CS270018B1 - Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého - Google Patents

Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého Download PDF

Info

Publication number
CS270018B1
CS270018B1 CS88619A CS61988A CS270018B1 CS 270018 B1 CS270018 B1 CS 270018B1 CS 88619 A CS88619 A CS 88619A CS 61988 A CS61988 A CS 61988A CS 270018 B1 CS270018 B1 CS 270018B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
etching
minutes
gallium
isenide
preparation
Prior art date
Application number
CS88619A
Other languages
English (en)
Other versions
CS61988A1 (en
Inventor
Vaclav Ing Csc Svorcik
Vladimir Rndr Csc Rybka
Vladimir Doc Ing Csc Myslik
Original Assignee
Svorcik Vaclav
Vladimir Rndr Csc Rybka
Myslik Vladimir
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Svorcik Vaclav, Vladimir Rndr Csc Rybka, Myslik Vladimir filed Critical Svorcik Vaclav
Priority to CS88619A priority Critical patent/CS270018B1/cs
Publication of CS61988A1 publication Critical patent/CS61988A1/cs
Publication of CS270018B1 publication Critical patent/CS270018B1/cs

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Způsob leptáni povrchu součásti pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého za použiti laseru se provádí v prostřed! vodných roztoků sloučenin obecného vzorce XY,* kde X je sodik nebo draslík a Y Jsou fluoridy, bromidy, chloridy; uhličitany, alranyj dusičnany; hydroxidy. Vynález může být využíván v mikroelektronic

Description

Vynález ee týká způsobu leptáni povrchu eoučáeti pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických struktur n-areonidu galitáho za použití laseru.
Sednou z velmi perspektivních technologii; která umožňuje modifikaci povrchu polovodiče a elektronických struktur,4 je laserová technologie. Tento způsob opracováváni povrchu umožňuje přípravu mikroetruktur na polovodiči definovaných vlaetnosti. Kojvětěi přednosti aplikace laseru je možnost fokuzace jeho stopy až na eubmikronová rozměry. S tím souvisí vysoká hustota energie svitla ve evazku a krátká expoziční doby při opracováváni povrchu.
Základním předpokladem pro laeerom iniciovaná leptáni polovodičů je schopnost svitla aktivovat částice elektrolytu nebo povrchu polovodiče; která iniciuji nebo urychluji jeho leptáni. To znamená,* že při laserovém leptáni oxietujo významný rozdíl mezi rychlosti leptání osvětlené a neosvětlené částí povrchu. Pro aplikace je nutné zvolit taková elektrolyty, které v neosvětlené části povrch noleptají nebo leptají se zanedbatelnou rychlostí ve > srovnáni s rychlosti osvětlené čáeti povrchu.
Laserem iniciované leptáni polovodičů je v eoučaenooti etudováno v laboratorních pod- „ minkách. Sako leptající proetředi jsou používány jednak plyny, páry,' elektrolyty a jejich emisi. Expozice v proetředi plynů a par; např* chloridu uhličitého a vodíku,' bromovodiku, chloridu křemičitého; chloru atd.,’ je experimentálně poměrně náročná. Leptaci tys tány na bázi elektrolytů představuji v některých případech velmi agresivní prostředí, např. vroucí kyselina dusičná; nebo vyžaduji vysokou koncentraci leptadla;* popřípadě eais par a elektrolytu,’ např. bromu v bromidu nebo mothanolu. Z výěe uvedeného vyplývá opět značná experimentální náročnoet při experimentu. ,
Uvedené nevýhody odetraňuje způeob leptáni povrchu· eoučáetí pro přípravu oikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenldu galitáho za použití laaaru, podle vynálezu. Zlého podstata epočivé v tom; že ee leptáni provádí ve vodném prostředí roztoků vzorce XY, kde X je sodík nebo draelik a Y jsou fluoridy; bromidy, chloridy; uhličitany, sírany, dusičnany a hydroxidy nebo jejich eměsl.
Výhody vynálezu epočívají v tom,4 že při laeerem iniciovaném leptání n-areenidu galitého ve vodném proetředi roztoků sodných a draselných' soli- o koncentraci 0,01 až 1,0 mol.l“! jsou tvořeny otvory definovaného tvaru, hladkých stěn i dna o miniaálnía bočnín leptáním. Rychlost leptáni polovodiče v syetému podle vynálezu je přitom dcetačujici pro přípravu mikroetruktur na jeho povrchu. Ve erovnání ee doeavadniml způsoby je způeob podle vynálezu experimentálně nenáročný/ enadno doetupný; provádí se v prostředí nízkých koncentraci vodných roztoků a je zdravotně nezávadný.
Vynález je blíže objaaněn v dalěich příkladech konkrétního provedení.
Přiklad 1
Bylo provedeno leptáni n-arsenldu galitáho v proetředi vodného roztoku NaF o koncentraci 0,1 mol.l*^. Po 1 minutě leptání bylo zjlětěna hloubko vyleptané díry 0,3 ^um; po 2 minutách 0,45 ^um a po 3 minutách O,'65 /Um.
Přiklad 2
Bylo provedeno leptáni n-areenldu gelitého v prostředí vodného roztoku NaBr o koncentraci 1,0 mol.r*^. Po 1 minutě leptáni byla zjlětěna hloubka vyleptané diry C,35 ^ue; po 2 minutách 0,45 yum a po 3 minutách O,'6 ^um.
Příklad 3
Bylo provedeno leptání n-areonidu gelitého v prostředí vodného roztoku NaCl o koncentraci 1,0 ml.l1·. Po 1 minutě leptáni byla zjlětěna hloubka vyleptané díry 0,3 yun, po 2 ainutách 0/6 ^um a po 3 minutách 0,’8 /Um.
CS 270 018 Bl
Přiklad 4
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitáho v prostředí vodného roztoku NaOH o koncentraci 0,01 mol.l“\ Po jedné minutá leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 0.2 yum, po 2 minutách O,'4 yum,! po 3 minutách 0.'5 yum.
Přiklad 5
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku NaOH o koncentraci l;0 mol.l Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané diry 1.6 yum, po 2 minutách 2.0 yum a po 3 minutách 2,4 yum.
Přiklad 6
Bylo provedeno leptání n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku Na2C03 o koncentraci o/5 mol.l“^. Po 1 minutě leptání byla zjiětěna hloubka vyleptané díry 1,2 yum, po 2 minutách 1,‘9 yum a po 3 minutách 2;4 yum.
Přiklad 7
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku HaHO- o kon• ami ** centraci 0;l mol.l · Po 1 minutě leptání byla zjiětěna hloubka vyleptaná díry 0.2 yum, po 2 minutách 0;4 /um a po 3 minutách 0j6 yum.
' Příklad 8
Bylo provedeno leptání n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku Na2S04 o kon' centraci 0^5 mol.l“^. Po 1 minutě leptání byla zjiětěna hloubka vyleptané diry 0,3 yum, po 2 minutách leptání 0;45 ^urn a po 3 minutách leptání Ι,Ό yum.
Přiklad 9
Bylo provedeno leptání n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku KF o koncentraci 0,1 mol.l“^·. Po 1 minutě leptáni byla zjiětěna hloubka vyleptané diry Oj25 yum. po 2 minutách 0;35 yum a po 3 minutách 0,45 yum.
Přiklad 10
Bylo provedeno leptání n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku KBr o koncentraci l;0 mol.l“^. Po 1 minutě leptání byla zjištěna hloubka vyleptané diry 0,2 ^um, po 2 minutách 0;’3 a po 3 minutách O,'4 yum.
Příklad 11 '
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitáho v proetředi vodného roztoku KC1 o koncentraci 1,0 mol.l~^· Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 0,3 yum, po 2 minutách 0,4 yum a po 3 minutách 0,55 yum.
Přiklad 12
Bylo provedeno leptání n-arsenidu galitáho v proetředi vodného roztoku KOH o koncentraci 0,01 mol.l~l. Po 3 minutách leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané diry 0,2 ^um.
Příklad 13
Bylo provedeno leptáni n-arsenidu galitáho v proetředi vodného roztoku KOH o koncentraci l;0 mol.l“l. Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 1,0 yu·, po 2 minutách 1;3 ,um a po 3 minutách 1,5 /Um.
CS 270 018 Bl 3
Přiklad 14
Bylo provedeno leptání n-arsenldu galitého v prostředí vodného roztoku K2C03 o koncentraci 0,5 mol.l”^. Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 0,8 yua, po 3 minutách 1;6 /um·
Příklad 15
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitého v prostředí vodného roztoku KN03 o koncentraci 0,1 mol.l^. Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 0,2 ^um, po 2 minutách 0;35 /um a po 3 minutách O,*4 /U·.
Příklad 16
Bylo provedeno leptáni n-areenidu galitého v prostředí vodných roztoků NaOH e KOH, oba o koncentraci 0;l mol.l^, Po 1 minutě leptáni byla zjištěna hloubka vyleptané díry 0,8 /um, po 2 minutách 1J4 ^um a po 3 minutách 2,O /um.
Přiklad 17
Bylo provedeno leptáni n-areonidu galitého v prostředí vodných roztoků KOH a ka2CO3, oba o koncentraci OJI mol.l^· Po 1 minutě leptání byla zjištěna hloubka vyleptané díry O,'7 /Um,’ po 2 minutách 1;2 /um a po 3 minutách 1,‘6 yum*
Hodnoceni kvality vyleptaných ploch bylo prováděno podle fotografií při leOnésobném zvětšeni.

Claims (2)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    1. Způsob leptání povrchu eouěáetí pro připrevu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areonldu galitého za použití laseru; vyznačující se tím, že se leptáni provádí v proetředí vodných roztpků sloučenin vzorce XY, kde X je sodík nebo draslík a Y jsou fluoridy; bromidy;' chloridy; uhličitany; sírany, dusičnany, hydroxidy nebo jejich smšai.
  2. 2« Způsob podle bodu 1; vyznačujíc! se tím, že vodné roztoky sloučenin vzorce XY mají koncentraci 0;01 až l,*0 mol.l^. «
CS88619A 1988-02-01 1988-02-01 Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého CS270018B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS88619A CS270018B1 (cs) 1988-02-01 1988-02-01 Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS88619A CS270018B1 (cs) 1988-02-01 1988-02-01 Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS61988A1 CS61988A1 (en) 1989-10-13
CS270018B1 true CS270018B1 (cs) 1990-06-13

Family

ID=5338619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS88619A CS270018B1 (cs) 1988-02-01 1988-02-01 Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS270018B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS61988A1 (en) 1989-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Cho et al. Time-and space-resolved studies of the physics and chemistry of liquid water near a biologically relevant interface
Fitch et al. Particle formation in polymer colloids, III: Prediction of the number of particles by a homogeneous nucleation theory
Heβ et al. Scanning electrochemical microscopy: Study of silver deposition on non-conducting substrates
US5173393A (en) Etch-resistant deep ultraviolet resist process having an aromatic treating step after development
SE425372B (sv) Sett att heparinisera en elektriskt laddad yta pa en medecinsk artikel avsedd att komma i kontakt med blod och medel for utforande av settet
María‐Hormigos et al. Oscillatory Light‐Emitting Biopolymer Based Janus Microswimmers
CS270018B1 (cs) Způsob leptáni povrchu eoučáetl pro přípravu mikroelektronických a optoelektronických etruktur z n-areenidu galitého
Djenizian et al. Electrochemical fabrication of tin nanowires: a short review
Yasukawa et al. Site-selective metal patterning/metal-assisted chemical etching on GaAs substrate through colloidal crystal templating
Kendall Wet Chemical Etching of Silicon and SiO2, and Ten Challenges for
Lapczyna et al. Rapid prototype fabrication of smooth microreactor channel systems in PMMA by VUV laser ablation at 157 nm for applications in genome analysis and biotechnology
Kikuchi et al. Fabrication of micropores and grooves on aluminum by laser irradiation and electrochemical technique
Handel et al. Positronium formation in aqueous micellar solutions of sodium dodecylsulfate
Adhikari et al. Hydrated electrons in a quaternary microemulsion system: A pulse radiolysis study
Sonders et al. Wettability, a Function of the Polarizability of the Surface Ions
George et al. Liesegang patterns: Estimation of diffusion coefficient and a plausible justification for colloid explanation
Rodriguez et al. Measurement of convection velocities in mosaic patterns
KR930020593A (ko) 고체 표면 가공방법
JP4111638B2 (ja) 金コロイド粒子とその調製方法並びに金イオンの選択的捕捉方法
CN1274582C (zh) 硅表面复杂三维微结构的加工方法及其装置
US4378273A (en) Process for producing chemical pump absorbents for chemical lasers
CN110152580A (zh) 一种在离子液体中用激光控制液态金属运动的方法
Kurniawan et al. New Concept for the Study of the Fluid Dynamics of Lithium Extraction Using Calix [4] arene Derivatives in T-Type Microreactor Systems. Separations 2021, 8, 70
Li Bubble nucleation and dynamics: surface micro/nanobubbles and plasmonic microbubbles
Kaledin Laser-Induced Fluorescence in a Quest to Detect Quantum Size Flumps in Counterion-Mediated Long-Range Attraction of Colloids by Surfaces with Surface Potential Ψ0 Greater than 70 mV