CS245637B1 - Zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým sítováním - Google Patents

Abstract

Řešení se týká zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým síťováním. Toto zařízení je tvořeno osvětlovacími jednotkami složenými z krytu, světelné výbojky a eliptické odrazové plochy. Jako zdroj záření se používají vysokotlaké nebo středotlaké rtuťové, halogenidové, xenonové nebo sodíkové výbojky. Výbojka je umístěna v jednom ohnisku odrazové eliptické plochy a exponovaný výrobek se pohybuje v druhém ohnisku této odrazové plochy, do do něhož je soustředěno světelné a tepelné záření světelné výbojky. Každá osvětlovací jednotka je posuvná po spojnici obou ohnisek eliptické odrazové plochy a dále výkyvná do stran, což umožňuje změnu polohy druhého ohniska a tím změnu Intenzity světelného a tepelného záření, které působí na síťovaný výrobek. Zařízení využívá a vhodně kombinuje světelný a tepelný účinek zdrojů ultrafialového záření při fotochemickém síťování polymerních materiálů zpracovávaných vytlačováním a válcováním.

Description

(54) Zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým sítováním

Řešení se týká zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým síťováním. Toto zařízení je tvořeno osvětlovacími jednotkami složenými z krytu, světelné výbojky a eliptické odrazové plochy. Jako zdroj záření se používají vysokotlaké nebo středotlaké rtuťové, halogenidové, xenonové nebo sodíkové výbojky. Výbojka je umístěna v jednom ohnisku odrazové eliptické plochy a exponovaný výrobek se pohybuje v druhém ohnisku této odrazové plochy, do do něhož je soustředěno světelné a tepelné záření světelné výbojky. Každá osvětlovací jednotka je posuvná po spojnici obou ohnisek eliptické odrazové plochy a dále výkyvná do stran, což umožňuje změnu polohy druhého ohniska a tím změnu Intenzity světelného a tepelného záření, které působí na síťovaný výrobek. Zařízení využívá a vhodně kombinuje světelný a tepelný účinek zdrojů ultrafialového záření při fotochemickém síťování polymerních materiálů zpracovávaných vytlačováním a válcováním.

Vynález se týká zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým sítováním.

Síťování polymerníoh materiálů patří mezi účinné a rozšířené modifikační procesy. Změna vlastností dosažená změnou struktury makromolekulárního řetězce umožňuje značně rozšířit aplikační možnosti základních polymerů.

Zařízení umožňující radiační zesíťování polymerníoh materiálů lze podle druhu emitovaného zářeni rozdělit do několika skupin. V praxi rozšířená druhy záření pro síťování polymerních materiálů jsou gama záření, urychlené elektrony a ultrafialové záření.

Gama záření je velmi účinné, jeho použití však přináší řadu nevýhod. K nim patří především vysoká cena provozního zařízení, nízká absorpce záření hmotou a z toho plynoucí obtížné stínění pracovního prostoru před škodlivým zářením. Při použití tohoto typu záření je třeba zajistit velmi dobrou ochranu pracovního prostředí.

Velmi rozšířeným typem záření při síťování polymerů jsou urychlené elektrony. Jejich výhodou je vysoká absorpce záření hmotou a tím malá energetická náročnost, nevýhodou poměrně vysoká cena průmyslového zařízení, obtížná fokusaoe záření a vznik Roentgenova záření, které má negativní dopad na pracovní prostředí.

Zařízení pro síťování polymerů ultrafialovým světlem je na rozdíl od předchozích jednoduché a lsvné. Například diskontinuální výroba máčeného zboží podle patentu USA 4 341 817 probíhá tak, že zdroj ultrafialového záření ve tvaru formy se na určitou dobu ponoří do kapalné, světlem síťovatelné směsi a po vynoření se vrstva směsi ulpělá na povrchu formy zářením zesíťuje. Toto zařízení je použitelné pouze pro tuto technologii a konkrétní tvar výrobku, který je dán tvarem použité formy.

Pro kontinuální síťování polymerníoh materiálů lze ultrafilové záření běžně používat pouze u surovin s vysokou rychlostí reakce - například u akrylátů a methakrylátů. U jiných polymerů, jako jsou např. polyvinylchlorid nebo polyolefiny, probíhá síťovací reakce pomaleji.

Tento nedostatek řeší zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým síťováním podle vynálezu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že toto zařízení je tvořeno osvětlovacími jednotkami složenými z krytu, světelné výbojky a eliptické odrazové plochy, přičemž každá výbojka je umístěna v jednom ohnisku odrazové eliptické plochy a exponovaný výrobek se pohybuje v druhém ohnisku této odrazové eliptické plochy, do něhož je soustředěno světelné a tepelné záření světelné výbojky.

Počet osvětlovacích těles je dán tvarem sítovaného výrobku - musí být zaručeno jeho rovnoměrné ozáření ultrafialovým světlem. Zdrojem záření jsou vysoce výkonné výbojky emitující záření vlnové délky, překrývající maximální absorpci světloeltlivé složky polymerní sířovatelné směsi.

Jedná se téměř výhradně o vysokotlaké nebo středotlaké rtuťové výbojky, které mohou mít i příměs halogenidů ve výbojové trubici, a xenonové nebo sodíkové výbojky.

Protože zařízení podle vynálezu lze použít pro různé profily vytlačovaných nebo válcovaných výrobků, je nutná regulace intenzity světelného i tepelného záření. Každá osvětlovací jednotka je posuvná ve směru spojnice obou ohnisek odrazové eliptické plochy a dále výkyvná do stran.

Změnou polohy osvětlovací jednotky se změní poloha druhého ohniska odrazové plochy a tím i intenzita záření dopadajícího na exponovaný výrobek. Teplotu prostoru, ve kterém probíhá síťování, lze regulovat například proudem vzduchu přiváděným do prostoru síťování ventilátorem.

Výhoda zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým síťováním podle vynálezu spočívá v tom, že toto zařízení využívá a vhodně komBinuje světelný a tepelný účinek zdrojů ultrafialového záření při fotochemickém síťování polymerníoh materiálů zpracovávaných vytlačováním a válcováním.

K bližšímu objasnění podstaty vynálezu slouží příklad konstrukčního uspořádání zařízení pro kontinuální fotochemické síťování vytlačovaného kruhového profilu z fotochemicky sítovatelné směsi na bázi polyvinylchloridu, znázorněný na přiloženém výkrese, kde obrázek představuje schematický řez zařízením.

Toto zařízení se skládá z rámu £ a tří osvětlovacích jednotek, z nichž každá je tvořena krytem £ osvětlovacího tělesa, odrazovou eliptickou plochou 2_ a středotlakou rtuťovou výbojkou _1 s příměsí InJ ve výbojové trubici a příkonem 2 kw.

Výbojka £ je umístěna v jednom ohnisku eliptické odrazové plochy £. Druhé ohnisko eliptické odrazové plochy 2 je v bodě 6_, kterým prochází ozařovaný výrobek po výstupu z hubice vytlačovacího stroje 5_.

Claims (4)

1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU

   1. Zařízení pro úpravu výrobků z polymerů kontinuálním fotochemickým síťováním, vyznačené tím, že je tvořeno osvětlovacími jednotkami složenými z krytu /3/, světelné výbojky /1/ a odrazové eliptické plochy /2/, přičemž každá výbojka /1/ je umístěna v jednom ohnisku odrazové eliptické plochy /2/, a exponovaný výrobek se pohybuje v druhém ohnisku /6/ odrazové eliptické plochy /2/, do něhož je soustředěno světelné a tepelné záření světelné výbojky /1/.
2. 2. Zařízení podle bodu 1 vyznačené tím, že každá osvětlovací jednotka je posuvná po přímce spojující obě ohniska /1/ a /6/ eliptické odrazové plochy /2/.
3. 3. Zařízení podle bodu 1 vyznačené tím, že každá osvětlovací jednotka je výkyvná do stran.
4. 4. Zařízení podle bodu 1 vyznačené tím, že jako zdroj záření obsahuje vysokotlaké nebo středotlaké rtuťové, halogenidové, xenonové nebo sodíkové výbojky.