CS248690B1 - Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM. - Google Patents

Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM. Download PDF

Info

Publication number
CS248690B1
CS248690B1 CS31385A CS31385A CS248690B1 CS 248690 B1 CS248690 B1 CS 248690B1 CS 31385 A CS31385 A CS 31385A CS 31385 A CS31385 A CS 31385A CS 248690 B1 CS248690 B1 CS 248690B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
bigte
sulfur
telluride
temperature
crystal
Prior art date
Application number
CS31385A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Jaromir Horak
Petr Lostak
Radomir Novotny
Ladislav Koudelka
Original Assignee
Jaromir Horak
Petr Lostak
Radomir Novotny
Ladislav Koudelka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jaromir Horak, Petr Lostak, Radomir Novotny, Ladislav Koudelka filed Critical Jaromir Horak
Priority to CS31385A priority Critical patent/CS248690B1/en
Publication of CS248690B1 publication Critical patent/CS248690B1/en

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Řešeni se týká nových monokrystalických struktur s P-N přechodem a proměnnou šířkou zakázaného pásu. Popisuje se způsob přípravy monokrystalických struktur o složení tellurid bismutitý -sulfid-tellurid bismitutý BigTe^ -BigTe^xS-g z krystalů p-typu BigTe^ čistého nebo dotovaného tak. že monokrystalické destičky s připozenymi štěpnými plochami (0001) jsou exponovány v parách siry, jejichž tenze je 0,030 kPa - 150 kEa, při teplotě 150 - 500 °C po dobu 10-400 hodin, nebo uvedeny do- kontaktu a kapalnou sirou při teplotě 120 - 400 °C po dobu 10 - 400 hodin. Rozštěpením vytemperovaných destiček podél plochy (0001) je získaná P -N struktura, která po opatření kontakty vykazuje výrazný usměrňovači efekt, charakterizujíoi krystalovou diodu a citlivost vůči IC zářeni.The solution concerns new single-crystal structures with a P-N junction and a variable band gap. A method of preparing single-crystal structures of the composition bismuth telluride - sulfide - bismuth telluride BigTe^ -BigTe^xS-g from p-type BigTe^ crystals, pure or doped, is described in such a way that single-crystal plates with adjacent cleavage planes (0001) are exposed to sulfur vapors, the tension of which is 0.030 kPa - 150 kEa, at a temperature of 150 - 500 °C for 10-400 hours, or brought into contact with liquid sulfur at a temperature of 120 - 400 °C for 10-400 hours. By splitting the tempered plates along the (0001) surface, a P-N structure is obtained, which after making contacts exhibits a significant rectifying effect, characterizing a crystal diode and sensitivity to IC radiation.

Description

Vynález se týká způsobu přípravy monokrystalických struktur o složení tellurid bismutitý - sulfid-tellurid bismutitý Bi2Ie3 “ Bi2Te3-x?x* kd® x s θ·001 <t^°>4, citlivých k záření v infračervené oblasti spektra·The invention relates to a method for preparing single-crystal structures, the composition of tellurium, bismuth - sulfide-telluride, bismuth Bi 2 Ie 3 "Bi 2 Te 3-x? X * kd ® XS θ · 001 <t ≤ °> 4 sensitive to radiation in the infrared ·

V současné době ae pro detektory ΐδ záření, které jsou založeny na bázi polovodičů, používá následujících materiálů: křemík, germanium, sloučeniny (zejména InSb), sloučeniny AIVgVI (P|jsj PbSe, PbTe) a nejvýznamnější se jeví směsné krystaly Cd^Jlgj^Te.Currently AE detectors ΐδ radiation which are based on semiconductors, using the following materials: silicon, germanium, compounds (especially InSb), compounds A IVgVI (P | js j PbSe, PbTe) and the most significant appears to be a mixed crystal of Cd ^ Jlgj ^ Te.

Doposud nebyl popsán způsob přípravy P-N přechodu na bázi směsných krystalů Bi2Te3e-xSx.So far, a process for preparing a PN 2 transition based on Bi 2 Te 3e-x S x has not been described.

Sloučenině Bi2Te^ dotované sírou, resp· systému BigTe^-BigS^i byla věnována pozornost v řadě prací, které se týkají fázového ai.gr,™ .y.«ra Bi2I.3-a2S3 /např. G.Gmmberg, fcWauaann,Sulfur-doped Bi 2 Te or BigTe-BigSi system has been addressed in a number of work relating to phase ai.gr, ™, and Bi 2 I. 3 -a 2 S 3 / e.g. . G.Gmmberg, fcWauaann,

Helv. Phys. Acta 36. 810 (1963)/, dále transportních vlastností sloučenin ^2Te3-xSx /L.A. Kutasov, L.N.Lukjanova, Piz. Tvěrd. těla 24, 402 (1982)/, nebo optických vlastností /P.Lošlák a kol. Phys. Stát. Sol. (a) 8£, K143 (1984)/. Krystaly Bi2Te3 nedotovaného i dotovaného byly předmětem studia od roku 1957, ale teprve objev způsobu potlačení koncentrace antistrukturních poruch polarizací vazeb v krystalech AgBj1 / J.Horák a kol·, Philos. Mag. B 50. 665 (1984)/umožail vytvořit strukturu s P-N přechodem. Na základě tohoto objevu je navržena metoda vedoucí k získání struktury na bázi sloučeniny Bi2Te3e^Sx vykazující proměnnou koncentraci síry na jednom krystalu a současně P-N přechod, jejíž příprava je předmětem tohoto vynálezu.Helv. Phys. Acta 36, 810 (1963)], and the transport properties of compounds 2 Te 3-x S x / LA Kutasov, LNLukjanova, Piz. Tvěrd. body 24, 402 (1982)], or optical properties (P. Lošlák et al. Phys. State. Sol. (a) 8, K143 (1984)]. Unsubsidized and doped Bi2Te3 crystals have been studied since 1957, but only the discovery of a method of suppressing the concentration of antistructural disorders by polarizing bonds in AgBj 1 crystals / J. Horák et al., Philos. Mag. B 50. 665 (1984)]. Based on this discovery, a method for obtaining a structure based on a compound Bi2Te 3e ^ S x having a variable sulfur concentration on a single crystal and at the same time a PN transition, the preparation of which is the object of the present invention, is proposed.

248 890248 890

-2.-2.

Předmět·® vynálezu je způsob přípravy monokryztalických struktur o složení tellurid bismutitý - sulfid-tellurid biarnutitý BigTekde x s Ο,ΟΟΚΟ,Αι a proměnnou Šířkou zakázaného pásu způsobenou gradientem koncentrace síry a současně s P-N přechodem, vyznačený tím, že monokrystaly p-typU BigT·^ čistého nebo dotovaného jsou exponovány v parách síry, jejichž tenze se pohybuje v rozmezí'0,030 kPaaí 150 kPa, při zThe object of the invention is a process for the preparation of monocrystalline structures of the composition bismuth telluride - bismuth sulfide-telluride BigTe where xs Ο, ΟΟΚΟ, Αι and a variable band gap width caused by a sulfur concentration gradient and a PN junction, characterized in that Pure or doped are exposed to sulfur vapors with a pressure of between 0.035 kPa and 150 kPa at

teplotě 150 <Ú5B0°C po dobu 10a£fó hodin, nebo uvedeny do kontaktu s kapalnou sírou při teplotě 120 po dobul0o<400 hodin·temperature 150 <5B0 ° C for 10aF foil hours, or contacted with liquid sulfur at 120 ° C for <400 hours ·

Po táto expozici jsou krystaly rozštěpeny podél plochy (0001), Čímž se získá struktura BigTe^-BígTe^jS*, která po opatření vhodnými kontakty může být použita ke- konstrukci krystalových diod.After this exposure, the crystals are cleaved along the area (0001) to give a BigTe-BigTe2S structure which, after suitable contacts can be used to construct crystal diodes.

Při tomto postupu se vychází z monokrystalu p-BigTe^ připraveného Bridgmanovou metodou, z něhož se připraví monokrystalická destičky neštípáním podle ploch (0001 )t vyznačujících ae dobrou ětěpitelností. Tytp krystaly se podrobí interakci se sírou za výěe uvedených podmínek. Na styku pevná a plynná, rsap. kapalná řáse dochází jednak k narůstání krystalu charakterizovanému reakcí mezi sorbovanými molekulami síry a antistruktumími poruchami a jednak k difúzi atomů síry do krystalu· Tato difúze je umožněna reakcíThe process starts from the single crystal p-BigTe® prepared by the Bridgman method from which monocrystalline plates are prepared by non-splitting according to areas (0001) t showing good cleavability. These crystals are interacted with sulfur under the above conditions. On contact solid and gaseous, rsap. liquid algae occurs both on the growth of the crystal characterized by the reaction between sorbed sulfur molecules and antistructural disorders and on the other side the diffusion of the sulfur atoms into the crystal

1/2 S2(g) + 2 Bije ♦ 2 h + 2 Ie2 ^==± S*0 + Bi2Te3, podle která se koncentrace antistrukturních poruch Bij0 během reakce s parami síry snižuje. V oblasti P-N přechodu dochásí k výraznému snížení koncentrace volných nositelů (děr), jak znact y/še uvedená rovnice, v povrchové oblasti pak vzniká slou-31/2 S 2 (g) + 2 Bij e ♦ 2 h + 2 Ie 2 ^ == ± S * 0 + Bi 2 Te 3 , according to which the concentration of antistructural disorders Bij 0 decreases during reaction with sulfur vapors. In the PN transition region there is a significant reduction in the concentration of free carriers (holes), as indicated by the above equation, in the surface area

248 690 čenina Bi2Te^-xSx s n-typem vodivosti. Oblast v blízkosti P-N přechodu má pravděpodobně povahu struktury s proměnnou šířkou zakázaného pásu·248 690 kennel Bi 2 Te ^ -x S x with n-type conductivity. The area near the PN junction is likely to be a variable width band structure ·

Zařízení pro přípravu struktury BigTeyBigTe^j^ difúzí plynné síry do p-typu Bi^Te^ je znázorněno na obr. 1. Zařízení sestává z křemenné ampule (1), v níž na grafitovém loži (2) je umístěn vzorek Bi2Te^ (3) a v druhé části ampule (1) síra (4)» přičemž teplota v peci je měřena termočlánky (5). Ampule (1) je umístěna v keramické peci (6), jejíž vinutí (7) se skládá ze dvou sekcí umožňujících nastavení požadovaného teplotního gradientu v peci. Kromě toho je do keramické pece (6) vsazena ocelová trubka (8)‘ eliminující lokální teplotní gradienty a zajištující homogenní rozložení teploty v obou částech pece· Aby byla eliminována možnost sublimace síry na vzorek Bi2Te^|je vždy teplota krystalu o něco vyšší než teplota kapalné síry. Zařízení znázorněné na obr. 1 tedy umožňuje provádět interakci krystalů BigTe-^ s parami síry, umožňuje nastavit teplotu Tp při které dochází k reakci krystalu s parami síry, teplotu roztavené síry T2 řídící tenzi par síry v ampuli a dobu potřebnou ke vzniku n-typu Bi2>xSx.An apparatus for preparing the BigTeyBigTe structure by diffusion of sulfur gas into the p-type Bi 2 Te 4 is shown in Figure 1. The apparatus consists of a quartz vial (1) in which a sample Bi 2 Te 4 is placed on a graphite bed (2). (3) and sulfur (4) in the second portion of the vial (1), wherein the temperature in the furnace is measured by thermocouples (5). The ampoule (1) is placed in a ceramic furnace (6), the winding (7) of which consists of two sections allowing adjustment of the desired temperature gradient in the furnace. Furthermore, in a ceramic furnace (6) inserted steel tube (8) 'eliminate local temperature gradients and providing a homogeneous temperature distribution in both parts of the furnace · To eliminate the possibility of sublimation of sulfur on a sample of Bi 2 Te ^ | is always melting the crystal slightly higher than the temperature of the liquid sulfur. Thus, the apparatus shown in Fig. 1 allows the interaction of BigTe-1 crystals with sulfur vapors, allows the temperature Tp at which the crystal reacts with the sulfur vapors, the temperature of the molten sulfur T 2 to control the vapor pressure of the vial in the vial and type Bi 2> x S x .

Příprava monokrystalické struktury o složení BigTe^-BigTe^^^ 8 P-N přechodem je demonstrována následujícími příklady:The preparation of a single crystal structure with the BigTe ^ -BigTe ^ 8 ^ 8-N composition is demonstrated by the following examples:

Příklad 1Example 1

Krystal p-BigTe^ ( koncentrace děr 2,4 x 1018 děr cm“3) formě moaokrystalické destičky rozměrů 60 x 10 x 4 mm se umístí v jedné části ampule znázorněné na obr· 1, do druhé části ampule se vloží síra o čistotě 5N. Ampule se evakuuje a zataví·The p-BigTe® crystal (concentration of holes 2.4 x 10 18 holes cm 3) in the form of a 60 x 10 x 4 mm moaocrystalline plate is placed in one part of the vial shown in Figure 1, and the other part of the vial is filled with sulfur 5N. The ampoule is evacuated and sealed ·

248 890248 890

Po umístění ampule v keramické peci se provádí temperování za následujících podmínek: teplota krystalu = 420°C, teplota kapalné síry T2 = 230°C, tanze par síry 800 Pa, doba temperování t « 48 hodin· Po expozici krystalu v parách siry za uvedených podmínek se provede relativné prudké ochlazení krystalu tím, že temperační ampule s krystalem se vyjme z pece a ponechá několik hodin při laboratorní teplotě· Získaný krystal se rozětíp ne uprostřed nejkratěí strany vzorku podél ploch (0001), čímž se získá jídvě monokrystalické destičky, které mají na jedné straně vrstvu p-BigTe^ a na druhé straně vrstvu n-Bi2Te^eXSx·After placing the vial in the ceramic furnace, tempering is performed under the following conditions: crystal temperature = 420 ° C, liquid sulfur temperature T 2 = 230 ° C, sulfur vapor tan 800 Pa, tempering time t «48 hours · After crystal exposure in sulfur vapors relative quench cooling of the crystal by removing the crystal tempering ampoule from the furnace and leaving it at room temperature for several hours. · The obtained crystal is split not in the middle of the shortest side of the sample along the surfaces (0001), have p-BigTe ^ on one side and n-Bi 2 Te ^ eX S x · on the other

Příklad 2Example 2

Stejné destičky monokrystalu p-Bi2Te- jako v příkladu 1 se vloží do křemenné ampule spolu s práškovou sírou, prostor ampule ee propláchne argonem, vyčerpá se vakuum 40 Pa a ampule se zataví· Pofcmw se ampule vloží do pece, v níž se síra za zvýšené teploty roztáv^ a provede se temperování monokrystálických destiček v kapalné síře při teplotě 25O°C po dobu 120 hodin· Po skončení temperování se ampule ochladí na vzduchu na pokojovou teplotu, plochy vzorku, které byly v kontaktu se sírou* se broušením a leštěním očistí od přebytečné síry a po rozštěpení podél plochy (0001) se získají monokrystálické struktury BigTe^-Bi2Te^_xSx·The same single crystal p-Bi 2 Te plates as in Example 1 are placed in a quartz ampoule with powdered sulfur, the ampoule space is purged with argon, the vacuum is depleted to 40 Pa and the ampoule is sealed · Pofcmw the ampoule is placed in a sulfur furnace melt at elevated temperature and temper single-crystal platelets in liquid sulfur at 25 ° C for 120 hours. After completion of annealing, the vial is cooled in air to room temperature, the sample areas that have been in contact with sulfur * with grinding and polishing. cleaned of excess sulfur and after splitting along the surface (0001) to obtain the single crystal structure BigTech-Bis-2 Te ^ _ x S x ·

Na obr· 2 je schematicky znázorněna krystalická dioda, zhotovená z monokrystalické destičky Bi2Te^-Bi2Te^vXSx· Strana o složení BigTe^ (9) je opatřena plošným zlatým kontaktem (10), vytvořeným buč pomocí zlaté pasty, nebo redukcí chloridu zlatitého· Na straně se složením j® n»nesena např· stříbr248 890 ná pasta ve formě kulovité kapičky (12) pokud možno malých rozměrů, která tvoří kontakt s přívodním stříbrným nebo zlatým vlasovým drátem (13)· Takto upravená struktura 8 P-N přechodem na bázi p-BigTe^ - n-BigTe^.^ je citlivé k infračervenému záření·Figure 2 schematically shows a crystalline diode made of a single crystal Bi 2 Te ^ -Bi 2 Te ^ vX S x · The BigTe ^ composition side (9) is provided with a gold contact surface (10) formed either by gold paste, or by reduction of gold chloride · On the composition J® n »no hay e.g. · stříbr248 890 to the trap in the form of spherical droplets (12) where possible, of small dimensions, which makes contact with the feed pile silver or gold wire (13) · the finished structure 8 PN junction based on p-BigTe ^ - n-BigTe ^. ^ Is sensitive to infrared radiation ·

Na obr. 3 je uvedena volt-ampérová charakteristika, tedy závislost procházejícího proudu na vloženém napětí, připravené krystalové diody·Fig. 3 shows the volt-ampere characteristic, ie the dependence of the passing current on the applied voltage, of the prepared crystal diode.

Na obr· 4 je uvedeno spektrální rozdělení napětí, vyvolaného interakcí IČ záření se vzorkem· Tato závislost napětí na vlnové délce dopadajícího záření byla měřena při teplotě místnosti následujícím způsobem: Ze zdroje záření, kterým byla Globarová lampa, byl vydělen pomocí monochromátoru Zeiss (s hranolem chloridu sodného) svazek paprsků o vlnových délkách 2-10^um; monochromatické světlo, přerušované frekvencí 6,17 Hz dopadalo na vzorek a vzniklý střídavý signál byl měřen za použití vhodné transformátorové vazby předzesilovače a zesilovače typu UNIPAN. Při měření byly kontakty na vzorku zastíněny, aby byly eliminovány kontaktní jevy· Měření bylo opakováno po jednom týdnu v rozmezí 3 měsíců a byla shledána dokonalá reprodukovatelnost a dobrá stabilita signálu·Fig. 4 shows the spectral distribution of the voltage caused by the interaction of IR radiation with the sample. This voltage dependence on the wavelength of incident radiation was measured at room temperature as follows: sodium chloride) a beam of wavelengths of 2-10 µm; monochromatic light, interrupted at 6.17 Hz, hit the sample and the resulting AC signal was measured using a suitable transformer coupling of a preamplifier and a UNIPAN-type amplifier. During the measurement, the contacts on the sample were shielded to eliminate the contact phenomena · The measurement was repeated after one week within 3 months and was found to be perfectly reproducible and good signal stability ·

Je třeba zdůraznit, že výše popsaný postup přípravy P-N přechodu na krystalech BigTe^ je původní, nebyl dosud v literatuře popsán a jeho bezesporým kladem je jednoduchost, dokonalá kontrola procesu a reprodukovatelnost připravených krystalů s P-N přechodem· Nastavením podmínek, tj« tlaku par síry, teploty a doby temperace krystalu lze připravit vzorky BÍ2Ie3-xSx 8 r^2*“It should be pointed out that the above procedure for preparing the PN transition on BigTe ^ crystals is original, has not been described in the literature yet, and undoubtedly is the simplicity, perfect process control and reproducibility of the prepared PN transition crystals. temperature and time of annealing of the crystal sample can be prepared Bi2 Ie 3 x 8 x S ^ 2 * R '

- G 248 890 ným obsahem siry v oblasti n-typu vodivosti a lze tak připravit krystaly citlivé vůči infračervenému záření v oblasti vlnových délek 2-8^um.G 248 890 with a sulfur content in the region of the n-type conductivity and thus it is possible to prepare infrared sensitive crystals in the wavelength range 2-8 µm.

Claims (3)

1* Způsob přípravy aonokrystalickýeh struktur tellurid bisnutitý - sulfid-tellurid bisnutitý BigTe^ - ®i>2T*3-xSx’ kde x « 0,001 - 0,4, s proměnnou šířkou zakázaného páau způsobenou gradientem koncentrace síry a současně s P-N přechodem, vyznačený tím, že monokrystaly p-typu BigTe^ čistého nebo dotovaného jsou temperovány v kontaktu se sírou při teplotě 120 - 500°C po dobu 10-400 hodin a po temperaci rozštěpeny podél plochy (0001)·1 * Method for the preparation of aonocrystalline structures of bisnitium telluride - bisulfite telluride BigTe ^ - ®i> 2 T * 3-x S x 'where x 0,00 0.001 - 0.4, with variable width of the banned steam caused by the sulfur concentration gradient and simultaneously with PN a transition, characterized in that the single crystals of the p-type BigTe ^ pure or doped are tempered in contact with sulfur at a temperature of 120-500 ° C for 10-400 hours and, after tempering, resolved along the surface (0001) · 2· Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, Se kontakt krystalů p-typu BigTe^ čistého nebo dotovaného se provádí v parách síry při teplotě 150 - 500°C, jejichž tenze je 0,0J0 kPa - 150 kPa, po dobu 10-400 hodin·2. The method according to claim 1, wherein the contact of the p-type BigTe2 crystals, pure or doped, is carried out in sulfur vapors at a temperature of 150-500 [deg.] C, the pressure of which is 0.080 to 150 kPa, for 10-400. hours · 3· Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že kontakt krystalů p-typu BigTe^ čistého nebo dotovaného ae provádí s kapalnou sírou při teplotě 12O-4OO°C po dobu 10-400 hodin·Process according to claim 1, characterized in that the contact of the β-type BigTe ^ crystals, pure or doped, is carried out with liquid sulfur at a temperature of 120-400 ° C for 10-400 hours.
CS31385A 1985-01-17 1985-01-17 Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM. CS248690B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS31385A CS248690B1 (en) 1985-01-17 1985-01-17 Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS31385A CS248690B1 (en) 1985-01-17 1985-01-17 Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS248690B1 true CS248690B1 (en) 1987-02-12

Family

ID=5335028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS31385A CS248690B1 (en) 1985-01-17 1985-01-17 Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM.

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS248690B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Schmit Growth, properties and applications of HgCdTe
JPS6021960B2 (en) Manufacturing method of Hg↓1-↓xCd↓xTe composition layer
Ryzhikov et al. Luminescence dynamics in ZnSeTe scintillators
KR20190096932A (en) Compound Semiconductor And Method Of Manufacturing The Same
Kamijoh et al. Single crystal growth of LiInS2
CS248690B1 (en) Bismuth telluride bismuth sulfide-telluride BigTe.RTM.
Su et al. Growth of ZnTe by physical vapor transport and traveling heater method
Chattopadhyay et al. Characterization of semi-insulating CdTe crystals grown by horizontal seeded physical vapor transport
Mullins et al. High temperature optical properties of cadmium telluride
Brice et al. Growth and characterisation of CdxHg1-xTe grown by LPE using a novel sliding boat
Bradford et al. PREPARATION OF VAPOR GROWN LEAD–TIN TELLURIDE FOR 8–14 MICROMETER PHOTODIODES
CS247467B1 (en) Process for preparing monocrystalline bismuth telluride structures - Bismuth Selenide Bi2Te3-Bi2Te3 &#34;Se&#34; with P-N transition
Scholl et al. Preparation and properties of ZnGeAs2
Dammak et al. Optical spectroscopy of titanium-doped CdZnTe
Stelzer et al. Mercury cadmium telluride as an infrared detector material
Gołacki et al. Vapour phase growth of large crystals of PbTe and Pb1− xSnxTe
Colombo et al. Growth of large diameter (Hg, Cd) Te crystals by incremental quenching
Shah et al. TlBr/sub x/I/sub 1-x/photodetectors for scintillation spectroscopy
Su Partial pressure of Cd in equilibrium with stochiometric melt and solid of (Cd0. 8Zn0. 2) Te between 300 C and 1250 C for melt growth
Steininger High pressure reflux technique for growth of Hg1-xCdxTe crystals
Chen et al. Calorimetric and Spectroscopic Characterization of Zone Refined and Regrown Lead Lodide
Selvaraj et al. Growth of phthalocyanine doped anthracene crystal using a three-zone furnace by vacuum sublimation method
Nowak et al. Heteroepitaxial homogeneous CdxHg1− xTe films
Chang et al. Growth and characterization of ZnSe single crystals by closed tube method
Nelson et al. Improvements to melt preparation in LPE growth of semiconductor heterostructures