CS220250B1 - Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření - Google Patents

Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření Download PDF

Info

Publication number
CS220250B1
CS220250B1 CS349779A CS349779A CS220250B1 CS 220250 B1 CS220250 B1 CS 220250B1 CS 349779 A CS349779 A CS 349779A CS 349779 A CS349779 A CS 349779A CS 220250 B1 CS220250 B1 CS 220250B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
layer
ultraviolet radiation
vacuum ultraviolet
supporting thin
manufacturing self
Prior art date
Application number
CS349779A
Other languages
English (en)
Inventor
Vladimir Matolin
Robert Sip
Ludmila Eckertova
Original Assignee
Vladimir Matolin
Robert Sip
Ludmila Eckertova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vladimir Matolin, Robert Sip, Ludmila Eckertova filed Critical Vladimir Matolin
Priority to CS349779A priority Critical patent/CS220250B1/cs
Publication of CS220250B1 publication Critical patent/CS220250B1/cs

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření s energií kvant větší než 10 eV oddělujících vakuově těsně výbojový prostor od prostoru s ultravysoikým vakuem.
Zdroje vakuového ultrafialového záření jsou v současné době používány v aparaturách pro fotoelektronovou spektroskopii, které slouží k analýze povrchů pevných látek. Zdroje tohoto záření jsou většinou výbojky, ve kterých se udržuje doutnavý výboj ve vhodných plynech, zejména He, H2, Ar atd., při tlaku kolem l;02 Pa. Aparatury pro fotoelektronovou spektroskopii, ve kterých se mají provádět měření ,na čistých površích, musí být aparatury ultravysokovakuované, tj. tlak v nich musí být řádově TO“7 * až 10“9 Pa. Je tedy nutné oba prostory od sebe vakuově oddělit tak, aby se přitom záření v přepážce co nejméně absorbovalo. Ultrafialové záření s energií kvant zhruba do 10 eV prochází okénky z fluoridu lithného LiF. P'ro větší energie kvant nebyla k dispozici vhodná okénka s dostatečnou propustností, a proto se ve spektrometrechc dosud většinou používá systém tzv. diferenciálního čerpání. VýbqjKa je s prostorem spektrometru spojena kapilárou o pokud možno velkém vakuovém odporu, kapilára je upro2 střed přerušena a meziprostor se čerpá pomocnými vývěvami. Tento systém značně prodražuje aparaturu, spotřebovává energii srovnatelnou se spotřebou hlavní vakuové aparatury a zabírá místo. Je proto výhodné vytvořit okénko, které by bylo pro daný obor záření propustné.
V uvedené oblasti mají vyhovující propustnost některé kovy, například hliník, ovšem pouze ve tvaru velmi tenkých vrstev, o tloušťce řádově několik desítek až 100 nm. Běžná technologie zhotovení okének je vzhledem k této malé tloušťce nepoužitelná. Byla navržena konstrukce okének na nosné síťce, která však snižuje propustnost okénka.
Výše uvedené nedostatky odstraňuje způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro ultrafialové záření podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že tenká vrstva kovu se nanese na rozpustnou vrstvu na povrchu rovné hladké podložky, přilepí se k trubičce, která je součástí pláště výbojky a pak se oddělí od podložky spolu s touto trubičkou působením vhodného rozpouštědla. Tato okénka jsou samonosná, mají dostatečně velký průměr několik mm a dostatečnou propustnost pro vakuové ultrafialové záření. Jsou vakuově těsně spojena s pláštěm výbojky a oddělují tak prostor výbojky od prostoru spektrometru.
Na výkresu je znázorněno uspořádání umožňující výrobu těchto okének.
Při výrobě okének se postupuje takto: Na rovnou hladkou podložkou 1 ze skla, křemene, keramiky, apod. se nanese mezivrstva 2 látky rozpuštěné ve vhodném rozpouštědle, například kolodium v amylacetátu tak, aby po vypaření rozpustidla vytvořila rovnoměrný povlak. Tento povlak je možno vytvořit i vakuovým naparováním nebo jinou vhodnou metodou. Na tuto mezivrstvu 2 se nanese vakuovým naparováním, katodovým naprašováním, případně jinou metodou pro vytváření tenkých vrstev vrstva 3 hliníku nebo jeho slitiny, například s několika % Si, případně jiného kovu s malým koeficientem absorpce v dané oblasti záření o tloušťce několika desítek až set nm.
Na takto vytvořenou vrstvu se nalepí pomocí epoxydové pryskyřice nebo jiného vhodného lepidla 4 kovová trubička 5, která bude součástí pláště výbojky.
Kolem obvodu trubičky se kovová vrstva nařízne zářezem 6. Nechá se působit vhodné rozpouštědlo, například v případě kolodia amylacetát, které rozpustí mezivrstvu, takže můžeme sejmout trubičku s nalepenou kovovou vrstvou. Tímto způsobem je možno vytvořit na jedné podložce více okének najednou.
Konkrétní příklad provedení:
Na podložku tvořenou podložním mikroskopickým sklíčkem se nanese roztok kolodia v amylacetátu, který po vypaření rozpustidla vytvoří na povrchu kolodiový povlak. Na ten se napařením ve vakuu nanese 50 nm silná vrstva hliníku. Na takto připravené sklíčko se epoxydovou pryskyřicí nalepí 5 měděných trubiček s průměrem 6 mm, tloušťkou stěny 1 nm a délkou 5,0, mm. Po provedení zářezů kolem obvodu trubiček se v amylacetátu rozpustí kolodium, čímž se trubičky s nalepenými okénky oddělí od podložky. Takto připravené trubičky s okénky je možno zamontovat do výbojky.

Claims (1)

  1. Způsob výroby samonosných tenkovrštvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření, pro oddělení prostoru výbojky od prostoru s ultravysokým vakuem, vyznačený tím, že se na podložku nanese rozpustná vrstva, na níž se nanese vrstva
    VYNALEZU kovu s malým koeficientem absorpce v dané oblasti záření, například hliníku nebo jeho slitiny, přičemž se k této vrstvě přilepí trubička, která je součástí pláště výbojky a poté se oddělí od podložky spolu s touto trubičkou působením rozpouštědla.
CS349779A 1979-05-21 1979-05-21 Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření CS220250B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS349779A CS220250B1 (cs) 1979-05-21 1979-05-21 Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS349779A CS220250B1 (cs) 1979-05-21 1979-05-21 Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS220250B1 true CS220250B1 (cs) 1983-03-25

Family

ID=5375236

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS349779A CS220250B1 (cs) 1979-05-21 1979-05-21 Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS220250B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Eckertova Physics of thin films
US4527059A (en) Laser activated mass spectrometer for the selective analysis of individual trace-like components in gases and liquids
US4466992A (en) Healing pinhole defects in amorphous silicon films
Bibishkin et al. Multilayer Zr/Si filters for EUV lithography and for radiation source metrology
CN105914120A (zh) X射线产生靶、放射线产生管、放射线产生设备和放射线照相系统
US4468799A (en) Radiation lithography mask and method of manufacturing same
US20140299781A1 (en) Method for producing a neutron detector component comprising a boron carbide layer for use in a neutron detecting device
US4701391A (en) Mask with magnesium diaphragm for X-ray lithography
CN106544629A (zh) 一种大尺度自支撑铍薄膜的制备方法及装置
CS220250B1 (cs) Způsob výroby samonosných tenkovrstvých kovových okének propustných pro vakuové ultrafialové záření
US20090128939A1 (en) Durability broad band metallic neutral density optical filters and related methods of manufacture
Tomboulian et al. Metal Foils as Filters in the Soft X‐Ray Region
Hussein et al. The X1Σ+ ground state of KH near the dissociation limit
Tremsin et al. Polycrystalline diamond films as prospective UV photocathodes
Ravagnan et al. sp hybridization in free carbon nanoparticles—presence and stability observed by near edge X-ray absorption fine structure spectroscopy
US20060245044A1 (en) Filter for retaining a substance originating from a radiation source and method for the manufacture of the same
Chesnokov et al. Study of SR beam line windows within the range of 17–80 nm
RU2194087C2 (ru) Способ получения бериллиевой и бериллийсодержащей фольги и устройство для его осуществления
US4918307A (en) Sample holder for glow discharge mass spectrometer
US12138656B2 (en) Method for applying a carbon-based reflective overcoating on a grazing incidence optical unit
CN115575869B (zh) 一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室
Taylor Preparation of high purity beryllium foils
US3711326A (en) Promethium sources
RU180391U1 (ru) Испаритель для нанесения покрытий в вакууме
Andersson A study of UV light blocking filter materials for ultrasoft X-ray emission spectroscopy of sputtered thin films