CZ338195A3 - Oxygen agent based on non-doped cuprates - Google Patents
Oxygen agent based on non-doped cuprates Download PDFInfo
- Publication number
- CZ338195A3 CZ338195A3 CZ953381A CZ338195A CZ338195A3 CZ 338195 A3 CZ338195 A3 CZ 338195A3 CZ 953381 A CZ953381 A CZ 953381A CZ 338195 A CZ338195 A CZ 338195A CZ 338195 A3 CZ338195 A3 CZ 338195A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- oxygen
- oxygen sensor
- type
- bridge
- sensing material
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/403—Cells and electrode assemblies
- G01N27/406—Cells and probes with solid electrolytes
- G01N27/407—Cells and probes with solid electrolytes for investigating or analysing gases
- G01N27/4073—Composition or fabrication of the solid electrolyte
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/20—Oxygen containing
- Y10T436/207497—Molecular oxygen
- Y10T436/208339—Fuel/air mixture or exhaust gas analysis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Measuring Oxygen Concentration In Cells (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
Description
Oblast techniky —
Vynález se týká kyslíkového čidla “na bá2i-komplexních oxidů kovu s obecným vzorcem Ln2CuO4+y kde T-n znamená la.nt.han nebo lanthanid s atomovým číslem 58 až 71, y představuje hodnotu od 0,001 do 0,1, zvláště kyslíkového čidla, které obsahuje polovodičové matef riály typu n a/nebo p, způsob výroby tohoto čidla a jeho použití.
Dosavadní stav techniky
Jsou známy detektory plynu, které obsahují snímací ma* teriály s obecným vzorcem $
^2_χΑ ^BO4_g (DE—23 34 044 C3). Používají se například ve formě komplexního oxidu La^ 4Sr0,gNiO4 nikoli k důkazu kyslíku, ale k důkazu oxidovatelných plynů. Kupráty spadající do výše uvedeného vzorce se ovšem v citovaném spisu používají pouze okrajově v nedotované formě, jejich schopnost důkazu oxidovatelných plynů není nijak vynikající.
Podstata vynálezu
Φ Bylo zjištěno, že kupráty vzácných zemin mají překvapi4 vě také v nedotované formě vynikající schopnost důkazu kyslíku, když se v materiálu ustaví stech.iometrická odchylka kyslíku na hodnotě 4 + y. V důsledku toho je úkolem tohoto vynálezu vytvořit nová kyslíková čidla na bázi komplexních oxidů- kóvu~s~o be cnýra-v-z ©řčě m—----------/.v
LnjCuO^y, která jsou vhodná zvláště pro použití v zařízeních pro odvod spalin, například u motorových vozidel.
Tento úkol je vyřešen kyslíkovým čidlem podle význakové části prvního nároku. Závislé nároky podávají výhodná provedení vynálezu.
Stechiometrická' odchylka y kyslíku je v rozmezí od
I
0,001 do 0,i, s výhodou od 0,01 do 0,02.
Kyslíková čidla podle vynálezu lze vyrobit následujícím způsobem:
Odpovídající oxidy kovu, uhličitany a/nebo oxykarbonáty ze skupiny vzácných zemin a médi se jemné.smísí ve stechiometrickém poměru, například rozemletím ve vhodném mlýnu, například s přidáváním organického rozpouštědla, jako je například cyklohexan, Melivo se pak nechá sedimentovat, rozpouštědlo se pak oddekantuje, a melivo se usuší. Prášek se následné kalcinuje, přičemž proces kalcinace může být pro lepší smísení proložen dalším mletím. Po kalcinaci se znovu rozemele, čímž se získá jemný prášek kuprátu.
Pro ustavení stechiometrické odchylky kyslíku u takto získaného prásku kuprátu se tento žíhá při vysokých teplotách, s výhodou 850°C až 1100°C v atmosféře obsahující kyslík, s výhodou v čistém kyslíku.
Takto získaný prášek se přidáváním pastového základu a/nebo rozpouštědel zpracuje na pastu, a tato pasta se nanese technologii nanášení silné, hutné vrstvy, například sítovým tiskem na nejlépe nevodivý substrát oxidu kovu, napři3 klad Al2O3. Takto vytvořená vrstva se suší a vypaluje, na— -příklad-sušením--přVteptotách~nad—tCK)-Q€-et-následně_s.e_xypa=__________ luje při stoupajících teplotách, popřípadě s teplotním profilem, ve kterém se střídá stoupání teploty a výdrž. Pro získáni stechiometrické odchylky kyslíku se vypalování provádí v atmosféře obsahující kyslík, s výhodou v čistém kyslíku. íep-LOty vypaxovám pri Lem moncu vyoLoupat uz na přibližně 1200°C.
Tímto způsobem se získá substrát oxidu kovu povlečeného snímacím materiálem, který po připojení obvyklých přívodů a odvodů může být použit přímo jako čidlo.
. Kyslíková čidla podle vynálezu ..se vyznačují nízkou te- .. .
plotní závislostí a .vysokou citlivostí na kyslík při tepló- / h.
tách nejlépe nad 500°C. Mají rychlou kinetiku nastavení. Méřičí účinek nespočívá ve změně mezního nebo povrchového odporu, ale ve změně objemového odporu. £
Oproti dotovaným kyslíkovým čidlům z přihlášky vynálezu .·<·.?)
P 42 02 146.4-52 mají nedotované kuprátové materiály následuj ící výhody:.
Materiál kyslíkového čidla může být získán také bez cí_________leněho._přimíchávání.._dc ta.čn ích_ko.vů.__________i______________________
Teplotní závislost je ještě menší než u dotovaných kuprátů. Získá se lineární závislost logaritmu odporu na logaritmu parciálního tlaku kyslíku. ·
Dále je výhodou, když je uspořádání v můstkovém zapojení opatřeno vždy jedním kyslíkovým čidlem se snímacím materiálem s vodivostí typu p a typu n, přičemž leží ve stejném vstupu pro vstupní napětí v různých větvích můstkového zapojení a měřicí napětí se odebírá v úhlopříčce můstku. Ostatní prvky zapojení můstku jsou ohmické odpory. Toto uspořádání
-je^zvTástě vKea'ň'é~pro~zapojení—-feakov-ých.--kyslikových±čidel-y---—=která mají rozdílnou teplotní citlivost snímacích materiálů s‘polovodivostí typu pan.
Další možnost spočívá v tom, že se v každé větvi můstku ...
nasadí dvě kyslíková čidla se snímacím materiálem s polovo- | divosti typu nap rak, že kyslíkové čidlo z materiálu typu n v jedné větvi můstku a kyslíkové čidlo z materiálu typu p v druhé větvi můstku, a naopak jsou uspořádány protilehle.'
Účelná provedení vynálezu jsou uvedena v ostatních závislých nárocích.
Přehled obrázků na výkresech
Příkladné provedení vynálezu je znázorněno na výkresech, kde na obr. 1 je vynesen odpor čidla kuprátu lanthanu v závislosti na parciálním tlaku kyslíku, na obr. 2 je první možné elektrické uspořádání kyslíkových čidel, a na obr., 2 je druhé možné uspořádání kyslíkových čidel vždy v můstkovém zapojeni. .
Příkladná provedeni vynálezu
Na obr. 2 je můstkové . zapojení 5 se vstupním proudovým zdrojem 6, který je přiložen na oba vstupy 7, 8 můstku.
V jedné větvi 9 můstků, která prochází mezi vstupy 7,8 můstkového zapojení 5, je uspořádáno sériové zapojení kyslíkového čidla ze snímacího materiálu . typu n s ohmickým .odpo- . jf , i rem o zadané hodnotě R2 a v druhé větvi můstků sériové zapojeni ohmického odporu s kyslíkovým qidlem ze snímacího materiálu typu p, a to tak, že -jednak jsou. od póry . R^ a R2 v obou větvích protilehlé, stejně jako kyslíková čidla s po-----------1 o vod ivým _sn í mac.í m__mater i álem-t ypu-p—a η.-V-—úhlopří čce~ll---můstku může být snímáno měřicí napětí Ug.
v alternativním provedení podle obr. 3 se v můstkovém zapojení 15 přiloží vstupní napětí 16 mezi vstupy 17 a 18 | můstkového zapojení 15. V každé z obou větví 19., 20 je uspořadano sériové zapojení dvou kysliKových čidel s polovodivým snímacím materiálem jednou typu n a jednou typu p, a to tak, že vzhledem ke každému kyslíkovému' čidlu z materiálu typu n v jedné větvi můstku je v druhé větvi protilehle uloženo kyslíkové čidlo z materiálu typu p, a naopak. Toto provedení
..... má při stejné.teplotní citlivosti snímacích materiálů typu n a p tu výhodu, že se získá maximální citlivost na kyslík při prakticky nulové teplotní závislosti.
Další,příklady jsou popsány níže.
Příklad 1
Výroba- kuprátového prášku se vzorcem La2CuO4+y Práškový La2O3 se čtyři hodiny žíhá při 830°C v kelímku z A12O3. 'Pak se teplota pece kontinuálně ochladí na asi 200°c. Dosud horký La2O3 se odebere z pece a jednu hodinu se _________________s .p.řidáyáním„„c.yklohexanu.....mísí.....v___mlecí — kádince.....s..CuO..ve------------ ..
stechiometričkém. poměru 1:0,24415. Po sedimentaci trvající 30 minut se slije rozpouštědlo. V sušicí peci se melivo suší při 60°C.
V dalším kroku se prášková směs 16 hodin kalcinuje při ří t 85Q°C na vzduchu. Kalcinovaný prášek se pomele na střední velikost zrn 5 um. Pro potvrzení jednofázové tvorby La2CuO4+y a velikosti zrn prášku se provedou rentgenová difraktometrická měření a měření velikostí částic prášku.
Příklad 2
-—-__;Výrbba_kuprátového-prášku-se—vzorcemLa2Cu04-+^—____
Práškový, jemné pomletý La2O2cc>3 (střední velikost zrna lpm) se jednu hodinu s přidáváním cyklohexanu misi v mlecí kádince s jemně pomletým CuO ve stechiometríckém poměru 1:0,2151 (střední velikost zrna 0,8 μη). Po sedimentaci trvající 30 minut se rozpouštědlo slije. V susici peci se melivo suší při 60°C.
'V dalším kroku se prášková směs 16 hodin kalcinuje při
I
850°C na vzduchu. Po mezioperačním mletí trvajícím 1 hodinu se prášek podruhé 16 hodin kalcinuje při teplotě 850°C. Dvakrát kalcinovaný prášek se pomele na střední velikost zrn
1,5 pm. Pro potvrzení jednofázové tvorby La2CuO4+y a velikosti zrn prášku se provedou rentgenová difraktometrická měření a měření velikosti částic prášku.
Přiklad 3
Ustavení stechiometrické odchylky kyslíku.
Prášky kuprátu lanthanu vyrobené podle předpisů 1) a 2) se žíhají v čistém kyslíku při teplotě 850 až 1100°C. Analýza obsahu kyslíku v keramice vyrobené podle těchto předpisů udává kladnou stechiometríckou odchylku kyslíku 0,5 %, to: znamená, že se jedná o sloučeninu La2CuO4,02. Přebytečný kyslík se při tonu nachází s výhodou v mezimřížkových polohách.
Měřením elektrického odporu jednoho z čidel na bázi kuprátu lanthanu vyrobených podle příkladů 1 až 3 se získá závislost parciálního tlaku kyslíku plynné atmosféry, jak je to znázorněno na obr. 1.
Claims (11)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Kyslíkové čidlo na bázi komplexních oxidů kovu s obecným vzorcemLn2CuO4+y j kde Ln znamená lanthan nebo lanthanid s atomovým číslem 58 5 37 71.y představuje stechiometrickou odchylku kyslíku v rozmezí od 0,001 do 0,1.I
- 2. Kyslíkové čidlo podle nároku 1, vyznačující se tím, že y leží v rozmezí od 0,01 do 0,02.
- 3. Kyslíkové čidlo podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že je vyrobeno nanesením snímacího materiálu na s výhodou nevodivý substrát oxidů kovu.*
- 4. Kyslíkové čidlo podle nároku 3, vyznačující se tím, že nanesení se provede sítovým tiskem na substrát oxidů kovu, například A12O3.
- 5. Kyslíkové čidlo podle nároku 1, vyznačující se tím, že v můstkovém zapojení je uspořádáno vždy jedno kyslíkové čidlo se snímacím materiálem s vodivostí typu p a jedno se snímacím materiálem s vodivostí typu n, přičemž leží ve stejném vstupu pro vstupní napětí v různých i větvích můstkového zapojeni.
- 6. Kyslíkové čidlo podle nároku 5, vyznačuj ící že-ťv-rnůstkovém__zap.o_jení_jje_.uspořádán©—vždy/-//. :...: jedno kyslíkové čidlo se snímacím materiálem s vodivostí typu p a jedno se snímacím materiálem s vodivostí typu n, přičemž je v jedné větvi můstku sériové zapojení dvou kyslíkových čidel se snímacím materiálem typu p a se snímacím mate- fA riálem typu n, a ve druhé vétvi můstku sériové zapojeni dvou kyslíkových čidel se snímacím materiálem typu n a se snímacím materiálem typu p uspořádáno tak, že vzhledem ke kysliI . J kovému čidlu se snímacím materiálem typu n v jedné vétvi můstku je protilehle uspořádáno kyslíkové čidlo se snímacím materiálem typu p v druhé vétvi můstku.
- 7. Použití snímacích materiálů podle nároku 1 až S pro stanovení kyslíku.
- 8. Použití podle nároku 7 v zařízeních pro odvod spalin, zvláště u motorových vozidel.
- 9. Způsob výroby kyslíkového čidla podle nároků 7 a 8, vyznačující se tím, že oxidy, uhličitany a/nebo oxykarbonáty kovů se jemné smísí ve stechiometrickém poměru, nechají se sedimentovat v organickém rozpouštědle, vysuší se a podrobí kalcinaci, a takto získaný kuprátový prášek se ve formě pasty technologií nanášení tlustých hut- í ných vrstev narfese na s výhodou nevodivý substrát oxidů kovu .1 a vypálí se, a stechiometrická odchylka kyslíku se ustaví * slinováním v atmosféře obsahující 02, s výhodou v čistém kyslíku.
- 10. Způsob podle nároku 9, vyznačující se -tí- m -,—že—kalcinace--se-prováčtí ve dvou kalcinačníchstá— diích při teplotách 800 až 1100°C s vloženým stádiem rozemílání .
- 11. Způsob podle nároku 9f vyznačující se ··, tím, že vypalováni ss provádí při stoupajících tepiocacn ddo asi 1200°C.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4325183A DE4325183C2 (de) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | Sauerstoffsensor auf der Basis undotierter Cuprate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ338195A3 true CZ338195A3 (en) | 1996-06-12 |
Family
ID=6493833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ953381A CZ338195A3 (en) | 1993-07-27 | 1994-07-04 | Oxygen agent based on non-doped cuprates |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5792666A (cs) |
EP (1) | EP0711411B1 (cs) |
JP (1) | JPH09500966A (cs) |
KR (1) | KR960702107A (cs) |
AT (1) | ATE160016T1 (cs) |
CZ (1) | CZ338195A3 (cs) |
DE (2) | DE4325183C2 (cs) |
ES (1) | ES2110254T3 (cs) |
WO (1) | WO1995004270A1 (cs) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19701418A1 (de) * | 1997-01-17 | 1998-07-23 | Univ Ilmenau | Sensitive Schicht für den Einsatz in Halbleiter-Gassensoren |
DE19744316C2 (de) * | 1997-10-08 | 2000-09-21 | Univ Karlsruhe | Sauerstoffsensitives Widerstandsmaterial |
DE19830709C2 (de) * | 1998-07-09 | 2002-10-31 | Daimler Chrysler Ag | Meßwandler zur Detektion von Kohlenwasserstoffen in Gasen |
DE19853595C1 (de) * | 1998-11-20 | 2000-08-24 | Dornier Gmbh | Verfahren und Meßwandler zur Detektion des Sauerstoffgehaltes in einem Gas |
EP1281069B1 (en) | 2000-04-13 | 2012-06-20 | Patrick T. Moseley | Sensors for oxidizing gases |
DE10114645C1 (de) * | 2001-03-24 | 2003-01-02 | Daimler Chrysler Ag | Resistiver Sauerstoffsensor |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5815731B2 (ja) * | 1974-07-29 | 1983-03-28 | 株式会社日立製作所 | ケムリ オヨビ ガスケンチソシ |
JPS5119592A (en) * | 1974-08-09 | 1976-02-16 | Nissan Motor | Gasunodo kenshutsuki |
US4314996A (en) * | 1979-04-04 | 1982-02-09 | Matsushita Electric Industrial Company, Limited | Oxygen sensor |
GB2143952B (en) * | 1983-02-02 | 1986-05-29 | Commw Scient Ind Res Org | Oxygen sensor electrodes |
JP2797306B2 (ja) * | 1987-03-13 | 1998-09-17 | 三菱自動車工業株式会社 | 酸素センサ及び該センサを適用した内燃エンジンの空燃比制御装置 |
US5071626A (en) * | 1989-03-03 | 1991-12-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Oxygen sensor |
DE4244723C2 (de) * | 1992-01-27 | 1995-09-07 | Roth Technik Gmbh | Sauerstoffsensor auf der Basis komplexer Metalloxide |
-
1993
- 1993-07-27 DE DE4325183A patent/DE4325183C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-04 CZ CZ953381A patent/CZ338195A3/cs unknown
- 1994-07-04 WO PCT/EP1994/002185 patent/WO1995004270A1/de not_active Application Discontinuation
- 1994-07-04 US US08/448,599 patent/US5792666A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-04 AT AT94924229T patent/ATE160016T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-07-04 DE DE59404546T patent/DE59404546D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-04 KR KR1019950704834A patent/KR960702107A/ko not_active Application Discontinuation
- 1994-07-04 JP JP7505515A patent/JPH09500966A/ja active Pending
- 1994-07-04 EP EP94924229A patent/EP0711411B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-04 ES ES94924229T patent/ES2110254T3/es not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09500966A (ja) | 1997-01-28 |
KR960702107A (ko) | 1996-03-28 |
DE4325183C2 (de) | 1995-11-23 |
ATE160016T1 (de) | 1997-11-15 |
US5792666A (en) | 1998-08-11 |
ES2110254T3 (es) | 1998-02-01 |
EP0711411B1 (de) | 1997-11-05 |
WO1995004270A1 (de) | 1995-02-09 |
DE59404546D1 (de) | 1997-12-11 |
EP0711411A1 (de) | 1996-05-15 |
DE4325183A1 (de) | 1995-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Izu et al. | Development of resistive oxygen sensors based on cerium oxide thick film | |
Menesklou et al. | High temperature oxygen sensors based on doped SrTiO3 | |
Morrison et al. | Charge compensation mechanisms in La-doped BaTiO3 | |
Fleischer et al. | Stability of semiconducting gallium oxide thin films | |
Moos et al. | Materials for temperature independent resistive oxygen sensors for combustion exhaust gas control | |
Litzelman et al. | The electrical properties and stability of SrTi0. 65Fe0. 35O3− δ thin films for automotive oxygen sensor applications | |
Bernik et al. | Characteristics of SnO2-doped ZnO-based varistor ceramics | |
US4891158A (en) | Oxide semiconductor for thermistor and manufacturing method thereof | |
CZ338195A3 (en) | Oxygen agent based on non-doped cuprates | |
US6319429B1 (en) | Oxygen sensitive resistance material | |
EP0330214B1 (en) | High-Tc oxide superconductor and method for producing the same | |
Pissas et al. | The optimum percentage of Pb and the appropriate thermal procedure for the preparation of the 110 K Bi2-xPbxSr2Ca2Cu3Oy superconductor | |
EP3696827B1 (en) | Thermistor sintered body and temperature sensor element | |
CA1123117A (en) | Rare earth or yttrium, transition metal oxide thermistors | |
EP0418810B1 (en) | Thermistor element and gas sensor using the same | |
Bheemineni et al. | Suppression of acceptor solubilities in BaTiO3 densified in highly reducing atmospheres | |
JP3331447B2 (ja) | サーミスタ用磁器組成物の製造方法 | |
Ohtaki et al. | Oxygen sensing properties of T&doped N&O | |
De la Rubia et al. | Improved non-linear behaviour of ZnO-based varistor thick films prepared by tape casting and screen printing | |
US5972296A (en) | Oxygen sensors made of alkaline-earth-doped lanthanum ferrites and method of use thereof | |
US5362651A (en) | Carbon monoxide selective sensor and method of its use | |
Ingo et al. | Thermal and surface characterizations of 25.5 (wt.%) CeO2–2.5 Y2O3–72 ZrO2 fine powder | |
US20210372860A1 (en) | Thermistor sintered body and temperature sensor element | |
EP3780022A1 (en) | Thermistor sintered body and temperature sensor element | |
JPH01291151A (ja) | 酸素センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic |