CS241809B1 - Semiconductor element with decreased inlet induction - Google Patents

Semiconductor element with decreased inlet induction Download PDF

Info

Publication number
CS241809B1
CS241809B1 CS846108A CS610884A CS241809B1 CS 241809 B1 CS241809 B1 CS 241809B1 CS 846108 A CS846108 A CS 846108A CS 610884 A CS610884 A CS 610884A CS 241809 B1 CS241809 B1 CS 241809B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
chip
protrusion
contact area
base
housing
Prior art date
Application number
CS846108A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS610884A1 (en
Inventor
Zdenek Fibich
Original Assignee
Zdenek Fibich
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Fibich filed Critical Zdenek Fibich
Priority to CS846108A priority Critical patent/CS241809B1/en
Publication of CS610884A1 publication Critical patent/CS610884A1/en
Publication of CS241809B1 publication Critical patent/CS241809B1/en

Links

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

Podstata polovodičové součástky se sníženou indukčnoatí přívodu, sestávající z pařiče ipouizdna, čipu a přívodních eílektrod, kde čip je opatřen kontaktními ploškami a spodní stranou 'připevněn k patici poozidra a kontaktní plošky člípu jsou připojeny k přívodním. elektrodám pouzdra podíle vynálezu spcčřvá v tom, .že patice pouizdra j.e opatřena výstupkem .vedle čipiu a .stejné výšce jako čiip, zatímco čip je po celé déilce přilehlé k výstupku patice opatřen souvislou kontaktní oblastí, v případě obdélníkového iťvaru čipu po jeho delší straně, přičemž kontaktní oblast čipu je elektricky vodivě propojena, is výstupkem patice pouzdra elektricky vodivým tmelem 'v souvislé ploše. Polovodičová, součástka podle vynálezu má značně nižší induikčnost přívodu nebo vývodu elektrodyThe nature of the semiconductor component is reduced an induction conductor consisting of a steamer ipouizdna, chip, and infeed, wherein the chip is provided with contact pads and bottom side attached to the poozidra base and the contact pads of the tongue are connected to supply. electrodes of the housing of the invention that the base of the case is provided with a protrusion next to the chip and the same height as a chip while the chip is all over adjacent the protrusion of the socket provided with a continuous contact area, in the case of a rectangular one iťvaru chip on its longer side, taking the contact area of the chip is electrically conductive with the protrusion of the housing base electrically conductive sealant in a continuous surface. Semiconductor, component according to the invention has a significantly lower inductance of supply or electrode outlet

Description

Vynález se (týká (polovodičové součástky se sníženou indukčn-ostí (přívodu.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor device with reduced inductance.

Současné typy mikrovlnných polovodičových isoučásiteik jsou určeny ik činnosti v kmitočtových pásmech vyšších než 1 GHz. Jedním ze základních požadavků kladených na geometrické provedení hoirizontáltií struktury čifpů a na konstrukční provedení montáže čtóp-ipouzdro; těchto součástek je dosažení co nejnižší hodnoty indukčnoístl jejich přívodních elektrod.Current types of microwave semiconductor components are also designed for operation in frequency bands higher than 1 GHz. One of the basic requirements for the geometric design of the horizontal horizontal structure of the cifp structure and for the constructional design of the four-casing assembly; of these components is to achieve the lowest inductance value of their lead electrodes.

Vellmi významná a podstátná je tato problematika zejména u tranzistorů. Teoretické rozbory i praktické výsledky ukazují, že každá indulkčnoíst v emitoru Ls (mikrovlnných tranlzilstoirů má zásadní vliv na 'zesilovací schopnosti tranzistorů, zejména v kmitočtových pásmech vyšších než 3 GHz.This issue is very important and essential especially in transistors. Both theoretical analysis and practical results show that each inductance in the emitter L s (microwave transistors) has a major influence on the amplification capabilities of the transistors, especially in the frequency bands higher than 3 GHz.

Obecně se dá říci, že 'čím vyšší p-racovní kmitočet í tranzistoru, čím větší výkony tranzistor (zesiluje, čím větší je ‘výkonový (zilslk, tím memiší imusí být 'induikčnoSlt v emitoru tranzistoru, při zapojení se společným e miter em, 1 Ve značné části literatury je prp maximální dosažitelný výkonový zisk MAG uváděn teoretický vzorec ve tvaru:Generally speaking, that 'the higher the p-ORK rate as well as the transistor, the higher performance transistor (intensifies, the greater the' power (zilslk, the Memiş Imus be 'induikčnoSlt the emitter of the transistor in connection with common e miter em, 1 In much of the literature, the theoretical formula in the form of:

kde představuje:where it represents:

gDS vodivost kolektorug DS collector conductivity

Rg sériový odpor hradilaR g series resistance paid

Ri odpor ,kanálu .mieizi emitoreim a hradlemRi resistance, channel .mieizi emitoreim and gate

Rs sériový odpor emitoruR s series emitter resistance

CDG kapacitu kolektor—hradloC DG collector-gate capacity

Ls iinďukčnost emitorového přívodu.L s inductance of the emitter lead.

Z uvedeného vzorce jie zřeljimý významnýOf the above formula, it is particularly significant

Tabulka ITable I

Vzrůst índukčinosti eimiit. přívodu na hodnotu Ls (nH) ___1 d.__ f[Ls) 4π ÍtCog (2Rg -j- Rí Rs 4- 2π ÍtLs) vliv indukčnoístl emitorového přívodu Ls na velikost maximálního dosažitelného výkonového zisku MAG. Ze vzorce například vyplývá, že píro případ mikrovlnného výkonového tranzistoru MESFET s šířkou hradila 3 mm a délkou hiradla 1,5 μΐη, lze při indufcčmoisti emitorového přívodu Ls = OH dosáhnout ina kmitočtu f = 4 GHz hodnoty MAG = 16,3 dB. Vzrůistá-Hi nyní indukčnost emitorového přívodu, zmenšuje se původní výkonový zilslk MAG takto, podle tah. I.Increase in induction of eimiit. feed to the L (nH) .__ ___ 1 d f [Ls) 4π ÍtCog (2R g -J- Ri Rs 4- 2π ITLC) effect indukčnoístl emitter lead L with the size of the maximum available power gain MAG. For example, it follows from the formula that for a MESFET microwave power transistor with a gate width of 3 mm and a shaft length of 1.5 μΐη, at an inductance of the emitter lead L s = OH, at f = 4 GHz, MAG = 16.3 dB. Increasing-Hi now the inductance of the emitter lead decreases the original power zilslk MAG as follows, according to the thrust. AND.

(Pokles zisku o Gx (dB) iz původní hodinoty MAG “ 16,3 dB(Decrease of gain G x (dB) from the initial hodinoty MAG "16.3 db

0,016 10.016 1

0,036 20,036 2

0,063 30,063 3

0,096 40,096 4

0,137 60,137 6

0,443 90,443 9

Je zřejmé, že vzrůst indulkčnosti emitoru o 0,1 inH snižuje tady výkonový zilslk MAG přiblližně o· 4 dB. Tyto teoreticky odvozené závislosti jsou ve velmi dobrém souhlasu s experimentálně ověřenými výsledky.Obviously, an increase in emitter inductance of 0.1 inH decreases the power amplitude of the MAG by about 4 dB. These theoretically derived dependencies are in very good agreement with the experimentally verified results.

Monlťáž čipů tranzistorů MESFET se dneisInstallation of MESFET chips is now

Tabulka II provádí zpravidla zlatým drátkem nebo zlatým páskem. Použljie-li se ipro připojení emitoru tranzistoru drátku nebo pásku o rozměrech uvedených v následující tabulce II, pak Indukčnost emitorového přívodu Ls dosahuje hodnot:Table II is usually made with gold wire or gold band. If a wire or ribbon transistor emitter of the dimensions given in Table II is used, the inductance of the emitter lead L s is as follows:

PásekBelt

tloušťka (μηι) thickness (μηι) 5 5 šířka (,umj width (, umj 50 50 50 50 50 50 75 75 75 75 75 75 100 100 100 100 100 100 ALIGN! délka (mmj length (mmj 0,2 0,5 0,2 0,5 •1,0 • 1.0 0,2 0,5 0,2 0,5 1,0 1.0 0,2 0,5 0,2 0,5 1,0 1.0 indukčnolst Ls (nH)induction L s (nH) 0,1 0,34 0.1 0.34 0,82 0.82 0,09 0,31 0.09 0.31 0,75 0.75 0,08 0,28 0.08 0.28 0,,,69 0 ,,, 69 Drátek Drátek průměr (μΐιη] diameter (μΐιη) 20 20 May 30 30 délka (mim) length (mime) 0,2 0.2 0,5 0.5 (1,0 (1,0 0,2 0.2 0,5 0.5 1,0 1.0 indukčnost Ls (nH)inductance L s (nH) 0,15 0.15 0,318 0.318 0,85 0.85 0,12 0.12 0,43 0.43 0,77 0.77

Vllťv zipůlsobu .moinltáže čipu do pouzdra nebo obvodu je tedy 'značný. Výrobci špičkových typů tranzistorů MESFET řeší dnes tento iproblém třemi způsoby:Thus, in the zipper of the assembly of the chip into the housing or circuit, it is considerable. Today, manufacturers of high-end MESFETs solve this problem in three ways:

a) způsobem obrácené montáže, tzv. flipchip;(a) flip-flops;

íb) způsobem prokovaných děr v emiito.ru, tzv. 'váa-itránzistOT connectioos;(b) by way of the holes in emiito.ru, so-called 'vaa-itránzistOT connectioos;

c) způsobem mnohonásobného pospojování jednotlivých eimiltorwých proužků s paticí pouzdra zlatým drátakem, tzv. plated heat sinlk confilguratioh.c) by way of multiple bonding of the individual strips with the capsule base with gold wire, the so-called plated heat sinlk confilguratioh.

Všechny tyto způsoby jsou po technické stránce značným přínosem, jisou však poměrně velmi .slloížité, náročné na přesnost provedení, časově zdlouhavé a představují jisté riziko při zpracování čipů.All these methods are of great technical benefit, but they are quite complex, time-consuming and time-consuming and pose a certain risk in chip processing.

Aby se alespoň částečně vyloučil vliv montáže a podstatně snížily indukčnositi v eimiirtoiru tranzistoru a současně odstranily uvedené obtíže ostatních uvedenýah způsobů, bylo .navrženo a realizováno' takzvané bezimdukční provedení montáže čipů tranzistorů, které spočívá v úplném odstranění přívodních drátků nebo pásků v obvodu emitoiru, jako u polovodičové součástky se sníženou induikčhostí přívodu podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že patině pouzdra je opatřena výstupkem vedle čipu o stejné výšce jako čip, zatímco' čip je ipo celé délce přilehlé k výstupku paitice opatřeh souvislou Ikonlťaktní oblastí, v případě obdélníkového tvaru čipu po jeho delší straně, přičemž kontaktní oblast čipu je elektricky vodivě propojena s výstupkem patice pouzdra elektricky vodivým tmelem v souvislé ploše.In order to at least partially eliminate the effect of assembly and to substantially reduce the inductance in the transistor eimiirtoir, while at the same time eliminating the aforementioned difficulties in other methods, a so-called no-noise transducer assembly has been designed and implemented. in a semiconductor device with reduced inductance of the lead according to the invention, characterized in that the patina of the housing is provided with a protrusion next to a chip of the same height as the chip, while the chip is provided with a continuous The contact area of the chip is electrically conductively connected to the protrusion of the housing base by an electrically conductive sealant in a continuous surface.

Vyšší účinek polovodičové součástky podle vynálezu spočívá v podstatném snížení indukčnošti přívodu nebo vývodu elektrody provedené tímto způsobem.The higher effect of the semiconductor component according to the invention is to substantially reduce the inductance of the electrode lead or lead provided in this way.

V dalším textu je blíže vysvětlena podstata vynálezu s odkazem na připojený výkres.The subject matter of the invention is explained in more detail below with reference to the accompanying drawing.

Polovodičová součástka Se sníženou iindulkčností přívodu sestává z patice 1 pouzdra, která je opatřena výstupkem 1.1 vedle čipu 2 o sitejné výšce jako čip 2, zatím co čip 2 je po celé délce přilehlé ik výstupu 1.1 patice 1 opatřen souvislou kontaktní oblastí ‘6, v případě obdélníkového tvaru čipu po jeho delší straně, přičemž kontaktní oblast 6 čilpu 2 je elektricky vodivě 'propojena ,s výstupkem 1.1 patice 1 pouzdra eleiktricky vodivým tmelem 5 v souvislé ploše. _A semiconductor component with reduced inductance of the supply consists of a socket base 1 which is provided with a protrusion 1.1 next to a chip 2 having a sieve height as chip 2, while the chip 2 has a continuous contact area 6 along its entire length. the rectangular shape of the chip along its longer side, the contact area 6 of the cap 2 being electrically conductively connected to the projection 1.1 of the housing base 1 by an electrically conductive sealant 5 in a continuous surface. _

Cíp 2 polovodičové součástky se připevní na partie! ,1 pouzdra svou kontaktní oblastí 6 těsně na doraz k výstupku 1.1 pouzdra. Elektricky vodivým tmelem 5 se piroVede propojení kontaktní oblasti S čipu 2 s výstupkem 1.1 pouzdra po celé délce čipu. Propojení kohitaktaních iplošelk zbývajících elektrod 7 a 8 polovodičového čipu se provede 'klasickým termokompreismím nebo ultrazvukovým postupem vhodným drátkem nebo páskem.The pin 2 of the semiconductor device is attached to the lots! 1 of the sleeve with its contact area 6 just as far as the stop to the sleeve projection 1.1. The electrically conductive sealant 5 is used to interconnect the contact area S of the chip 2 with the protrusion 1.1 of the housing over the entire length of the chip. The interconnection of the cohesive cells of the remaining electrodes 7 and 8 of the semiconductor chip is accomplished by conventional thermocompreism or ultrasonic procedure with a suitable wire or strip.

Claims (1)

pRedmet .Polovodičová součástka se sníženou indukčností přívodu sestávající z patice pouzdra, čipu a přívodních elektrod, kde čip je opatřen koniťaktlníml ploškami a spodní spranou připevněn ik pataici pouzdra a kontaktní plošky čipu jsou připojeny k přívodním elektrodám pouzdra, vyznačující se tím, že palice (1) pouzdra je opatřena vý'stupkeiro (1.1) vedle čipu (2) o stejné výšvynalezu ce jako čip (2), zatímco čip (2) je po celé délce přilehlé Ik výstupku (1.1) paitice '(1] opatřen .souvislou kontaktní oblastí (6), 'v případě obdélníkového' tvaru čipu po jeho 'delší straně, přičemž kontaktní oblast (6) Čipu (2) je elektricky vodivě propojena s Výstupkem (1.1) patice (1) pouzdra elektricky vodivým tmelem (5) v 'souvislé ploše.A semiconductor component with a reduced lead-in inductance consisting of a socket base, a chip and lead electrodes, wherein the chip is provided with conical tabs and a lower edge attached to the socket foot and the chip contact pads are connected to the lead electrodes of the case; The housing is provided with a protrusion (1.1) next to the chip (2) of the same height as the chip (2), while the chip (2) is provided with a continuous contact area along the entire length of the adjoining protrusion (1.1). (6), 'in the case of a rectangular' chip shape along its longer side, the contact area (6) of the chip (2) being electrically conductively connected to the projection (1.1) of the housing base (1) by an electrically conductive sealant (5) in continuous desktop.
CS846108A 1984-08-10 1984-08-10 Semiconductor element with decreased inlet induction CS241809B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS846108A CS241809B1 (en) 1984-08-10 1984-08-10 Semiconductor element with decreased inlet induction

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS846108A CS241809B1 (en) 1984-08-10 1984-08-10 Semiconductor element with decreased inlet induction

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS610884A1 CS610884A1 (en) 1985-08-15
CS241809B1 true CS241809B1 (en) 1986-04-17

Family

ID=5407352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS846108A CS241809B1 (en) 1984-08-10 1984-08-10 Semiconductor element with decreased inlet induction

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS241809B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CS610884A1 (en) 1985-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3670208A (en) Microelectronic package, buss strip and printed circuit base assembly
DE60214894T2 (en) Multi-chip module semiconductor devices
US5686699A (en) Semiconductor board providing high signal pin utilization
US6531765B2 (en) Interdigitated capacitor design for integrated circuit lead frames and method
CN1574335B (en) Semiconductor power devices with diamond-shaped metal interconnect configurations
US4642419A (en) Four-leaded dual in-line package module for semiconductor devices
CN111048487A (en) Transistor with dual-orientation non-circular via connection
US7501709B1 (en) BGA package with wiring schemes having reduced current loop paths to improve cross talk control and characteristic impedance
KR880004568A (en) Semiconductor integrated circuit device
US6479894B2 (en) Layout method for thin and fine ball grid array package substrate with plating bus
US20140225124A1 (en) Power transistor arrangement and package having the same
CN1568543B (en) Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips
DE102014114933A1 (en) Semiconductor device
US6897555B1 (en) Integrated circuit package and method for a PBGA package having a multiplicity of staggered power ring segments for power connection to integrated circuit die
JP2987088B2 (en) MOS technology power device chips and package assemblies
US4982268A (en) Semiconductor device package assembly hairing non-symmetrical semiconductor chip mounting within conductible lead pattern
CS241809B1 (en) Semiconductor element with decreased inlet induction
JPH0870090A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3426179B2 (en) Power semiconductor package
CN112151462B (en) Semiconductor package and method of manufacturing the same
TW517362B (en) Ball grid array package structure
JP2884577B2 (en) Field effect transistor
US6731493B2 (en) Low impedance inter-digital capacitor and method of using
DE102023120393A1 (en) A POWER MODULE WITH VERTICALLY ALIGNED FIRST AND SECOND SUBSTRATES
US5866941A (en) Ultra thin, leadless and molded surface mount integrated circuit package