CS247424B1 - Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem - Google Patents
Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem Download PDFInfo
- Publication number
- CS247424B1 CS247424B1 CS944684A CS944684A CS247424B1 CS 247424 B1 CS247424 B1 CS 247424B1 CS 944684 A CS944684 A CS 944684A CS 944684 A CS944684 A CS 944684A CS 247424 B1 CS247424 B1 CS 247424B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- copolymer
- solution
- methacrylic acid
- copolymerization
- resulting
- Prior art date
Links
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 6
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 title claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 title 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 13
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 abstract 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COC(=O)C(C)=C IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKHBEGZTQNOZLP-YDFGWWAZSA-N (3e,6e)-octa-1,3,6-triene Chemical compound C\C=C\C\C=C\C=C PKHBEGZTQNOZLP-YDFGWWAZSA-N 0.000 description 1
- HOCMRGMKKFPXRF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 HOCMRGMKKFPXRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVBSBXKBGMBTER-UHFFFAOYSA-N 1-(2-tert-butylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 BVBSBXKBGMBTER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- -1 printing durability Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Vynález se týká rozpouštědlové směsi pro
kopolymerizaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem
a využití výsledného kopolymeru
k přípravě světlocitlivého fotopolymerizovatelného
roztoku pro fotomechanickou reprodukci
zejména v polygrafickém a elektrotechnickém
průmyslu.
Směs je složena z 1 až 40 % hmot, cyklohexanonu,
1 až 10 % hmot. ethylacetátu a 50
až 99 % hmot. 2-propanolU, přičemž výsledný
kopolymer obsahuje MMA v množství 50 až 95 %
váh. a MAA v množství 5 až 50 % váh. a přičemž
výsledný fotopolymerizovatelný roztok obsahuje
20 až 30 % hmot. kopolymeru o střední
relativní mol. hmotnosti 10 000 až 25 000.
Description
Vynález se týká rozpouštědlové směsi pro kopolymerizaoi kyseliny me ..akrylové s methylmetakrylátem a využití výsledného kopolymeru k přípravě světlooitlivého fotopolymerizovatelného roztoku pro fotomechaniokou reprodukci zejména v polygrafickém a elektrotechnickém průmyslu.
Je známo, že podstatou světlooitlivého fotopolymerizovatelného roztoku jsou nosné polymerní sloučeniny typu kopolymeru MMA-MAA (methylmetakrylát-kyselina metakrylová) o relativně nízké molekulové hmotnosti, např. podle GB pat. č. 1 364 678, US pat. č, 3 474 719, US pat. č. 4 189 323, DOS č. 2 053 683, DOS č. 2 123 702 a dalších.
Kopolyméry MMA-MAA se připravují bud v rozpouštědlovém systému za použití regulátorů relativní molekulové hmotnosti (přenášečů řetězce) např. 1,3,6-oktatrienu - SSSR pat. č.
585 181, n-butyl merkaptanu - DOS č. 2 628 467, nebo ve vodných disperzích za pomoci emulgátorů např. typu C^^-C^g n-alkylsulfátu - US pat. č. 4 357 442, nebo způsobem blokové kopolymerizace bez použití rozpouštědel, kde je využito přenášečů řetězce např. n-dodecyl-merkapta nu - US pat. č. 3 829 531.
Získané kopolyméry jsou více či méně znečištěny bud přenášeči řetězce, nebo použitými emulgátory. V případě blokových kopolymeřů je nutno polymer dodatečně rozpouštět, aby se vytvořil lak.
Předmětem vynálezu je rozpouštědlové směs pro kopolymerizaci MMA-MAA tvořená 1 až 40 % hmot. cyklohexanónu, 1 až 10 % hmot. ethylacetátu a 50 až 99 % hmot. 2-propanolu. Kopolymer v této směsi připravený obsahuje MMA v množství 50 až 95 % hmot. a MAA v množství 5 až 50 i* hmot. a z něho připravený fotopolymerizovatelný roztok obsahuje 20 až 30 % hmot. kopolymeru o střední relativní mol. hmotnosti 10 000 až 25 000.
Rozpouštědlové směs působí jako regulátor relativní molekulové hmotnosti.
Výhodou rozpouštědlové směsi podle vynálezu, zejména pak výsledného kopolymeru je možnost jeho použití k přípravě fotopolymerizovatelného roztoku pro fotomechaniokou reprodukci.
Fotopolymerizovatelný roztok je tvořen 70 až 90 % hmot. směsného rozpouštědla ethylenglykolmonoethyléter i 2-propanol : cyklohexanon v objemovém poměru např. 15 : 4 : 1, dále 5 % až 20 % hmot. kopolymeru MMA-MAA o střední molekulové hmotnosti 10 000 až 25 000, který ve své molekule obsahuje 50 % až 95 i standardních jednotek vzorce:
CH,
- CH,-C2 I
COOCHj a 5 4 až 50 S strukturních jednotek vzorce:
CH,
-CH,
COOH
4 až 10 í hmot. výševroucího, alespoň trifunkčního esteru kyseliny akrylové nebo metakrylové, jako složky tvořící po osvětlení trojrozměrnou sít, 0,5 4 až 2 4 hmot. fotoiniciátoru, 0,05 4 až 1 4 hmot. inhibitoru termické polymerace, popřípadě až 0,5 % hmot. antioxidantu a 0,05 až 1 % hmot. organického barviva.
Světlocitlivý roztok lze použít zejména v polygrafickém průmyslu pro výrobu presenzibilovaných negativně pracujících ofsetových tiskových desek na hliníkových podložkách s mech(a“ nickou, chemickou i elektrochemickou úpravou nebo pro nanášení na Zn, Cu, Cr, Fe povrchy s aplikací např. pro plošné spoje v elektrotechnice. Mechanické, chemické a zejména tiskové vlastnosti světlocitlivé vrstvy, jako je adheze k podložce, výdržnost v tisku, schopnost přenášet tiskovou barvu apod. jsou závislé na kvalitě použitého nosného kopolymeru a monomeru vytvářejícího trojrozměrnou makromolekulám! sít.
Výhodou uvedeného světlocitlivého roztoku je, že po jeho nanesení, např. na tiskové desky, po jeho usušení a po následném převrstvení povlakem zabraňujícím kyslíkovou inhibici ho lze po provedeném osvitu UV zářením přes negativní fotografickou předlohu vyvolávat zředěnými roztoky alkálií, které jsou ekologicky nezávadné. Při vyvolávání dochází k minimálnímu zbobtbání světlem utvrzené vrstvy. Nános kopírovací vrstvy je v rozsahu 1-15 g/m , s výhodou 4-6 g/m^.
Hlavní součástí fotopolymerovatelného roztoku podle vynálezu je kopolymer MM-MAA, který se připraví roztokovou polymerací v rozp. směsi obsahující 2-propanol jako hlavní složku.
Jako sítující složka se přidává do kompozic monomerní ester obsahující 3 až 4 akrylátové skupiny skupiny např. pentaerithritolakrylát, pentaetithritoltetraakrylát a obdobné estery připravené z kyseliny metakrylové. Jako iniciátory fotopolymerací jsou vhodné benzoinové deriváty např. tercbutylbenzoin a benzildimetylketal.
Příklady přípravy kopolymeru MMA-MAA
Příklad 1
Do baňky se vloží 225 g 2-propanolu a 1 g azobisisobutyronitrilu (AIBN). Po 2 hodiny pod Ν^ atmosférou při 80 °C za stálého mícháni se přikapává směs 60 g MMA a 15 g MAA. V 30. a 90. minutě se přidá dalších 2x0,5 g AIBN. Získá se 25% roztok kopolymeru s číslem kyselosti 131 mg KOH/g a viskozitou 7,1 mPa.s, který lze rovnou použít pro přípravu světlocitlivého roztoku.
Příklad 2
Do baňky se vloží 225 g rozp. směsi 2-propanol : cyklohexanonem 4 : 1 hmot. a 1 g AIBN. Po 2 h se přikapává směs 63,75 g MMA a 11,25 g MAA. Během reakce se přidá 2x0,5 g AIBN, číslo kyselosti připraveného kopolymeru je 98 mg KOH/g, viskozita 25% roztoku je 6,51 mPa.s. Použije se.jako u příkladu 1.
Příklad 3
Do baňky se vloží 225 g 2-propanolu a 1 g AIBN. Po 2 h se přidává směs 52,5 g MMA a 22,5 g MAA. Během reakce za podmínek uvedených v příkladu 1 se přidá 2x0,5 g AIBN. Získá se 25% roztok kopolymeru s číslem kyselosti 193 mg KOH/g o viskozitě 8,24 mPa . s.
Příklad 4
Ve směsi 90 ml ethylcellosolve, 10 ml cyklohekanonu se rozpustí 40 g roztoku kopolymeru podle příkladu 1, 10 g pentaerithritoltriakrylátu, ‘,1 g fotoiniciátoru terč. butylbenzoinu,
0,05 g hydrochinonu, 0,5 g krystalové modři.
. Získaným roztokem se ovrství hliníková deska s elektrochemickou úpravou povrchu. Tisková <3§|Bka se dále převrství ochrannou vrstvou polyvinylacetátu. Po vysušení se exponuje zdrojem (Jy? záření přes negativní filmovou předlohu a vyvolá slabě alkalickým roztokem. Tisková forma £§4hydrofilizuje 1% H3PO4 · H.,0. Dosahovaná výška nákladů je 60 000 obratů.
Příklad 5
Ve směsi 90 ml ethylcellosolve se rozpustí 4 ml cyklohexanonu, 40 g roztoku kopolymeru podle příkladu 1, 10 g pentaerythritoltriakrylátu, 1 g fotoiniciátoru benzildimetylketalu, 0,05 g p-metoxifenolu, 0,05 g krystalové modři.
Směs se zpracuje jako v příkladu 4. Dosahovaná výška nákladů je 50 000 obratů.
Příklad 6
Ve směsi 90 ml ethylcellosolve, 10 ml cyklohexanonu se rozpustí 40 g kopolymeru podle příkladu 1, 10 g pentaerithritoltetraakrylátu, 1 g fotoiniciátoru benzildimetylketalu, 0,05 g hydrochinonu, 0,05 g krystalové modři.
Získaný roztok se zpracuje jako v příkladu 4. Dosahovaná výška nákladu je vyšší než 100 000 obratů.
Příklad 7
Světlocitlivý roztok připravený podle příkladu 6 se nanese na měděnou podložku (například kuprexid používaný pro plošné spoje) za pomoci rotační odstředivky při otáčkách 50 až 60 min-'1. Po vysušeni se povrch převrství ochrannou vrstvou proti kyslíkové inhibici a po usušení se exponuje zdrojem UV záření. Naexponovaná deska se vyvolává vodným roztokem alkálií. Po vyvolání lze místa nezakrytá vytvrzenou vrstvou leptat běžnými leptacími prostředky na mě3, například FeCl^.
Claims (2)
- Rozpouštědlová směs pro kopolymerizaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem vyznačená tím, že se skládá z 1 až 40 % hmot. cyklohexanonu, 1 až 10 % hmot. ethylacetátu a 50 až 99 % hmot.
- 2-propanolu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS944684A CS247424B1 (cs) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS944684A CS247424B1 (cs) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS247424B1 true CS247424B1 (cs) | 1986-12-18 |
Family
ID=5444713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS944684A CS247424B1 (cs) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS247424B1 (cs) |
-
1984
- 1984-12-06 CS CS944684A patent/CS247424B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0014012B1 (en) | Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer | |
| US4632897A (en) | Photopolymerizable recording material suitable for the production of photoresist layers | |
| CA2006073A1 (en) | Photopolymerizable compounds, photopolymerizable mixture containing same and photopolymerizable copying material produced therefrom | |
| GB2029423A (en) | Photo-polymerisable materials and recording method | |
| EP0081964B2 (en) | Photosensitive polymer composition | |
| US4960673A (en) | Photopolymerizable laminate suitable for producing printing plates | |
| JP5344034B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
| CA1329043C (en) | Photopolymerizable composition | |
| PL83391B1 (cs) | ||
| US5262278A (en) | Storage-stable solution of a carboxyl-containing copolymer and production of photosensitive coatings and offset printing plates | |
| GB1568104A (en) | Water-developable photopolymerizable compositions | |
| JPS62299840A (ja) | 感光記録要素 | |
| US4806449A (en) | Photosensitive photopolymerizable recording element containing a terpolymer binder | |
| US3985566A (en) | Photosensitive crosslinkable 1-carbonyloxy-1H-naphthalene-2-one polymers and process for their preparation | |
| US4229514A (en) | Photosensitive composition | |
| EP0295944A2 (en) | Photosensitive resin composition and printing plate prepared therefrom | |
| US4737445A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing said composition | |
| CS247424B1 (cs) | Rozpouštědlová směs pro kopolymeriiěaci kyseliny metakrylové s methylmetakrylátem | |
| CA2020662A1 (en) | Radiation-polymerizable mixture and recording material containing it | |
| EP0206030A2 (en) | Photocurable composition | |
| JP2003029399A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
| US5114831A (en) | Photopolymerizable laminating material | |
| JPS5810737A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| US3909269A (en) | Lithographic plate comprising a light-sensitive polymer | |
| JPS6249612B2 (cs) |