CS270293B1 - Light emitting diode with reduced side emission - Google Patents

Light emitting diode with reduced side emission Download PDF

Info

Publication number
CS270293B1
CS270293B1 CS876593A CS659387A CS270293B1 CS 270293 B1 CS270293 B1 CS 270293B1 CS 876593 A CS876593 A CS 876593A CS 659387 A CS659387 A CS 659387A CS 270293 B1 CS270293 B1 CS 270293B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
layers
heterostructure
light
emitting diode
light emitting
Prior art date
Application number
CS876593A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS659387A1 (en
Inventor
Jaromir Ing Synek
Antonin Ing Prochazka
Original Assignee
Jaromir Ing Synek
Antonin Ing Prochazka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jaromir Ing Synek, Antonin Ing Prochazka filed Critical Jaromir Ing Synek
Priority to CS876593A priority Critical patent/CS270293B1/en
Publication of CS659387A1 publication Critical patent/CS659387A1/en
Publication of CS270293B1 publication Critical patent/CS270293B1/en

Links

Landscapes

  • Led Devices (AREA)

Abstract

jedná sa o potlačeni nežádoucí emise z boků čipu světloemitujici diody na bázi dvojité heterostruktury GaAs/GaAlAs tim, že heterostruktura je narůstána na předem tvarovaný substrát tak, aby část aktivní vrstvy (4), ve které docházi ke generaci zářeni ležela mimo úroveň čelni plochy čipu o vzdálenost větši než je součet tlouštěk vrstev tvořicich světlovod (3,4,5). Tim dojde v miste zakřiveni vrstev heterostruktury k vyvedeni světla ze světlovodu tvořeného vrstvami (3,4,5) a Jeho absorbci vrstvami (1,2) nebo vrstvami (6,7,8), heterostruktury (10), které jsou pro dané vlnové délky zářeni neprůsvitné.This involves suppressing unwanted emission from the sides of the chip of a light-emitting diode based on a GaAs/GaAlAs double heterostructure by growing the heterostructure onto a pre-shaped substrate so that the part of the active layer (4) in which the radiation is generated lies outside the level of the front surface of the chip by a distance greater than the sum of the thicknesses of the layers forming the light guide (3,4,5). This results in the light being led out of the light guide formed by the layers (3,4,5) at the point of curvature of the heterostructure layers and its absorption by the layers (1,2) or layers (6,7,8) of the heterostructure (10), which are opaque for the given wavelengths of radiation.

Description

Vynález ae týká světloemitujici diody s potlačenou boční emisi na bázi GaAs/GaAlAs.The invention relates to light emitting diodes with suppressed lateral emission based on GaAs / GaAlAs.

Známá provedeni 3větloemitujicich diod tohoto druhu užívají k potlačeni výstupu nežádoucího záření pokryti čelní plochy čipu mimo oblast požadovaného výstipu zářeni tenkými vrstvami neprůsvitnými pro zářeni dané vlnové délky. Tyto diody jsou připravovány z takových materiálů, v nichž nedochází k rozváděni emitovaného světla do stran a jeho vyzařováni z boků čipů. Tímto způsobem není možno připravit obdobné čipy z dvojité heterostruktury GaAs/GaAlAs, protože tato struktura se vyznačuje značnou schopnosti rozvádět světlo do stran a vyzařovat je z boků čipu.Known embodiments of light-emitting diodes of this kind use, by suppressing the output of unwanted radiation, to cover the faces of the chip outside the area of the desired output with radiation by thin layers opaque to radiation of a given wavelength. These diodes are made of materials that do not distribute the emitted light to the sides and emit it from the sides of the chips. In this way, it is not possible to prepare similar chips from the double heterostructure of GaAs / GaAlAs, since this structure has a considerable ability to distribute light to the sides and radiate it from the sides of the chip.

Uvedené nevýhody odstraňuje světloemitujici dioda s potlačenou boční emisi podle vynálezu, Jehož podstata spočívá v tom, ža na substrát výškově tvarovaný technologii MESA alespoň do hloubky, rovnající se součtu tlouštěk vrstev tvořících světlovod heterostruktury, je celoplošně vytvořena heterostruktura světloemitujici diody, přičemž boční plochy výškově tvarované heterostruktury Jsou vůči čalni ploše skloněny o 12 až 90 stupňů.The above-mentioned disadvantages are eliminated by a light-emitting diode with suppressed lateral emission according to the invention, which consists in that the substrate of height-shaped MESA technology at least to a depth equal to the sum of the thicknesses heterostructures They are inclined by 12 to 90 degrees to the front surface.

Hlavni výhodou potlačeni nežádoucí emise světla z boků čipu podle tohoto vynálezu je v tom, že pro konstrukci čipů s potlačenou emisi zářeni mimo přesně vymezenou oblast mohou být použity struktury schopná rozvádět světlo do stran. Oále operace nutné pro potlačeni boční emise jsou prováděny při tvarováni substrátu. V případě neúspěchu těchto operaci je tedy zničen pouze substrát a nikoliv deska s narostlými spitaxnimi vrstvami .A major advantage of suppressing unwanted light emission from the sides of a chip according to the present invention is that structures capable of distributing light to the sides may be used to design the chips with suppressed radiation emission outside a well-defined area. The operations necessary to suppress lateral emission are carried out in shaping the substrate. Thus, if these operations fail, only the substrate is destroyed and not the plate with the grown spitaxial layers.

Na výkresu je znázorněný řez čipem pro snímač proužkového kódu s potlačenou boční emisi.The drawing shows a cross-sectional view of a chip for a striped side emission scanner.

Na předem vytvarovaný substrát 8 typu N je metodou epitaxe z kapalné fáze vytvořena heterostruktura 10, skládající se z vrstvy 7 GaAs Buffer typu N a závěrné vrstvy 6 GaAs typu P, dále vrstvy 5 GaAlAs prvního emitoru typu N, aktivní vrstvy 4 typu P, vrstvy GaAlAs druhého emitoru typu P a kontaktní vrstvy 2 GaAs typu P. Tato struktura je opatřena, prvni a druhou kovovou vrstvou JL a 9 pro přívod elektrického proudu na straně P a N. V prvni kovové vrstvě JL a v kontaktní vrstvě 2 Ja fotolitografii a selektivním leptáním vytvořeno okno pro výstup zářeni z požadované oblasti. Funkce světloemitujici diody je následující.A heterostructure 10 is formed on the preformed N-type substrate 8 by liquid phase epitaxy, consisting of a N-type GaAs Buffer 7 and a P-type 6 GaAs, a first-type N-type GaAlAs layer 5, a P-type active layer 4 GaAlAs of the second P-type emitter and P-type GaAs of contact layer 2. This structure is provided with first and second metal layers JL and 9 for supplying electrical current on the P and N sides. In the first metal layer JL and contact layer 2 are photolithography and selective. an etching window for emitting radiation from the desired region. The function of the light emitting diode is as follows.

Zářeni je generováno ve vyšrafováné části aktivní vrstvy v místě vymezeném částečným odstraněním závěrné vrstvy 6. Generované zářeni vychází z čipu oknem vytvořeným ve vrstvách JL a 2. část zářeni je rozváděna do stran světlovodem tvořeným vrstvami 3, 4,The radiation is generated in the shaded portion of the active layer at a location delimited by the partial removal of the barrier layer 6. The generated radiation emanates from the chip through a window formed in the layers JL and the second radiation is distributed to the sides by a light guide 3, 4,

J5, avšak v mlátě ohybu těchto vrstev 3, 4, Ei je ze světlovodů vyvedeno a pohltí se v materiálu vretev 1 a 2 , nebo vrstev 6, 7 a 8. Tyto vrstvy 2» 2, 6, 7, 8 jaou pro zářeni dané vlnové délky neprůavitné.However, in the bend grains of these layers 3, 4, Ei, it is discharged from the light guides and is absorbed in the material of the spindles 1 and 2, or layers 6, 7 and 8. These layers 2, 2, 6, 7, 8 are wavelengths not opaque.

Světloemitujici diodu s potlačenou boční emisi podle vynálezu je možno využit při výrobě světloemitujicich čipů pro optoelektroniku.The light emitting diode with suppressed side emission according to the invention can be used in the manufacture of light emitting chips for optoelectronics.

Claims (1)

Světloemitujici dioda s potlačenou boční emisi, vyznačující se tim, že na substrát (8), výškově tvarovaný technologii MESA alespoň do hloubky, rovnající sa součtu tlouštěk vrstev (3, 4, 5), tvořících světlovod heterostruktury (10), je celoplošně vytvořena heteroetruktura (10) světloemitujici diody, přičemž bočni plochy výškově tvarované heterostruktury (10) jsou vůči čelní ploše skloněny o 12 až 90 stupňů.A light emitting diode with suppressed lateral emission, characterized in that a hetero-structure is formed over the entire surface of the substrate (8), height-shaped MESA technology at least in depth equal to the sum of the thicknesses of the layers (3, 4, 5) forming the light guide of the heterostructure (10). (10) light emitting diodes, wherein the side faces of the height-shaped heterostructure (10) are inclined by 12 to 90 degrees relative to the face.
CS876593A 1987-09-11 1987-09-11 Light emitting diode with reduced side emission CS270293B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS876593A CS270293B1 (en) 1987-09-11 1987-09-11 Light emitting diode with reduced side emission

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS876593A CS270293B1 (en) 1987-09-11 1987-09-11 Light emitting diode with reduced side emission

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS659387A1 CS659387A1 (en) 1989-11-14
CS270293B1 true CS270293B1 (en) 1990-06-13

Family

ID=5413346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS876593A CS270293B1 (en) 1987-09-11 1987-09-11 Light emitting diode with reduced side emission

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS270293B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CS659387A1 (en) 1989-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3863569B2 (en) Method for manufacturing a semiconductor substrate having a row of MOVPE layers
US5153889A (en) Semiconductor light emitting device
US5414281A (en) Semiconductor light emitting element with reflecting layers
US5132751A (en) Light-emitting diode array with projections
US20040070004A1 (en) Led packages having improved light extraction
JP2003209283A (en) Semiconductor light emitting device and method of manufacturing the same
US5565694A (en) Light emitting diode with current blocking layer
JPH04343484A (en) Luminous diode array
JPH02224282A (en) Semiconductor light emitting device
US5404031A (en) Semiconductor light emitting device with current confining layer
US5545903A (en) Radiation-emitting semiconductor diode and method of manufacturing same
US4032944A (en) Semiconductor device for generating incoherent radiation and method of manufacturing same
JP2006066449A (en) Semiconductor light emitting device
US8115219B2 (en) LED semiconductor body and use of an LED semiconductor body
EP0486052A1 (en) Light-emitting diode for concurrently emitting lights having different wavelengths
US20050023543A1 (en) Semiconductor light emitting device
JPS6239839B2 (en)
CS270293B1 (en) Light emitting diode with reduced side emission
KR102763377B1 (en) Ⅲ-ⅴcompound based light emitting diode
US6384429B1 (en) Light-emitting semiconductor device with reduced obstructions to light emission
JPH08167738A (en) Semiconductor light emitting element
US6972437B2 (en) AlGaInN light emitting diode
US12191422B2 (en) Optoelectronic semiconductor component comprising connection regions, and method for producing the optoelectronic semiconductor component
JP2874948B2 (en) Method for manufacturing semiconductor light emitting device
US20040113168A1 (en) Light extraction efficiency of gan based leds