Name ' Gramm/Ljter Name ' Gramm / Ljter

Silbernitrat 29Silver nitrate 29

Kalimjodid 398Potash iodide 398

Zitronensäure 6Citric acid 6

Dextrose 5Dextrose 5

Kohlenstoffdisulfid 1,5Carbon disulfide 1.5

Ammoniumiiydroxid bia zum pH-WertAmmonium hydroxide bia to pH

V/aaser (destilliert) 1000 mlV / aaser (distilled) 1000 ml

Diese Lösung hatte folgende Kennwertes pH-Wert . ' '=5,6This solution had the following pH value. '= 5.6

apezifiacher Widerstand = 6,6 Ohm-cmA specific resistor = 6.6 ohm-cm

Konzentration von Ag = 1,84 %Concentration of Ag = 1.84%

Der pH-Wert kann zwischen 1,5 und 2 variiert werden; die Konsentration von Ag+ -Ionen kann von 0,5 bis 2,5 Massel betragen, und der spezifische Widerstand kann zwischen 6 Ohm-cm'und 12 Ohm-cm. liegen.The pH can be varied between 1.5 and 2; the concentration of Ag + ions can be from 0.5 to 2.5 mass and the resistivity can be between 6 ohm-cm and 12 ohm-cm. lie.

Reaktiona bedingungenReactiona conditions

Matrix . = KupferMatrix. = Copper

Elektrode = GraphitElectrode = graphite

Elektrodenüberzug = BaumwollgazeElectrode cover = cotton gauze

Frequenz = 9,5 kHzFrequency = 9.5 kHz

Auftragungsgeschwindigkeit = 1710 mm/MinuteApplication speed = 1710 mm / minute

Auftragungadauer =2,0 MinutenApplication duration = 2.0 minutes

Die Unterauchung mit dem Licht- und Rastermikroskop zeigte eine Silberschicht auf der Oberfläche mit einer Dicke von annähernd 2 /um. Daa Gefüge wird in Fig. 65 gezeigt.Scanning with the light and scanning microscope showed a silver layer on the surface with a thickness of approximately 2 / um. Daa texture is shown in FIG.

Eine SEM/EPMA-Abtastung der Grenzfläche ergab eine Verschmelzung von Silber bis zu einer Tiefe"von mindestens 2,00 ,am, wie aus nachstehender Tabelle und Fig. 66 hervorgeht.An SEM / EPMA scan of the interface resulted in a fusion of silver to a depth "of at least 2.00 nm , as shown in the table below and Figure 66.

Tiefe, /um Element Konzentration (Massel)Depth, / around element concentration (Massel)

1 Ag .97,71 Ag .97,7

2 Ag 97,52 Ag 97.5

3 . ' Ag 28,03. 'Ag 28.0

4 Ag 3,84 Ag 3.8

5 Ag 2,85 Ag 2.8

6 Ag 1,06 Ag 1.0

Wie aus den vorstehenden Beispielen ersichtlich ist, werden durch die Erfindung ein neuartiges Verfahren, eine Anlage für die Durchführung des Verfahrens, Lösungen für den Einsatz beiAs can be seen from the above examples, the invention provides a novel process, an apparatus for carrying out the process, solutions for use

<+ CJ<+ CJ

L όΌ / I U L όΌ / IU

dem Verfahren und neue Produkte, die für die vielseitigsten Anwendungszwecke und Einsatzbedingungen geeignet sind, zur Verfugung gestellt.the process and new products that are suitable for the most varied applications and conditions of use provided.

Wenn aioh auch die Beschreibung auf Beispiele beschränkt hat, in denen die Aufbringung auf der gesamten Oberfläche erfolgte, so ist doch zu beachten, daß die Aufbringung selbstverständlich auf spezifische Bereiche von Oberflächen je nach einem spezifischen verlangten Ergebnis begrenzt werden kann.Although the description has been limited to examples in which application has been made on the entire surface, it is to be understood that the application may of course be limited to specific areas of surfaces depending on a specific desired result.

Beispielsweise können Zinn, Gold und Silber infolge der ausgezeichneten, für sie typischen Leitfähigkeitskennwerte für elektrische Aim endungsfälle verwendet werden, und Schaltungen können auf andere Substrate aufgeschmolzen werden,For example, tin, gold and silver can be used due to the excellent, ending cases for them typical conductivity characteristics for electrical Aim, and circuits can be fused to other substrates,

Auch die Anitkorrosionseigenschaften von Zinn, Gold, Silber, Nickel, Ghrom, Cadmium, Molybdän und Wolfram sind wertvoll. Und die Anwendung dieser Metalle bei Eisen- und lichteisensubstraten wird deren Antikorrosionsverhalten verbessern,,The anti-corrosive properties of tin, gold, silver, nickel, ghrome, cadmium, molybdenum and tungsten are also valuable. And the application of these metals to iron and light iron substrates will improve their anti-corrosion behavior,

Chrom, Nickel, Silber, Gold oder Zinn bieten auch die '•-Möglichkeit * der Matrix ein angenehmes Äußeres zu verleihen. Chrom, Molybdän, Wolfram, Titan und Kobalt verleihen der Matrix Oberflächenhärte« Chromium, nickel, silver, gold or tin also offer the '• possibility' of giving the matrix a pleasant appearance. Chromium, molybdenum, tungsten, titanium and cobalt give the matrix surface hardness «

Indium verleiht der Matrix Festigkeit und dient auch als AntiScheuermittel. Eine mit Molybdän behandelte Eisen- oder Nichteiaenmatrix besitzt verbesserte Friktions-Verschleiß- und Hoch- " temperaturbeständigkeitskennwerte. Es ist auch als dielektrische Beschichtung geeignet.Indium adds strength to the matrix and also serves as an anti-chemical agent. A molybdenum-treated ferrous or non-ferrous matrix has improved friction wear and high temperature resistance characteristics and is also suitable as a dielectric coating.

Eine mit Cadmium verschmolzene Matrix weist nicht nur verbesserte Kennwerte hinsichtlich der Korrosionsbeständigkeit auf, sondern kann auch als Antifoulingmittel zur Behandlung von Schiffsrümpfen dienen.A cadmium fused matrix not only has improved corrosion resistance characteristics but can also serve as an antifouling agent for ship hull treatment.

Mit Silber verschmolzene Matrizen sind insgesamt als Reflexionsmedium wertvoll.Overall, silver-fused matrices are valuable as a reflective medium.

Es wird deutlich geworden sein, daß das Verfahren und die Anlage äußerst vielseitig ohne großen Kapitalaufwand und .Anlagenaufwand eingesetzt werden können und die Verwendung von Werkstoffen bei Anwendungsfällen ermöglichen, die bisher bei geringeremIt will be apparent that the process and plant can be used in a very versatile manner without great capital and equipment expense, and enable the use of materials in applications that have previously been of lesser value

Aufwand als früher nicht in ?rage kamen, und außer den beschriebenen Anwendungsfallen und Einsatzmöglichkeiten «erden dem Fachmann noch viele andere bekannt sein.Expenditure than previously did not come into question, and in addition to the application cases and applications described, "many others will be aware of this.

Ea wird gleichfalls deutlich geworden sein, daß die verschiedenen Parameter des Verfahrens je nach den betreffenden Variablen und den verlangten Ergebnissen verändert werden können, ohne daß vom Inhalt und Geltungsbereich der Erfindung, die in den angefügten Ansprüchen definiert werden, abgewichen wird.It will also be apparent that the various parameters of the method may be varied according to the variables involved and the results sought, without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims.

Claims (20)

so 2 3b/ i U L so 2 3b / i U L Erf indungaanapruch;Erf indungaanapruch; 1. Verfahren für daa Verschmelzen mindestens einea zweiten leitfähigen chemischen Elementes mit einer Matrix einea ersten leitfähigen chemischen Elementes bei Umge "bungstemperatur, gekennzeichnet dadurch, daß das zweite leitfähige Element mit einer benachbarten Fläche des ersten leitfähigen chemischen Elementes in Eontakt gebracht wird und ein zerhacktes elektrisches Signal einer bestimmten Frequenz an daa erste und zweite chemische Element angelegt wird, wodurch das zweite chemische Element mit dem ersten chemischen Element verschmolzen wird.A method for melting at least one second conductive chemical element having a matrix of a first conductive chemical element at ambient temperature, characterized in that the second conductive element is brought into contact with an adjacent surface of the first conductive chemical element and a chopped electrical Signal of a certain frequency to daa first and second chemical element is applied, whereby the second chemical element is fused with the first chemical element. 2. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das2. The method according to item 1, characterized in that the Signal ein Impulssignal im Bereich von 2,5 Mikrosekunden bisSignal a pulse signal in the range of 2.5 microseconds to 2 28,6 lanoaekunden mit einer Amplitude von 3 A je 0,3 mm über einen bestimmten Zeitraum ist.2 is 28.6 lanoaeconds with an amplitude of 3 A per 0.3 mm over a given period of time. 3. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das zweite leitfähige Element über die Matrix mit einer solchen Geschwindigkeit geführt wird, daß eine im wesentlichen durchgehende Verschmelzungsfläche des zweiten leitfähigen chemischen Elementes mit dem ersten chemischen Element entsteht.3. The method according to item 1, characterized in that the second conductive element is passed over the matrix at such a speed that a substantially continuous merging surface of the second conductive chemical element is formed with the first chemical element. 4. Verfahren nach Punkt .3, gekennzeichnet dadurch, daß die Bewegungsgeschwindigkeit des zweiten leitfähigen chemischen Elementes im wesentlichen der Hälfte der Frequenz des elektrischen Signals proportional ist.4. The method according to item .3, characterized in that the movement speed of the second conductive chemical element is substantially proportional to half the frequency of the electrical signal. 5. Verfahren nach Punkt 2, gekennzeichnet dadurch, daß die Frequenz im Bereich von 400 Hz bis 35 MHz liegt. 5. The method according to item 2, characterized in that the frequency is in the range of 400 Hz to 35 MHz. 6. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige chemische Element aua der Eisen- und Nichteisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe ausgewählt ist.A method according to item 1, characterized in that the first conductive chemical element is selected from the group consisting of ferrous and non-ferrous metals or an alloy thereof. 7. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das zweite leitfähige chemische Element aus" der Eisen- oder Nichteisenmetalle . oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe ausgewählt ist.A method according to item 1, characterized in that said second conductive chemical element is selected from the group consisting of iron or non-ferrous metals or an alloy thereof. 8. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige chemische Element aus der Eisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe und das zweite leitfähige8. The method according to item 1, characterized in that the first conductive chemical element of the ferrous metals or an alloy thereof comprehensive group and the second conductive Element aua der Nichteisenmetalle oder eine Legierung derselben umfaasenden Gruppe ausgewählt' ist.Element is selected from the non-ferrous metals or an alloy of the same encompassing group. 9· Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige Element aus der Nichteisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe und das zweite leitfähige Element aus der Eisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe ausgewählt ist.The method according to item 1, characterized in that said first conductive member is selected from the group consisting of nonferrous metals or an alloy comprising the same, and said second conductive member is selected from the group consisting of ferrous metals or an alloy thereof. 10. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das zweite leitfähige Element in Form einer festen Elektrode, die das zweite leitfähige Element enthält, vorhanden ist,10. The method according to item 1, characterized in that the second conductive element is in the form of a solid electrode containing the second conductive element, 11. Anlage für das Verschmelzen eines ersten leitfähigen chemischen Elementes mit einem zweiten leitfähigen chemischen Element, gekennzeichnet dadurch, daß sie einen Schwingkreis für die Erzeugung eines zerhackten. Halbwellensignals innerhalb eines bestimmten Frequenzbereichs aufweist, wobei der Schwingkreis einen Ausgang und Möglichkeiten für die Anlegung des Schwingkreisausganges an eine Matrix eines ersten leitfähigen chemischen Elementes, mit dem ein zweites leitfähiges chemisches Element verschmolzen werden' soll, und das zweite chemische Element aufweist, wodurch das zweite leitfähige chemische Element mit dem ersten leitfähigen chemischen Element verschmolzen wird,11. Plant for fusing a first conductive chemical element with a second conductive chemical element, characterized in that it comprises a resonant circuit for the production of a chopped. Semi-wave signal within a certain frequency range, wherein the resonant circuit has an output and possibilities for the application of the resonant circuit output to a matrix of a first conductive chemical element to which a second conductive chemical element is fused ', and the second chemical element, whereby the second conductive chemical element is fused with the first conductive chemical element, 12. Anlage nach Punkt 11, gekennzeichnet dadurch, daß die bestimmte Frequenz, festgelegt wird.12. Appendix according to item 11, characterized in that the particular frequency is set. 13· Anlage nach Punkt 11, gekennzeichnet dadurch, daß die bestimmte Frequenz variabel ist und die Anlage Möglichkeiten zum Variieren, des Signals aufweist.13 · Installation according to item 11, characterized in that the specific frequency is variable and the system has possibilities to vary the signal. 14· Produkt, gekennzeichnet dadurch, daß es eine Matrix eines ersten leitfähigen chemischen Elementes mit einer Außenfläche, mit der ein zweites leitfähiges chemisches Element zumindest an der Außenfläche verschmolzen wurde, aufweist, und nach dem Verfahren nach Punkt 1 gewonnen wurde.A product characterized in that it has a matrix of a first conductive chemical element having an outer surface fused to a second conductive chemical element at least on the outer surface and recovered by the method of item 1. 15· Produkt nach Punkt 14, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige chemische Element aus der Eisen- oder Nichteisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe und das zweite leitfähige chemische Element aus der Eisen- oderProduct according to item 14, characterized in that the first conductive chemical element is composed of the iron or non-ferrous metals or an alloy of the same group and the second conductive chemical element of the iron or non-ferrous metals L OO / 1 U L OO / 1 U L · Nichteisenmetalle oder eine Legierung derselben umfassenden Gruppe ausgewählt iat und sich von dem ersten leitfähigen chemischen Element unterscheidet.Non-ferrous metals or an alloy of the same comprehensive group selected iat and differs from the first conductive chemical element. 16. Produkt nach Punkt 15, gekennzeichnet dadurch, daß das erste . leitfähige chemische Element eisenhaltig oder eine Eisenlegierung ist.16. Product according to item 15, characterized in that the first. conductive chemical element is ferric or an iron alloy. 17. Produkt nach Punkt 15, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige chemische Element nichteisenhaltig oder eine Nichteisenlegierung ist._17. Product according to item 15 , characterized in that the first conductive chemical element is non-ferrous or a non-ferrous alloy. 18. Produkt nach Punkt 16, gekennzeichnet dadurch, daß daa zweite leitfähige Element nichteisenhaltig oder eine Nichteisenlegierung ist.18. Product according to item 16, characterized in that daa second conductive element is non-ferrous or a non-ferrous alloy. 19. Produkt nach Punkt 16, gekennzeichnet dadurch,, daß das zweite leitfähige Element eisenhaltig oder eine Eisenlegierung ist.19. Product according to item 16, characterized in that the second conductive element is ferrous or an iron alloy. 20. Produkt nach Punkt 16, gekennzeichnet dadurch, daß das erste leitfähige chemische Element Stahl ist und das zweite leitfähige chemische' Element unter den Elementen der Gruppen 4B, 6b der Tabelle des Periodensystems ausgewählt ist»20. A product according to item 16, characterized in that the first conductive chemical element is steel and the second conductive chemical element is selected from the elements of groups 4B, 6b of the periodic table. » 21= Anlage für das Verschmelzen einer elektrisch leitenden Komponente mit einer anderen elektrisch leitenden Komponente, gekennzeichnet dadurch,, daß die Anlage aufweist eine elektrische Stromquelle, wobei die Stromquelle einen Schwingkreis und einen Ausgang zur Schaffung eines elektrischen Halbwellensignals am Ausgang umfaßt und der Ausgang ein Klernmenpaar aufweist, eine erste Verbindungsvorrichtung, die mit einem.Ende mit einer Ausgangsklemme verbunden ist und deren gegenüberliegendes'Ende mit der anderen Komponente an einer Stelle verbunden werden kann, und eine zweite Verbindungsvorrichtung, die mit einem Ende mit der anderen Ausgangsklemme verbunden ist und deren gegenüberliegendes Ende mit der anderen Komponente an einer anderen Stelle verbunden werden kann, wobei die erste Verbindungsvorrichtung die eine Komponente am gegenüberliegenden Ende der ersten Verbindungsvorrichtung aufweist, um die eine Komponente mit der anderen Komponente in Berührung zu bringen, wenn die erste Verbindungsvorrichtung a.n diese angeschlossen ist21 = installation for fusing an electrically conductive component with another electrically conductive component, characterized in that the system comprises an electrical power source, the power source comprising a resonant circuit and an output for providing a half-wave electrical signal at the output and the output a Klernmenpaar a first connection device connected at one end to an output terminal and having its opposite end connected to the other component at one location, and a second connection device connected at one end to the other output terminal and the opposite one End may be connected to the other component at another location, wherein the first connection device having the one component at the opposite end of the first connection device to bring the one component with the other component in contact when the ers te connecting device a.n it is connected and die elektrische Stromversorgung in Betrieb ist und einen Wechselstrom durch die Komponenten -leitet, um die eine Komponente mit der anderen Komponente zu verschmelzen.and the electrical power supply is in operation and directs an alternating current through the components to fuse the one component to the other component. 22a Anlage nach Punkt 21, gekennzeichnet dadurch, daß das Halbwellensignal eine im Bereich von etwa 400 Hz bis etwa 35 MHz liegende Frequenz aufweist.22a system according to item 21, characterized in that the half-wave signal has a lying in the range of about 400 Hz to about 35 MHz frequency. 23· Anlage nach Punkt 21, gekennzeichnet dadurch, daß der Wechselstrom einen Höchstwert von etwa 3 A aufweist, und die ersteInstallation according to item 21, characterized in that the alternating current has a maximum value of about 3 A, and the first Verbindungsvorrichtung, die eine Komponente mit etwa OJ nan der anderen Komponente in Berührung bringt»Connecting device that brings one component into contact with about OJ nan of the other component » 24. Anlage nach Punkt 21, gekennzeichnet dadurch, daß die andere elektrisch leitende Komponente in fester Form vorliegt.24. Plant according to item 21, characterized in that the other electrically conductive component is in solid form. 25. Anlage nach Punkt 22, gekennzeichnet dadurch, daß die erste Verbindungsvorrichtung Möglichkeiten für das Drehen der ersten Komponente, wenn diese mit der anderen Komponente in Berührung steht, aufweist.25. An installation according to item 22, characterized in that the first connecting device has possibilities for rotating the first component when it is in contact with the other component. 26. Anlage nach Punkt 25, gekennzeichnet dadurch, daß die Drehvorrichtung so betätigt,werden kann, daß die erste Komponente mit einer im Bereich von etwa 5000 bis 10 000 U/min' liegenden Geschwindigkeit.gedreht werden kann.26. Appendix according to item 25, characterized in that the rotary device is actuated, it can be that the first component with a lying in the range of about 5000 to 10,000 rev / min 'lying speed. 27· Anlage nach Punkt 21, gekennzeichnet dadurch, daß die andere elektrisch leitende Komponente in flüssiger Form vorhanden ist.27 · Plant according to item 21, characterized in that the other electrically conductive component is present in liquid form. 28. Anlage nach Punkt 26, gekennzeichnet dadurch, daß die erste Verbindungsvorrichtung einen Behälter für die flüssige andere Komponente und Einrichtungen zur Regulierung des Fließens der flüssigen Komponente in Berührung mit der anderen Komponente aufweist.An installation according to item 26, characterized in that the first connection device comprises a container for the liquid other component and means for regulating the flow of the liquid component into contact with the other component. HierzulL-Seiien ZeichmingenHere are L-Seiien Zeichmingen
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