CS260113B1 - Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating - Google Patents
Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating Download PDFInfo
- Publication number
- CS260113B1 CS260113B1 CS864825A CS482586A CS260113B1 CS 260113 B1 CS260113 B1 CS 260113B1 CS 864825 A CS864825 A CS 864825A CS 482586 A CS482586 A CS 482586A CS 260113 B1 CS260113 B1 CS 260113B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- refining
- induction heating
- silicon ingots
- silicon
- vacuum
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 238000007670 refining Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 title claims abstract description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 claims 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 abstract description 4
- 238000003795 desorption Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical group Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Účelem řečeni je zpřesnění procesu rafinace křemíkových Ingotů při letmá zonální tavbě s indukčním ohřevem. Podstata spočívá v tom, že rafinace probíhá ve vakuu 5 . IO-* qž 5 · 10“! Pa, přičemž zbytková atmosféra Je tvořena proudem inertního plynu, jenž vytváří v okolí roztavené zóny prostředí, kterg se během rafinace nemění β které zabraňuje pronikání par oleje z difuzní vývěvy a molekul necietot netěsnosti aparatury q desorpcí ze stěn komory do roztavené zóny.The purpose is to refine the process refining silicon Ingots at flying zonal induction heating. Essence is that refining takes place in Vacuum 5. IO- * q 5 · 10 ”! Pa, with residual atmosphere It consists of an inert stream the gas that creates the molten surroundings zone environment during refining does not change β which prevents vapor from penetrating diffusion pump oils and molecules do not flow leakage of apparatus q by desorption from walls chamber into the molten zone.
Description
’ Vynález se týká způsobu rafinace křemíkových ingotů při letmé zonální tavbě s indukčním ohřevem.The invention relates to a process for the refining of silicon ingots in induction heating zonal melting.
Polykrystalický křemík, vyrobený rozkladem trichlorsilanu na žhavých křemíkových jádrech, určený k výrobě monokrystalů pro polovodiče, obsahuje vždy dvě elektricky aktivní příměsi v měřitelném množství: fosfor a bór. Z hlediska dalšího zpracování se obě uvedené příměsi zásadně liší tím, že z roztaveného křemíku dochází ve vakuu k účinnému odpařování fosforu, kdežto bóru nikoliv. Této vlastnosti fosforu rozpuštěného v křemíku se využívá při rafinaci křemíkových ingotů, kterou je třeba provádět jednak při výrobě velmi čistýoh, tzv. vysokoohmových monokrystalů křemíku, obsahujících fosfor v koncentraci podstatně nižšjj než je možné zajistit při výrobě polykrystalického křemíky a jednak při hodnocení kvality polykrystalického křemíku, kdy na základě elektrofyzikálních vlastností před a po rafinaci je stanovena koncentrace fosforu a bóru v křemíkovém ingotu.Polycrystalline silicon, produced by the decomposition of trichlorosilane on hot silicon cores, intended for the production of single crystals for semiconductors, always contains two electrically active impurities in measurable quantities: phosphorus and boron. In terms of further processing, the two additives are fundamentally different in that effective evaporation of the phosphorus from the molten silicon under vacuum, but not boron. This property of phosphorus dissolved in silicon is used in the refining of silicon ingots, which must be carried out in the production of very pure, so-called high-ohm single-silicon monocrystals containing phosphorus at a concentration substantially lower than that of polycrystalline silicon. , where the concentration of phosphorus and boron in the silicon ingot is determined on the basis of electrophysical properties before and after refining.
V současné době se pro rafinaci křemíkových ingotů používá zařízení pro letmou zonální tavbu s indukčním ohřevem ve vertikálním souosém uspořádání, jejichž pracovní komory jsou připojeny k vakuovému systému tvořenému rotační vývěvou a difúzní vývěvou, přičemž rotační vývěva nejprve předčerpává pracovní komoru a po předčerpání vytváří předvakuum difúzní vývěvy. Úroveň dosaženého vakua a stav zbytkové atmosféry jsou přitom dány dokonalostí provedení těsnění aparatury, výkonem rotační a difúzní vývěvy, vakuovým odporem použitých spojovacích dílů, kvalitou použi tého oleje v difúzní vývěvě, kvalitou vnitřního povrchu pracovní komory a způsobem, jakým je provedeno omezení pronikání olejových par z difúzní vývěvy do pracovní komory.Currently, a vertical coaxial zonal melting furnace with vertical coaxial arrangement is used for refining silicon ingots, the working chambers of which are connected to a vacuum system consisting of a rotary vacuum pump and a diffusion vacuum pump. vacuum pumps. The level of vacuum achieved and the state of the residual atmosphere are given by the perfection of the apparatus sealing, the rotary and diffusion pump performance, the vacuum resistance of the connectors used, the quality of the oil used in the diffusion pump, the internal surface quality of the working chamber and from the diffusion pump to the working chamber.
— 2 —- 2 -
Nevýhodou způsobu rafinace křemíkových ingotů v takto koncipovaném zařízení Je, že odpařování fosforu z roztavené zóny neprobíhá v reprodukovatelných podmínkách, zejména pokud jde o stav zbytkové atmosféry. Tato je totiž nekontrolovatelně ovlivňována pronikajícím vzduchem netěsnostmi aparatury, olejem z difúzní vývěvy a desorpcí nečistot ze stěn pracovní komory. Pro křemíkový ingot jsou tyto vlivy zdrojem nečistot, znemožňujícím reprodukovatelnou přípravu křemíkových ingotů pro vysokoohmové monokrystaly a zkreslujícím výsledky hodnocení kvality polykrystalického křemíku.A disadvantage of the method of refining silicon ingots in such a conceived apparatus is that the evaporation of phosphorus from the molten zone does not take place under reproducible conditions, especially with respect to the state of the residual atmosphere. This is uncontrollably influenced by leaking air through the apparatus leaks, oil from the diffusion pump and desorption of impurities from the walls of the working chamber. For the silicon ingot, these effects are a source of impurities, preventing the reproducible preparation of silicon ingots for high ohm single crystals and distorting the results of the quality evaluation of polycrystalline silicon.
Uvedené nedostatky odstraňuje způsob rafinace křemíkových ingotů metodou letmé zonální tavby s indukčním ohřevem ve vertikálním souosém uspořádání podle vynálezu, jehož podstata spočívá *•2 x v tom, že rafinace probíhá ve vakuu 5 . 10 až 5 . 10^ Pa, přičemž zbytková atmosféra je tvořena inertním plynem protékajícím průtočnou rychlostí 0,01 až 0,5 cm^/min kolem roztavené zóny.These drawbacks are overcome by the method of refining silicon ingots by the method of vertical zonal melting with induction heating in a vertical coaxial arrangement according to the invention, which is based on the fact that refining takes place under vacuum 5. 10 to 5. 10 bar, the residual atmosphere being an inert gas flowing at a flow rate of 0.01 to 0.5 cm @ 2 / min around the molten zone.
Výhoda navrženého způsobu spočívá v tom, že proud inertního plynu vytváří v okolí roztavené zóny prostředí, které se během procesu rafinace nemění a které lze reprodukovatelně připravit. Proud/ inertního plynu znemožňuje přístup olejových par z difúzní vývěvy k tavenině a současně strhává molekuly nečistot pronikajících k roztavené zóně netěsnostmi aparatury a desorpcí ze stěn pracovní komory.The advantage of the proposed method is that the inert gas stream creates an environment around the molten zone that does not change during the refining process and can be reproducibly prepared. The inert gas stream prevents the access of oil vapor from the diffusion pump to the melt while at the same time entraining the molecules of impurities penetrating the molten zone through apparatus leaks and desorption from the working chamber walls.
Při rafinaci křemíkových ingotů metodou letmé zonální tavby s indukčním ohřevem ve vertikálním souosém uspořádání v pracovní komoře, jejíž horní část je připojena k difúzní vývěvě s.čerpaoí rychlostí 1000 l/min, je do spodní části pracovní komory přiváděn proud argonu průtočnou rychlostí 0,1 cm?/min, jenž v okolí roztaO vené zóny vytváří vakuum 10 Pa, jehož zbytková atmosféra je průtočná a inertní.In the refining of silicon ingots with the induction heating method in vertical coaxial arrangement in a working chamber, the upper part of which is connected to a diffusion pump with a pump speed of 1000 l / min, an argon flow is fed to the lower part of the working chamber at a flow rate of 0.1 cm @ 2 / min, which produces a 10 Pa vacuum in the vicinity of the melted zone, the residual atmosphere of which is flow-through and inert.
Využití vynálezu umožní reprodukovatelně provádění rafinace křemíkových ingotů při výrobě vysokoohmových monokrystalů křemíku a při hodnocení kvality polykrystalického křemíku.The use of the invention will allow reproducibly performing refining of silicon ingots in the production of high ohmic single silicon crystals and in evaluating the quality of polycrystalline silicon.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS864825A CS260113B1 (en) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS864825A CS260113B1 (en) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS482586A1 CS482586A1 (en) | 1988-04-15 |
CS260113B1 true CS260113B1 (en) | 1988-12-15 |
Family
ID=5391863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS864825A CS260113B1 (en) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS260113B1 (en) |
-
1986
- 1986-06-27 CS CS864825A patent/CS260113B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS482586A1 (en) | 1988-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69932760T2 (en) | Method and apparatus for producing a silicon rod having a structure produced by directional solidification | |
EP4185742A1 (en) | Pvt-method and device for producing single crystals in a safe manner with regard to the process | |
CS260113B1 (en) | Method of silicon ingots refining by zonal heat method with induction heating | |
CN113846378A (en) | Method for producing nitrogen-doped single crystal silicon | |
JPS6090899A (en) | Manufacture of semiconductor single crystal | |
US4399116A (en) | Zone purification of silicon in a reactive plasma | |
JP3832536B2 (en) | Method for producing silicon single crystal and pulling machine | |
EP0625595A2 (en) | Control of oxygen concentration in single crystal pulled up from melt containing group-V element | |
FI4060097T3 (en) | Device and method of manufacturing a doped silicon monocrystalline rod | |
CN101748481B (en) | Method for purifying polycrystalline silicon material | |
CN109943889A (en) | Ultra-high purity germanium polycrystalline preparation method | |
CN111676512A (en) | Method for reducing oxygen content in crystal bar of upper-exhaust single crystal furnace | |
CN213977956U (en) | Quartz surface carbon fumigating device | |
CN109722548A (en) | A kind of molten germanium ingot qualification rate production new technique in raising area | |
TWI682077B (en) | Method for manufacturing silicon single crystal | |
NO159515B (en) | INJECTION SPORTS FOR CONTAINERS, SPECIAL INFUSION BAGS. | |
US4057395A (en) | Process for determining the donor content of polycrystalline silicon of high purity to be used in the semiconductor industries | |
JP3198897B2 (en) | Method for producing GaAs single crystal | |
CA2091857A1 (en) | Process and apparatus for manufacturing low-gas and pore-free aluminum casting alloys | |
CN104928761B (en) | A kind of preparation method of silicon chip foundry alloy | |
JPS61158890A (en) | crystal growth equipment | |
CN219064120U (en) | Smelting device for preparing phosphorus alloy | |
KR900003424A (en) | High dissociation pressure compound semiconductor single crystal growth method and device | |
JPH03103388A (en) | Doping device | |
CN119101990A (en) | Polycrystalline silicon ingot casting process |