CS261506B1 - ZarietíeJi.ie na sušeuie najraa tavných lepidiel na reproduktorových vložkách - Google Patents

Description

Riešenie spočívá v tom, že nad vytvrdzovacím tunelom je uložený sušiaci tunel. Medzi tunelmi sú vytvořené prepojovacie kanále. Na unášacorn rotore sú uchytené nosiče zasahujúce do sušiaceho tunela.

261506 201500

Vynález sa týká riešenia zariadenia na sušenie najma tavných lepidiel na reproduktorových vložkách.

Doteraz sa puzdro, magnet a nádstavec reproduktorových vložiek najprv zlepia reaktoplastom a vytvrdzujú sa pri zvýšenej teplote. Pre potřebu ďalšej montáže je potřebné naniesť tavné lepidlo na koš reproduktorovej vložky, ktoré sa musí následné po nanesení vysušit. Vysušenie tavného lepidla sa vykonává buď za zvýšenej teploty, čo je poměrně rýchle, ale nedostatkom je náročnost na tepelná energiu, alebo sa ponechává volné vyschnúť, čo· zasa představuje zvýšené nároky na priestor, pretože vysušenie tavného lepidla trvá podstatné dlhšie.

Vyššie uvedené nedostatky odstraňuje a technický problém sušenia rieši zariadenie na sušenie najma tavných lepidiel na reproduktorových vložkách podta vynálezu, ktorého podstatou je, že nad vytvrdzovacím tunelom je uložený sušiaci tunel. Medzi sušiacim tunelom a vytvrdzovacím tunelom sú vytvořené prepojovacie kanále. Na unášačom rotore sú pevne uchytené nosiče zasahujúce do sušiaceho tunela.

Zariadením na sušenie najmá tavných lepidiel na reproduktorových vložkách sa docieli odstránenie zdraviu škodlivého pracovného prostredia, úspora tepelnej energie a ušetria sa skladovacie priestory.

Na připojených výkresoch je nakreslené příkladné riešenie zariadenia na sušenie tavných lepidiel na reproduktorových vložkách, kde na obr. 1 je nakreslený nárys v řeze a na obr. 2 je nakreslený v zváčšenom měřítku vytvrdzovací a sušiaci tunel v řeze.

Zariadenie na sušenie tavných lopidiel po- zostáva z podstavca 1, na ktorom je otočné uložený unášací rotor 2. Po obvode unášacieho rotora 2 sú pevne uchytené držiaky 3. Držiaky 3 zasahují! do vytvrdzovacieho1 tunela 7, ktorý je v tvare medzikružia uložený na podstavci 1. Na konci držiaka 3 sú vytvořené ohrevné ložka 4 chráněné tepelnou izoláciou δ. V ohrevných ložkach 4 sú pevne uložené vytvrdzovacie trne 5, v ktorých sú uložené reproduktorové vložky 8 určené k vytvrdzovaniu reaktoplastu. Nad vytvrdzovacím tunelom 7 je uložený sušiaci tunel 10. Medzi vytvrdzovacím tunelom 7 a sušiacim tunelom 10 sú vytvořené prepojovacie kanále 12. Na unášačom rotore 2 sú pevne uchytené nosiče 11 zasahujúce do sušiaceho tunela 10. Na konci nosičcv 11 v sušiacom tuneli 10 sú vytvořené otvory 9, v ktorých sú uložené reproduktorové vložky 8 určené k sušeniu tavného lepidla. Zo sušiaceho tunela 10 vyúsťuje odsávacie potrubie 13.

Zmontované reproduktorové vložky 8 zlepené reaktoplastom sú zakladané do vytvrdzovacieho třňa 5 ohrevného ložka 4 a sú prostreunictvom unášacieho rotora 2 unášané cez vytvrdzovací tunel 7, kde sa reaktoplast vytvrdzuje. Po opuštění reproduktorové j vložky " vytvrdzovncieho tunela 7 sa reproduktorové vložky 8 predkladajú do otvorov 9 nosiča 11. V nosiči 11 sa na reproduktorová vložku nanesie tavné lepidlo, ktoré je potřebné pre vykonáme ďalšej operácie lepenia. Reproduktorová vložka 8 je prostredníctvom nosiča 11 unášaná cez sušiaci tunel 10, v ktorom je tavné lepidlo vysušené a po jej opuštění vysušcvacieho tunela je reproduktorová vložka 8 odobratá z otvoru 9 nosiča 11 pre vykonanie ďalšej technologickej operácie.

Claims (2)

1. PREDMET Zariadenie na sušenie najmá tavných lepidiel na reproduktorových vložkách pozostávajúce z unášacieho rotora, na ktorého obvode sú v držiakoch uložené reproduktorové vložky zasahujúce do vytvrdzovacieho tunela v tvare kruhu vyznačujúce sa tým, že nad vytvrdzovacím tunelom (7) je ulo- zený sušiaci tunel (10), pričom medzi sušiacim tunelom (10) a vytvrdzovacím tunelom (7) sú vytvořené prepojovacie kanále (12), zatli' čo na unášačom rotore (2) sú pevne uchytené nosiče (11) zasahujúce do sušiaceho! tunela (10).
2. 2 listy výkresov 261506

   Obh, Ί 261503

   Severogralla, η. p. závod 7, Mott Cen* 2,40 Κδ«