CS223342B1 - Illuminating system with alternating field - Google Patents
Illuminating system with alternating field Download PDFInfo
- Publication number
- CS223342B1 CS223342B1 CS260982A CS260982A CS223342B1 CS 223342 B1 CS223342 B1 CS 223342B1 CS 260982 A CS260982 A CS 260982A CS 260982 A CS260982 A CS 260982A CS 223342 B1 CS223342 B1 CS 223342B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- projection
- copying
- spherical mirror
- light source
- rotationally symmetrical
- Prior art date
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 abstract description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 2
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Abstract
Osvětlovací systém je určen pro kópírůvací a průjěkční zařízeni s použitím ždřůjé s rotačně symetrickou křivkou svítivosti. Účelem vynálezu je soustředit velkou část šVětělně ěňěrgié VýžářůVané zdrojem na óšvětloválióu plochu s velmi dobrým rozložením osvětlení. Pro speciální účely lzé bez energetických ztrát měnit jednoduše rozměr zářícího pole. Uvedeného účelu se dosáhne osvětlovacím systémem, sestávajícím ze dvou koncentrických zrcadel a axiálně posuvného kuželového odrážeče. Poloměr křivosti konkávního sférického zrcadla je dvojnásobný než poloměr křivosti konvexního sférického zrcadla. Celý systém je rotačně symetrický podle osy světelného zdroje. Vynález lze využít ve většině projekčních a kopírovacích zařízení, např. při kinematografické projekci, při projekci statických diapozitivů, u fotolitografických kopírovacích a projekčních zařízení.The lighting system is designed for copying and an ejection device using a sieve rotationally symmetrical luminous intensity curve. Purpose It is an object of the invention to concentrate a large portion of the invention Nutrient VibratorsWith a light source of light area with very good layout lighting. For special purposes lie without energy loss can simply change the size of the shining field. This purpose is achieved by the illumination system consisting of two concentric ones mirrors and axially sliding conical reflector. Curvature radius of concave the spherical mirror is twice that of curvature radius of convex spherical mirror. The whole system is rotationally symmetrical by the light source axis. The invention can be used in most projection and copying devices, e.g., cinematographic projection, in static projection slides, for photolithographic copying and projection equipment.
Description
Osvětlovací systém je určen pro kópírůvací a průjěkční zařízeni s použitím ždřůjé s rotačně symetrickou křivkou svítivosti. Účelem vynálezu je soustředit velkou část šVětělně ěňěrgié VýžářůVané zdrojem na óšvětloválióu plochu s velmi dobrým rozložením osvětlení. Pro speciální účely lzé bez energetických ztrát měnit jednoduše rozměr zářícího pole.The illumination system is designed for copying and projection equipment using worms with rotationally symmetrical luminous intensity curve. The purpose of the invention is to concentrate a large part of the light source emitted by the source on an illuminating area with a very good light distribution. For special purposes, it is possible to simply change the size of the glowing field without energy loss.
Uvedeného účelu se dosáhne osvětlovacím systémem, sestávajícím ze dvou koncentrických zrcadel a axiálně posuvného kuželového odrážeče. Poloměr křivosti konkávního sférického zrcadla je dvojnásobný než poloměr křivosti konvexního sférického zrcadla. Celý systém je rotačně symetrický podle osy světelného zdroje.This is accomplished by an illumination system consisting of two concentric mirrors and an axially movable cone reflector. The radius of curvature of the concave spherical mirror is twice that of the convex spherical mirror. The entire system is rotationally symmetrical about the axis of the light source.
Vynález lze využít ve většině projekčních a kopírovacích zařízení, např. při kinematografické projekci, při projekci statických diapozitivů, u fotolitografických kopírovacích a projekčních zařízení.The invention can be used in most projection and copying equipment, e.g. in cinematographic projection, in static slide projection, in photolithographic copying and projection equipment.
Vynález se týká osvětlovacího systému pro kopírovací a projekční zařízení, ve kterých je použit zdroj světla s rotačně symetrickou křivkou svítivosti.The invention relates to an illumination system for copying and projection devices in which a light source having a rotationally symmetrical luminous intensity curve is used.
Pro kopírovací a projekční zařízení byly v poslední době vyvinuty nové světelné zdroje s vysokou světelnou účinností, s vhodnými spektrálními vlastnostmi a malými rozměry svíticího pole. Konkrétně se jedná o vysokotlaké projekční výbojky rtuťové, xenonové nebo halogenidové se zářícím polem tvaru válce. Všechny tyto zdroje mají rotačně symetrickou křivku svítivosti.Recently, new light sources with high luminous efficacy, with suitable spectral properties and small luminous field dimensions have been developed for copying and projection equipment. Specifically, they are mercury, xenon or halide high pressure projection lamps with a glowing cylinder-shaped field. All these sources have a rotationally symmetrical luminous intensity curve.
Osvětlovací systémy běžně užívané v řadě zařízení často nerespektují specifické vlastnosti výše uvedených zdrojů. Často se používají klasické čočkové kondenzory nebo eliptická či parabolická zrcadla. Výsledkem je velmi nízká světelná účinnost v prvním případě nebo špatná rovnoměrnost osvětlení v případě druhém. U čočkových systémů je často na závadu přímkový tvar svíticího pole, který omezuje rozlišovací schopnost kopírovacího nebo projekčního zařízení ve směru kolmém na směr svíticího pole.Lighting systems commonly used in many devices often do not respect the specific characteristics of the above mentioned sources. Conventional lens condensers or elliptical or parabolic mirrors are often used. The result is very low luminous efficiency in the first case or poor uniformity of illumination in the second case. In lens systems, the linear shape of the illuminating field, which limits the resolution of the copying or projection device in a direction perpendicular to the illuminating field, is often a defect.
Výše uvedené nedostatky z velké části odstraňuje osvětlovací systém s měnitelným polem podle vynálezu.The above-mentioned drawbacks are largely overcome by the variable-field lighting system according to the invention.
Jeho podstatou je, že je tvořen dvěma koncentrickými zrcadly a kuželovým odrážečem, kde poloměr křivosti konkávního zrcadla je dvojnásobný než poloměr křivosti konvexního zrcadla. Kuželový odrážeč je axiálně posuvný. Celý systém je rotačně symetrický podle osy světelného zdroje.Its essence is that it consists of two concentric mirrors and a conical reflector, where the radius of curvature of the concave mirror is twice that of the convex mirror. The tapered reflector is axially movable. The entire system is rotationally symmetrical about the axis of the light source.
Tímto osvětlovacím systémem je možné soustředit velkou část světelné energie vyzařované zdrojem na osvětlovanou plochu s velmi dobrým rozložením osvětlení. Zároveň je možné pro některé speciální účely měnit jednoduše rozměr zářicího pole bez jakýchkoli energetických ztrát.With this lighting system it is possible to concentrate a large part of the light energy emitted by the source on the illuminated area with a very good light distribution. At the same time, it is possible for some special purposes to simply change the size of the radiation field without any energy loss.
Příklad uspořádání osvětlovacího systému s měnitelným polem podle vynálezu je schematicky znázorněn na výkresu.An example of an arrangement of a variable-field lighting system according to the invention is schematically shown in the drawing.
Osvětlovací systém je tvořen světelným zdrojem 1, v jehož podélné ose je umístěn axiálně posuvný kuželový odrážeč 4. Rotačně symetricky podle osy světelného zdroje 1 je umístěno konkávní sférické zrcadlo 2 a konvexní sférické zrcadlo 3. Poloměr křivosti konkávního sférického zrcadla 2 je dvojnásobný než poloměr křivosti konvexního sférického zrcadla 3.The illumination system is comprised of a light source 1 having a longitudinally displaceable cone reflector 4 in its longitudinal axis. A concave spherical mirror 2 and a convex spherical mirror 3 are rotationally symmetrical about the axis of the light source 1. convex spherical mirror 3.
Světlo ze zdroje 1 je soustřeďováno konkávním sférickým zrcadlem 2 na konvexní sférické zrcadlo 3 a dalším odrazem na konkávním sférickém zrcadle 2 na kuželový odrážeč 4, v jehož blízkosti se vytvoří sekundární světelný zdroj ve tvaru svíticího prstence. Pak svazek dopadá na pracovní plochu 5 (při užití v kopírovacích strojích] nebo je dále soustředěn kondenzorem 6 do objektivu 8, přičemž prochází promítanou předlohou 7 (při užití v projekčních zařízeních). Část použitá v projekčních zařízeních je kreslena čárkovaně.The light from the source 1 is concentrated by the concave spherical mirror 2 on the convex spherical mirror 3 and by further reflection on the concave spherical mirror 2 on the conical reflector 4, in the vicinity of which a secondary light source in the form of a luminous ring is formed. Then, the beam strikes the work surface 5 (when used in copiers) or is further concentrated by condenser 6 into the lens 8, passing through the projected pattern 7 (when used in projection equipment).
Z výkresu je patrné využití značné části světla zdroje 1, přičemž hlavní paprsek leží v místě nejvyšší svítivosti u většiny uvedených zdrojů. Protože svítivost je v daném vyzařovacím úhlu téměř konstantní, je i osvětlení pracovního pole 5 nebo předlohy 7 velmi rovnoměrné. Další výhodou je možnost změny průměru svíticího prstence, a tedy rozměru sekundárního zdroje, pouhým axiálním posuvem kuželového odrážeče 4. Na spodní a horní polovině systému jsou nakresleny dvě krajní polohy — v horní části minimální a v dolní části pak maximální rozměr sekundárního zdroje. Této vlastnosti systému je možno využít k dokonalému vyplnění vstupní pupily objektivu světelným paprskem, resp. svazkem, nebo ke zihěně úhlového rozměru zdroje v kopírovacích zařízeních, což je požadováno např. při kopírování v separační vzdálenosti, kdy maska a citlivá vrstva jsou odděleny malou vzduchovou mezerou.It is apparent from the drawing that a significant portion of the light of the source 1 is utilized, with the main beam lying at the highest luminance point of most of the sources. Since the luminance is almost constant at a given beam angle, the illumination of the working field 5 or the pattern 7 is also very uniform. Another advantage is the possibility of changing the diameter of the illuminating ring and thus the dimension of the secondary source by simply axial displacement of the conical reflector 4. On the lower and upper half of the system, two extreme positions are drawn - the upper part minimum and lower part maximum dimension of the secondary source. This feature of the system can be used to perfectly fill the input pupil of the lens with a light beam, respectively. beam, or to reduce the angular dimension of the source in the copying equipment, which is required, for example, when copying at a separation distance where the mask and the sensitive layer are separated by a small air gap.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS260982A CS223342B1 (en) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | Illuminating system with alternating field |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS260982A CS223342B1 (en) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | Illuminating system with alternating field |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS223342B1 true CS223342B1 (en) | 1983-09-15 |
Family
ID=5363714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS260982A CS223342B1 (en) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | Illuminating system with alternating field |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS223342B1 (en) |
-
1982
- 1982-04-13 CS CS260982A patent/CS223342B1/en unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR970003882B1 (en) | Illumination system of photolithography exposure equipment | |
JPS61288302A (en) | Lighting apparatus, especially stage projector capable of adjusting all variables simultaneously | |
US5619376A (en) | Illuminating optical apparatus for uniformly illuminating a reticle | |
HU217757B (en) | Lighting system for luminaires, projectors and magnifying devices | |
JPH06214318A (en) | Reflection type homogenizer and reflection type illuminating optical device | |
US3522424A (en) | Searchlight apparatus | |
JPH0378607B2 (en) | ||
US6499862B1 (en) | Spotlight with an adjustable angle of radiation and with an aspherical front lens | |
JPH032284B2 (en) | ||
US4355350A (en) | Reflector for use in an artificial lighting device | |
JP2870790B2 (en) | Lighting system for micro reader printer | |
JPH0545605A (en) | Lighting optical device | |
US4389701A (en) | Illumination system | |
US2187071A (en) | Optical system | |
US1333304A (en) | Condensing system for optical projecting apparatus | |
US2026478A (en) | Lighting device for projecting machines | |
US3860335A (en) | Optical system | |
CS223342B1 (en) | Illuminating system with alternating field | |
KR950015612A (en) | Aligner with annular lighting system for high illuminance illuminating light | |
KR100334147B1 (en) | Lighting units for optical systems with reticle-masking system | |
JP2906543B2 (en) | Lighting system for micro reader printer | |
ES2108989T3 (en) | CAPACITORS FOR UPPER PROJECTORS. | |
JPS6349367B2 (en) | ||
JP2914035B2 (en) | Ring light flux forming method and illumination optical device | |
US4432641A (en) | Visual defect inspection of masks |