CS232450B1 - Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu - Google Patents

Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu Download PDF

Info

Publication number
CS232450B1
CS232450B1 CS837241A CS724183A CS232450B1 CS 232450 B1 CS232450 B1 CS 232450B1 CS 837241 A CS837241 A CS 837241A CS 724183 A CS724183 A CS 724183A CS 232450 B1 CS232450 B1 CS 232450B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
electron beam
optical
plate
vacuum
optical system
Prior art date
Application number
CS837241A
Other languages
English (en)
Other versions
CS724183A1 (en
Inventor
Armin Delong
Jan Fiser
Original Assignee
Armin Delong
Jan Fiser
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Armin Delong, Jan Fiser filed Critical Armin Delong
Priority to CS837241A priority Critical patent/CS232450B1/cs
Publication of CS724183A1 publication Critical patent/CS724183A1/cs
Publication of CS232450B1 publication Critical patent/CS232450B1/cs

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Podstatou soustavy je vstupní optický hranol (3), jehož vstupní stěna je opatřena acintilační destičkou (1), přičemž za jeho výstupní stěnou v optické ose je umístěna plenparalelnl destička (6) oddělující vakuový prostor, -a za ní vstupní objektiv (5), záměrná destička· (7), výstupní objektiv (8) n výstupní hranol (9) s okulárem (10). Optická soustava je výhodná pro elektronově optická přístroje, zejména pro elektronový lltograf.

Description

Vynález se týká konstrukčního uspořádání optická soustavy pro pozorování elektronového svazku ve vakuu v elektronově optických zařízeních, zejména v elektronovém litografu.
Tvarovaný svazek elektronů procházející elektromagnetickou projekční soustavou je nutné přesně zaostřit na povrch preparátu. Současně je nutné mít možnost určit polohu a korigovat úhlové natočení tohoto svazku, vzniklé průchodem elektronů elektromagnetickou projekční soustavou. U přístrojů, které jsou určeny k expozici prováděnou přímo na neprůhledný substrát elektronovým svazkem je velice obtížné seřídit projekční soustavu složenou Z elektromagnetických prvků a přesné zaostřední této soustavy na preparát. Prakticky znamená provést expozici na substrát, tento z vakuové komory vyjmout, vyvolat a posoudit kvalitu expozice. Následovalo by nestaveni na nové hodnoty projekční soustavy a postup by se musel maohokrát opakovat. Nastavení projekční soustavy by bylo možno provést vizuálně pomocí optického zařízeni, umožňujícího pozorovat zviditelněný, zvětšený obraz elektronového tvarovaného svazku z velké vzdálenosti od jeho osy, bez porušení vakua v komoře projekční soustavy a v místě, kde mé obsluha možnost provádět nutné korekce projekční soustavy. Zařízení tohoto druhu není však běžně známé.
Tyto dosavadní nevýhody odstraňuje optická soustava určená k pozorováni elektronového svazku, jejíž podstatou je, že je tvořena vstupním optickým hranolem, jehož vstupní stěna je opatřena scintilační destičkou, přičemž za jeho výstupní stěnou v optické ose je umístěna planparalelní destička, oddělující vakuový prostor, a za ní vstupní objektiv, záměrná destička, výstupní objektiv a výstupní optický hranol s okulérem.
Hlavní předností řešení podle vynálezu je přenos zvětšeného optického obrazu elektronového svazku na optimální místo pro pozorování, možnost zaostření obrazu, snadná změna zvětšení řešená výměnou okuléru, možnost provést přesné určení velikosti stopy elektronového svazku a jeho natočení polohy. Výhodou je jednoduchá konstrukce, minimální počet optických členů a snadné nastavení. Zařízení umožňuje i dlouhodobé pozorování bez přílišné únavy obsluhy.
Vynález blíže objasní přiložené výkresy, kde na obr. 1 je Celkové uspóřádání, na obr.2 je tvar vyrytý na záměrné destičce a na obr. 3 je chod paprsků optickou soustavou.
Optická eoustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu zobrazená na obr. 1 se skládá ze scintilační destičky 1 sloužící k zviditelnění elektronového svazku 2» natmelené na vstupním optickém hranolu J. Celek je umístěn v ultravakuové nádobě £. Obraz je snímá vstupním objektivem 2i který je umístěn v trubce oddělené od ultravakuového prostoru optickou planparalelní skleněnou destičkou 6. Vstupní objektiv 2 promítá obraz ee zvětšením 1x na rytou záměrnou destičku 2, kterou je možno natáčet o 90 ° s přesností 10 úhlových mi» nut. Tvar obrazce, vyrytého na záměrné destičce 2 obr. 2 je navržen tak, aby bylo možno snadno odečíst odchylku elektronového svazku od optické osy, jeho ortogonalitu, v případě požadavku, velikost jeho stopy na scintilační destičce 1, tím určit zvětšení projekční elektromagnetické soustavy a natočení obrazce elektronového svazku vzniklé jeho průchodem elektromagnetickými optickými Členy. Výstupní objektiv 8 promítá obraz přes výstupní hranol 2 do okuláru 10. který je výměnný, čímž je umožněno měnit zvětšení optické soustavy podle potřeby. Okulár 10 je upevněn na trubce 11. umožňující zaostření obrazu na sítnici oka pozorovatele. Záměrná destička 2 j® osvětlena nepřímým rozptýleným světlem .£2, které umožní odečtení potřebných údajů rozměru, polohy a natočení elektronového svazku i na tmavém pozadí.
Optická soustava je určena na pozorování zviditelné tvarované stopy elektronového svazku v zařízeních, kde není možné seřízení elektromagnetické projekční soustavy přímým pozorováním na stínítku, kde je nutná kontrola polohy a natočení tvarovaného elektronového svazku.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu, vyznačená tím, že je tvořena vstupním optickým hranolem (3), jehož vstupní stěna je opatřena scintilační destičkou (1), přičemž za jeho výstupní stěnou v optické ose je umístěna planparalelní destička (6) oddělující vakuový prostor, a za ní vstupní objektiv (5), záměrná destička (7), výstupní objektiv (8) a výstupní optický hranol (9) s okulárem (10).
CS837241A 1983-10-04 1983-10-04 Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu CS232450B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS837241A CS232450B1 (cs) 1983-10-04 1983-10-04 Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS837241A CS232450B1 (cs) 1983-10-04 1983-10-04 Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS724183A1 CS724183A1 (en) 1984-06-18
CS232450B1 true CS232450B1 (cs) 1985-01-16

Family

ID=5421212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS837241A CS232450B1 (cs) 1983-10-04 1983-10-04 Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS232450B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS724183A1 (en) 1984-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4407569A (en) Device for selectively available phase-contrast and relief observation in microscopes
US3679287A (en) Illumination system for light microscopes
EP2075615B1 (en) Microscope
US4257688A (en) Eye examining instrument
JPS593791B2 (ja) 物体の像認識方法
US6560012B2 (en) Microscope apparatus and method
GB2034499A (en) Ophthalmological apparatus
DE4213604A1 (de) Vorrichtung zum erfassen der scharfeinstellung eines objektivs
US3851949A (en) Microscope having a photometer
US4072395A (en) Microscope
US3453035A (en) Optical system with diffraction grating screen
US3594071A (en) Ophthalmoscopic camera
US3799680A (en) Photometer optical system having viewing magnification and light attenuation means
CS232450B1 (cs) Optická soustava určená k pozorování elektronového svazku ve vakuu
US4834516A (en) Noninverting photo-microscope with variable power lenses
JP6386071B2 (ja) 標本観察装置及び標本観察方法
US3274912A (en) Single-lens reflex camera
US4413889A (en) Focusing device for microscopes
JP2019095293A (ja) レンズチェッカー
US2117428A (en) Photographic camera
US5053629A (en) Microdensitometer with submicron resolution having dual diaphragms and dual microscopes
US3726594A (en) Image positioning optical arrangement in projection printing system
JPWO2020016971A1 (ja) 標本観察装置
JPS60205522A (ja) コリメ−タ−対物レンズ
JP2947569B2 (ja) 顕微鏡視野の部分的遮光・減光方法とその顕微鏡