DD140942A1 - METHOD AND ARRANGEMENT FOR MICRO-JOINTING TECHNOLOGY BY MEANS OF LASER - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung für die Mikroverbindungen von Dünn- und Dickschichtschaltungen einschließlich Schichtkombinationen, integrierten Schaltkreisen, Mehrebenenmikroleiterplatten, funktioneller Mikroelektronik und anderen Mikrotechniken. Ziel der Erfindung ist, mittels Laser für beliebige Materialien und Materialkombinationen auf Trägern und Bauelementen ohne die Verwendung von Drähten eine einfache Handhabung, einen geringen Positionieraufwand, eine automatische Fertigung sowie eine gleichzeitige und/oder nacheinanderfolgende Herstellung zu ermöglichen. Das Wesen der Erfindung besteht darin, einen Laserstrahl durch das Trägermaterial hindurchwirken zu lassen und die Leiterbahn, die auf ihn aufgebracht ist, sowie die Kontaktbahn eines Halbleiterbauelements, das sich darunter befindet, so zu erwärmen, daß eine innige Verbindung entsteht, die einen multivalenten Einsatz möglich macht. Die Anwendung von Steuer- und Regelstrecken unter Einschluß von Mikroprozessoren stellt einen modernen Weg der Erhöhung der Güte der Verbindungsstellen dar. - Figur -The invention relates to a method and an arrangement for the Including microcompounds of thin and thick film circuits Layer combinations, integrated circuits, multilevel micro PCBs, functional microelectronics and other microtechniques. The aim of the invention is by means of laser for any Materials and material combinations on supports and Components without the use of wires easy handling, a low positioning effort, an automatic production as well a simultaneous and / or sequential production too enable. The essence of the invention is a laser beam permeate through the substrate and the trace, which is applied to him, as well as the contact path of a Semiconductor device located below so as to heat that an intimate connection arises, which is a multivalent use makes possible. The application of open and closed-loop control systems under Inclusion of microprocessors represents a modern way of Increase the quality of the joints dar. - Figure -
Description
Titel, der ErfindungTitle, the invention
Verfahren und Anordnung zur Mikroverbindungstechnik mittels LaserMethod and arrangement for micro connection technology by means of laser
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordrnung für MikroVerbindungen von Dünn- und Dickschichtschaltungen, einschließlich Schichtkombinationen, integrierten Schaltkreisen, Mehrebenenmikroleiterplatten, funktioneller Mikroelektronik und anderen Mikrotechniken»The invention relates to a method and an arrangement for microconnections of thin and thick film circuits, including layer combinations, integrated circuits, multilevel micro-circuit boards, functional microelectronics and other microtechnologies.
Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions
Es ist bekannt, daß ein von der aktiven Halbleiterzone (n- oder p-dotiert) ausgehender und zum Außenanschluß führender, sperrschichtfreier Kontakt mechanisch und thermisch (Biegen, Löten) stark beansprucht wird· Dabei ist der Kontakt niederohmig8 und der Kontaktwiderstand bleibt bei den Beanspruchungen konstant (Po Becker, rme Jahrgang 39 (1973) 1O9 S„ .444)It is known that one of the active semiconductor zone (n- or p-doped) outgoing and leading to the external connection, barrier-free contact is subjected to mechanical and thermal stress (bending, soldering) · The contact is low resistance 8 and the contact resistance remains at the Demands constant (Po Becker, Rme vol. 39 (1973) 1O 9 S ".444)
Die Zuverlässigkeit des Halbleiterbauelements wird wesentlich durch die Güte dieser Verbindungsstellen beeinflußteThe reliability of the semiconductor device is significantly affected by the quality of these joints
Bekannt ist weiterhin, daß eine Verbindung Kristall-Anschlußdraht über zwei Schweißstellen führt (D0 Baker, R0 Jones, Reliability 5 (1966) H. 5, S. 229)*It is also known that a compound leads crystal connection wire over two welds (D 0 Baker, R 0 Jones, Reliability 5 (1966) H. 5, p 229) *
Als kompakte und drahtförmige Verbindungsmaterialien werden Gold und Aluminium eingesetzt {Electronics, 46 (1973) Ή ι So 29; SST 18 (1975) 10, So 46$ IMD ENt EVIi 4/7?) ο ' ' "Gold and aluminum are used as compact and wire-shaped connecting materials {Electronics, 46 (1973) So So 29; SST 18 (1975) 10, So 46 $ IMD ENt EVIi 4/7?) Ο '' "
Dabei kommt das bekannte Thermokompressionsschweißen (thermocompression bonding, nailhe'ad bonding) zur Anwendung« Der ,Golddraht läuft durch eine Kapillare im Schweißkopfο Der Kristall wird vorgeheizt und das kugelförmige Golddrahtende aufgeschweißto Der Schweißkopf bewegt sich zum Pfosten und schweißt dort den Golddraht durch Druck an» Beim Abheben des Schweißkopfes wird der Golddraht mit einer Wasserstoff-Flamme abgeschnitten«,Here, the known thermo-compression welding occurs (thermal compression bonding, nailhe'ad bonding) to apply "The gold wire passes through a capillary in Schweißkopfο The crystal is preheated and the spherical gold wire end welded o The welding head moves to the post and welded thereto the gold wire by pressure to »When lifting the welding head, the gold wire is cut off with a hydrogen flame«,
Dagegen wird beim bekannten Ultraschallschweißen (Bild der Wissenschaft 8 (1975) S. 2) beispielsweise der Aluminiumdraht durch den Schweißkopf (Sonartrode) gequetschteIn contrast, in the known ultrasonic welding (Bild der Wissenschaft 8 (1975) p. 2), for example, the aluminum wire is squeezed by the welding head (sonar tube)
Die genannten Verfahren gewährleisten, die Bondungen zeitlich nacheinander zu realisieren© Produktiver ist die Folienbondtechnik, da sie gestattet, mehrere Bondungen gleichzeitig durchzuführen· Bei dieser Technik werden Zwischenträger aus isolierender flexibler Folie verwendet, die ein Metalleitbahnmuster enthält und ein simultanes Bonden der Innen- und Außenanschlüsse, vorzugsweise durch Löten oder TOB (SST 18 (1975) 10, S0 46, IMD Mt EVM 4/77)The above methods ensure that the bonds are realized one after the other. More productive is the foil bonding technique, as it permits multiple bonds to be performed simultaneously. This technique uses intermediate layers of insulating flexible foil containing a metal conductive pattern and simultaneous bonding of the inner and outer terminals , preferably by soldering or TOB (SST 18 (1975) 10, S 0 46, IMD Mt EVM 4/77)
JO gestattet*JO allows *
Die Bauelemente sind nach erfolgter Innenkontaktierung auch als gehäuselose Chips weiterverarbeitbar· .After the internal contacting, the components can also be processed as caseless chips.
Neben den genannten Bondtechniken wird die Lasertechnik zum Löten und Schweißen oder Trennen eingesetzt. Nachteilig hierbei ist die unzureichende Ausnutzung der verfügbaren Leistung (Bild der Wissenschaft 8 (1975) S, 2),In addition to the bonding techniques mentioned, the laser technology is used for soldering and welding or cutting. The disadvantage here is the insufficient utilization of the available power (Bild der Wissenschaft 8 (1975) S, 2),
Zum Weichlöten kleiner elektronischer Bauelemente genügen beispielsweise 5 W, während Dauerstricklaser von > 50 W eingesetzt werden· Vorteilhaft ist es, durchFor soldering small electronic components, for example, 5 W are sufficient, while continuous-wave lasers of> 50 W are used. It is advantageous to use
spezielle Hologramme auf mehrere Punkte zu konzentrieren« Dadurch läßt sich simultanes Löten bzw» Bonden ermöglichen und die Leistungsreserve wird besser aus- . * genutzte . ..·.'.to concentrate special holograms on several points "This enables simultaneous soldering or bonding and improves the performance reserve. * used. .. ·. '.
Desweiteren sollte versucht werden durch kontaktierte Medien, beispielsweise Glas, die Bondstellen zu schützen und durch Einsparung von Schritten die Bondkapazi-' tat zu erhöheno .Furthermore, it should be attempted to protect the bonding sites by contacted media, for example glass, and to increase the bond capacity by saving steps.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Anordnung zur Mikroverbindungstechnik mittels Laser für beliebige Materialien und Materialkombinationen auf Irägern und Bauelemente ohne die Verwendung von Drähten zu entwickeln»The aim of the present invention is to develop a method and an arrangement for micro-joining technology by means of laser for any materials and material combinations on irons and components without the use of wires »
Das Verfahren und die Anordnung soll einfach handhabbar, mit geringem Positionieraufwand, universell steuerbar und damit eine automatische Fertigung ermöglichen« Es soll erreicht werden, daß mehrere Verbindungen gleichzeitig und/oder nacheinander hergestellt werden· Damit wird eine sichere produktivere und ef-.The method and the arrangement should be easy to handle, with low positioning effort, universally controllable and thus enable automatic production. It is to be achieved that several compounds are produced simultaneously and / or in succession. This results in a more secure, productive and ef-.
fektivere Verbindungstechnik angestrebt. Darlegung des Wesens der Erfindungsought more effective connection technology. Explanation of the essence of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zur Mikroverbindungstechnik von be~ liebigen Materialien und Materialkombinationen auf Trägern und Bauelementen untereinander mittels Laser zu schäffenoThe invention is based on the object of making a method and an arrangement for micro-joining technology of any materials and combinations of materials on carriers and components with one another by means of a laser
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelösts daß ein Laserstrahl durch beispielsweise das Trägermaterial hindurchwirkt und die Leiterbahn, die auf ihn aufgebracht ist sowie die Kontaktbahn eines Halbleiterbauelements, das sich darunter befindet, so erwärmt, daß · eine innige Verbindung entsteht©According to the invention the object is achieved in s that a laser beam by, for example, the support material through acting and the conductor track which is applied to it as well as the contact path of a semiconductor device that is located below, heated so that · an intimate connection is created ©
Die bisher bekannten technischen Lösungen zeigen bereits die Möglichkeiten auf, die direkte Kontaktierung und die damit verbundenen Unreinheiten der Schweißung und Verbindung auf ein Minimum herabzusetzen*The hitherto known technical solutions already show the possibilities to reduce the direct contact and the associated impurities of the weld and connection to a minimum *
Ebenso kann der umgekehrte .Effekt auftreten, und der Laserstrahl wirkt durch das Bauelement hindurch·Likewise, the reverse effect can occur and the laser beam acts through the device.
Durch die Wahl der Wellenlänge des Lasers kann erreicht werden, daß die Träger oder Bauelemente nicht oder schwach absorbieren» Die innige Verbindung kann durch zusätzlichen Druck, Vorheizen und die Anwendung von ζ» Β« inerten Gasen unterstützt und verbessert werden. " Das Verbinden durch Laser mit anderen Verbindungstechniken macht einen multivalenten Einsatz möglich*By choosing the wavelength of the laser, it can be achieved that the carriers or components do not absorb or absorb weakly. The intimate connection can be assisted and improved by additional pressure, preheating and the use of inert gases. "Connecting by laser with other joining techniques makes multivalent use possible *
Ein ebenfalls günstiger Effekt kann dadurch erreicht werden, daß die Oberflächenbeschaffenheit der Leiterbahnen auf Trägern oder Bauelementen entsprechend auf— gerauht oder mit einer bestimmten Struktur 7/ersehen werden.A likewise favorable effect can be achieved by correspondingly roughening the surface condition of the conductor tracks on carriers or components or with a specific structure 7 /.
Ein moderner Weg der Erhöhung der Güte der Verbindungsstellen stellt die Anwendung von Steuer- und Regelstrecken unt-er Einschluß von Mikroprozessoren dar0 Dazu muß die Güte der Verbindung während oder nach der Verbindungsherstellung gemessen werden, oder es müssen entsprechende Modellfunktionen vorhanden sein· Dann kann der Mikroprozessor ständig ermitteln, welche Formt Intensitätsverteilung und Wellenlänge der Laserstrahl oder mehrere auf die zu verbindende Stelle gerichtete Laserstrahlen haben müssen, und welche Positionen Strahlen, Träger und Bauelemente einnehmen» Durch geeignete Stellglieder können dann die zu verbindenden Stellen aufgesuchts die gesamte Anordnung einjustiert und die Energiezufuhr durch den Laser und/oder die Hilfsenergien dosiert 'werden«,A modern way of increasing the quality of the joints, the use of control and controlled systems unt er-inclusion of microprocessors is 0 to this the quality of the connection during or after connecting must be measured, or there must be corresponding model functions be present · Then the Microprocessor constantly determine what form t intensity distribution and wavelength of the laser beam or more directed to the point to be connected laser beams must have, and which positions rays, beams and components occupy »By appropriate actuators can then visited the points to be connected s the entire assembly einjustiert and the energy supply is metered by the laser and / or the auxiliary energy,
Ebenso ist das Verfahren durch die dargelegte Form der automatischen Parametereinstellung und -optimierungj besonders dazu geeignet, viele Verbindungen, . wie sie beispielsweise in der Mikroelektronik für vielpolige Gehäuse erforderlich sind, nacheinander oder gleichzeitig herzustellenLikewise, the method is particularly suited by the form of automatic parameter adjustment and optimization shown, many connections,. as required, for example, in microelectronics for multi-pole housing, to produce successively or simultaneously
4"4 '
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung soll nachstehend an zwei Ausführungs~ beispielen erläutert werdenoThe invention will be explained below with two examples of execution
In Figur 1 trifft der Laserstrahl 1 senkrecht auf das nichtabsorbierende oder schwachabsorbierende Trägermaterial 2· Auf der unteren Seite des Trägermaterials sind mehrere Kontaktstellen 3 angebrachts die nacheinander über ein entsprechendes Programm vom Laserstrahl angefahren werden« Die Kontaktstellen 3 absorbierenIn Figure 1, the laser beam 1 impinges perpendicularly on the non-absorbing or schwachabsorbierende carrier material 2 · On the lower side of the substrate a plurality of contact points 3 are attached to the s to travel to successively on a corresponding program from the laser beam "absorb The contact points 3
einen Großteil der Laserenergie, erwärmen sich bis zum Schmelzpunkt und leiten die Wärme zu den Kontaktinseln 4-j die auf einem Halbleiter mit p-Gebiet 5 und n~Gebieten 6 eindiffundiert sindo Die gegenüberliegenden Kontaktstellen 5 und Kontaktinseln 4 schmelzen auf und ergeben nach Abschalten der Laserenergie eine innige Verbindung im Zeitablauf des nachfolgenden Abkühlungsprozesses. Um vor der Laserbestrahlung eine gute mechanische Verbindung zwischen den Kontaktstellen 3 und den Kontaktinseln 4 zu garantiere^ werden beide mittels einer Einspannvorrichtung ? verspannt« .a large part of the laser energy, heat up to the melting point and conduct the heat to the contact pads 4-j which are diffused on a semiconductor with p-region 5 and n ~ areas 6 The opposite contact pads 5 and contact pads 4 melt and give after switching off the Laser energy an intimate connection over the course of the subsequent cooling process. In order to guarantee a good mechanical connection between the contact points 3 and the contact islands 4 before the laser irradiation ^ both by means of a clamping device? strained «.
Bei geeigneter Auswahl eines Lasers in Abhängigkeit von den optischen und thermischen Eigenschaften des verwendeten Halbleitermaterials kann der Verbindungs- · prozeß auch nach Figo 2 erfolgen* Wird zwischen die Kontaktstellen eine Folie 8 eingelegt bzw0 auf eine der beiden gegenüberliegenden Kontakte Material als Lot aufgedampft, so kann die Kontaktverbindung haltbarer werdenoWith proper selection of a laser as a function of the optical and thermal properties of the semiconductor material used, the connection can · process even after Figo 2 effected * If a film 8 sandwiched between the contact points or 0 in one of the two opposed contacts material deposited as a solder, so the contact bond can become more durable
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0046914A2 (en) * | 1980-08-28 | 1982-03-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of forming alloyed metal contact layers on crystallographically oriented semiconductor surfaces using pulsed energy radiation |
DE3544377A1 (en) * | 1985-12-14 | 1987-06-19 | Bbc Brown Boveri & Cie | Process and appliance for bonding a semiconductor to connecting wires |
DE4312642A1 (en) * | 1992-04-23 | 1993-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Method and device for contacting |
DE19504967A1 (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Method for connecting a flexible substrate to a chip |
DE19751487A1 (en) * | 1997-11-20 | 1999-06-02 | Pac Tech Gmbh | Method and device for the thermal connection of pads of two substrates |
DE19850595A1 (en) * | 1998-11-03 | 2000-07-27 | Hahn Schickard Ges | Process for laser soldering and temperature monitoring of semiconductor chips as well as chip card manufactured according to this process |
DE102017201679A1 (en) | 2017-02-02 | 2018-08-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for joining components to a support structure using electromagnetic radiation |
-
1978
- 1978-12-20 DD DD20995378A patent/DD140942A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0046914A2 (en) * | 1980-08-28 | 1982-03-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of forming alloyed metal contact layers on crystallographically oriented semiconductor surfaces using pulsed energy radiation |
EP0046914B1 (en) * | 1980-08-28 | 1985-07-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of forming alloyed metal contact layers on crystallographically oriented semiconductor surfaces using pulsed energy radiation |
DE3544377A1 (en) * | 1985-12-14 | 1987-06-19 | Bbc Brown Boveri & Cie | Process and appliance for bonding a semiconductor to connecting wires |
DE4312642A1 (en) * | 1992-04-23 | 1993-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Method and device for contacting |
DE4312642B4 (en) * | 1992-04-23 | 2004-07-08 | Mitsubishi Denki K.K. | Method and device for contacting |
WO1996025263A3 (en) * | 1995-02-15 | 1996-09-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Process for bonding a flexible substrate to a chip |
WO1996025263A2 (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Process for bonding a flexible substrate to a chip |
DE19504967C2 (en) * | 1995-02-15 | 2002-01-24 | Fraunhofer Ges Forschung | Method for connecting a flexible substrate to a chip |
DE19504967A1 (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Method for connecting a flexible substrate to a chip |
DE19549635B4 (en) * | 1995-02-15 | 2004-12-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for connecting a flexible substrate to a chip |
DE19751487A1 (en) * | 1997-11-20 | 1999-06-02 | Pac Tech Gmbh | Method and device for the thermal connection of pads of two substrates |
DE19850595A1 (en) * | 1998-11-03 | 2000-07-27 | Hahn Schickard Ges | Process for laser soldering and temperature monitoring of semiconductor chips as well as chip card manufactured according to this process |
DE19850595C2 (en) * | 1998-11-03 | 2002-07-04 | Hahn Schickard Ges | Process for laser soldering semiconductor chips |
DE102017201679A1 (en) | 2017-02-02 | 2018-08-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for joining components to a support structure using electromagnetic radiation |
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