CS254656B1 - Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate - Google Patents
Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate Download PDFInfo
- Publication number
- CS254656B1 CS254656B1 CS848178A CS817884A CS254656B1 CS 254656 B1 CS254656 B1 CS 254656B1 CS 848178 A CS848178 A CS 848178A CS 817884 A CS817884 A CS 817884A CS 254656 B1 CS254656 B1 CS 254656B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- titanium
- hydrocarbon
- range
- titanium carbide
- electrically conductive
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Vynález sa týká sposobu přípravy tvrdej oteruvzdornej tenkej vrstvy na báze karbidu titánu na pevnom elektricky vodivom substráte vo vákuu v plazme.
V súčasnom období existuje mimo klasických metod vytvárania tvrdých oteruvzdorných vrstiev, například metody galvanické, plazmové, žiarové striekanie a tak ďalej, aj celý rad modernějších metód a technologických postupov ako například metoda chemického povlakovania, magnetrónového rozprašovania a iónového plátovania. Velkou nevýhodou týchto metód je v niektorých prípadoch nižšia tvrdost připravovaných vrstiev, nedostačujúca přilnavost k povliekanému substrátu, zhoršenie kvality mikrogeometrie finálneho povrchu upravovaného substrátu, připadne nutnost ohriatia substrátu na teplotu 900 °C až 1100 °C, ďalej energetickou a materiálovou náročnosťou a v neposlednom radě aj nežiadúcim vplyvom na životné prostredie. Metodami reaktívného iónového plátovania a magnetrónového rozprašovania je možné v súčasnom období vytvárať vrstvy karbidu titánu na rychlořezné ocele, konstrukčně a nástrojové ocele, spekané karbidy, titánové a hliníkové zliatiny a podobné pri teplotách nad 300 ^C. Vzhladom na nehomogenity povrchových vlastností týchto substrátov sa v mnohých prípadoch vyskytuje nevyhovujúca přilnavost pripravovanej vrstvy k substrátu. Toto má za následok stratu, úžitkových vlastností pripravovanej vrstvy v procese jej použitia.
Vyššie uvedené nedostatky odstraňuje nový spósob přípravy vrstvy na báze karbidu titánu na pevnom elektricky vodivom substráte pódia vynálezu, ktorého podstatou je, že na pevný elektricky vodivý substrát ohriatý na teplotu vačšiu ako 300 °C sa posobí plazmou tvořenou parami titánu a inertného plynu, zvyčajne argonu, za zníženého tlaku z intervalu 10”4 Pa, za čím sa následné posobí za zníženého tlaku z intervalu IO-2 až 10 Pa plazmou tvořenou parami titánu a uhlovodíka, zvyčajne acetylénu, alebo parami titánu a zmesou uhlovodíka a inertného plynu, pričom sa koncentrácia uhlovodíka plynule zvyšuje v intervale pomerov k titánu od 0,2 do 0,7 a za tým v intervale od_0,7 do 1,0.
Dalej je podl’a vynálezu účelné, aby povrch pevného elektricky vodivého' substrátu bol bombardovaný iónmi inertného plynu, čo spósobuje odprašovanie adsorbovaných vrstiev z jeho povrchu a súčasne ohřev substrátu na požadovanú teplotu.
Vrstvy na báze karbidu titánu připravené pódia vynálezu sa vyznačujú požadovanou adhéziou k povliekanému substrátu, ktorá je daná podkladovou tenkou vrstvou titánu, ďalej vysokou tvrdosťou a oteruvzdornosfou. Na základe týchto vlastností vrstvy připravené podta vynálezu sú předurčené pre aplikácie najmá v strojárstve na režné a tvárniace nástroje, extrémně namáhané tríbologické uzly strojných zariadení a podobné. Příklady prevedenia
Příklad 1
Overovanie spósobu podlá vynálezu prebiehalo na podložke z rýchloreznej ocele ČSN 19 830, ktorá bola umiestnená ako katóda v zariadení na iónové plátovanie s odparovačom s elektronovým zdrojom. Podložky boli ohriaté na teplotu nad 400 °C, a to počas ich čistenia v tlejivom výboji argonu pri tlaku 5 Pa. Za tým nanášanie systému vrstiev podi'.a vynálezu prebiehalo následovně: do vákuovej komory bol napúštaný argon na tlak 2.101 Pa za súčasného odparovania titánu pomocou elektronového lúča pri jeho výkone 2,5 KW po dobu 2 minút. V ďalšom kroku bol přítok argonu postupné zastavovaný a následné plynule priptíšťaný acetylén, a to na tlak 7.10”2 Pa pri súčasnom znížení výkonu odparovacieho zdroja na 2,0 KW. Proces tvorby vrstvy TiCx pri týchto parametrocb trval ďalšie 3 minúty. Popísaným sposobom vznikla na podložke z rýchloreznej ocele vrstva TiC0,95 o hrúbke 3,0 jum, ktorá bola difúzne spojená so substrátom cez tenkú vrstvu titánu.
Příklad 2
V ďalšom případe bol spósob přípravy vrstvy TiC overený za inák rovnakých podmienok, ako v příklade 1, avšak s tým rozdielom, že do vákuovej komory v prvom kroku bol napúštaný argon na tlak 2.IQ”1 Pa a súčasne odpařovaný titán pri výkone elektronového' zdroja 2,5 KW po dobu 1 minúty, za čím bol tlak argonu upravený na hodnotu 5 . IO”2 Pa. Po dosiahnutí uvedeného tlaku bol plynule do komory napúštaný acetylén, a to až do tlaku 3.10_1 Pa za sňčasnébO' odparovania titánu při výkone elektrónového zdroja 2,0 KW po dobu 5 minút. Po skončení procesu celková hrúbka takto pripravenej vrstvy bola 4 ,«m.
Popísaným spósobom podlá vynálezu vznikol na podložke z rýchloreznej ocele systém vrstiev tvořený podkladovou vrstvou z titánu a vrstvy Tičx s plynulým híbkovým koncentračným profilom, kde x sa měnilo smerom od povrchu v intervale od 0,9 až do 0,2.
Claims (1)
- PREDMETSpósob přípravy oteruvzdornej tenkej vrstvy karbidu titánu na elektricky vodivom pevnom substráte, ktorý tvoří katódu v iónovo plátovacom systéme s odpařováním látky elektrónovo-lúčovým zdrojom, vyznačený tým, že na pevný elektricky vodivý substrát ohriatý na teplotu vačšiu ako 300 °C sa posobí plazmou tvořenou parami titánu a inertného plynu, zvyčajne argonu, za zníženéhoVYNÁLEZU tlaku z intervalu 104 až 10 Pa, za čím sa následné posobí za zníženého tlaku z intervalu 10'2 až 10 Pa plazmou tvořenou parami titánu a uhlovodíka, zvyčajne acetylénu, alebo parami titánu a zmesou uhlovodíka a inertného' plynu, pričom sa koncentrácia uhlovodíka plynule zvyšuje v intervale pomerov k titánu od 0,2 do 0,7 a za tým v intervale od 0,7 do 1,0.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS848178A CS254656B1 (en) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS848178A CS254656B1 (en) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS817884A1 CS817884A1 (en) | 1987-06-11 |
CS254656B1 true CS254656B1 (en) | 1988-01-15 |
Family
ID=5432000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS848178A CS254656B1 (en) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS254656B1 (cs) |
-
1984
- 1984-10-29 CS CS848178A patent/CS254656B1/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS817884A1 (en) | 1987-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Matthews | Titanium nitride PVD coating technology | |
Zhang et al. | TiN coating of tool steels: a review | |
Nakamura et al. | Applications of wear-resistant thick films formed by physical vapor deposition processes | |
US5366564A (en) | Hard wear-resistant film and method for production thereof | |
Sharipov et al. | Increasing the resistance of the cutting tool during heat treatment and coating | |
EP0474369A1 (en) | Diamond-like carbon coatings | |
CN212335269U (zh) | 一种沉积在立方氮化硼刀具表面的复合涂层及真空镀膜装置 | |
RU2409703C1 (ru) | Способ нанесения покрытий в вакууме на изделия из электропроводных материалов и диэлектриков | |
Spalvins | Survey of ion plating sources | |
US4820392A (en) | Method of increasing useful life of tool steel cutting tools | |
Singh et al. | An overview: Electron beam-physical vapor deposition technology-Present and future applications | |
CN1775997A (zh) | 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺 | |
CS254656B1 (en) | Method for production of an abrasion-proof thin layer made of titanium carbide on an electric conductive solid substrate | |
Stowell | Ion-plated titanium carbide coatings | |
JP7179291B2 (ja) | HiPIMSを用いて成長欠陥を低減させたTiCN | |
JPS6242995B2 (cs) | ||
WO2002070776A1 (en) | Deposition process | |
JPS61195971A (ja) | 耐摩耗性皮膜の形成方法 | |
Monaghan et al. | Ion-assisted CVD of graded diamond like carbon (DLC) based coatings | |
Zdanowski et al. | Modification of metal properties by ion plating of TiN | |
US3505094A (en) | Titanium-iron eutectic metalizing | |
CS252707B1 (en) | Method of titanium nitride's abrasion-proof layer formation on solid conductive substrate | |
Takahara et al. | Current and future PVD systems and coating technologies | |
Freller et al. | Low temperature vapour phase coating processes for wear resistant coatings on high duty tools | |
RU2114209C1 (ru) | Способ нанесения покрытий в вакууме |