CS219636B1 - A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube - Google Patents

A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube Download PDF

Info

Publication number
CS219636B1
CS219636B1 CS872680A CS872680A CS219636B1 CS 219636 B1 CS219636 B1 CS 219636B1 CS 872680 A CS872680 A CS 872680A CS 872680 A CS872680 A CS 872680A CS 219636 B1 CS219636 B1 CS 219636B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
sealing surface
cleaning
vacuum tube
metal
metal portion
Prior art date
Application number
CS872680A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Jan Jandus
Pavel Kulhanek
Original Assignee
Jan Jandus
Pavel Kulhanek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jan Jandus, Pavel Kulhanek filed Critical Jan Jandus
Priority to CS872680A priority Critical patent/CS219636B1/en
Publication of CS219636B1 publication Critical patent/CS219636B1/en

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

Způsob čištění těsnicí plochy na kovové části baňky elektronky určené pro slisování s čelní deskou pomocí indiového těsnění. Způsobu lze využiti při spojování dvou nebo více částí baňky elektronky, z nichž alespoň některá je kovová. Čištění kovové těsnicí plochy se provádí pomocí elektrického- výboje za normálního tlaku.Method for cleaning the sealing surface on a metal part of a tube bulb intended for pressing with a faceplate using an indium seal. The method can be used when joining two or more parts of a tube bulb, at least some of which are metal. Cleaning of the metal sealing surface is carried out using an electric discharge at normal pressure.

Description

Vynález se týká způsobu čištění těsnicí plochy na kovové části baňky elektronky určené pro slisování s čelní deskou pomocí indiového těsnění.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube for crimping with a faceplate using an indium seal.

Jedním z nejdůležitějších požadavků na těsnicí plochu spoje kov — indium při výrobě elektronek, zejména kamerových, speciálních fotonásobičů apod., je dokonalá čistota této plochy. Především látky organického původu, jako stopy tuků a olejů, způsobují nedokonalou adhesi india ke kovu a tím vznikají vakuové netěsnosti ve spoji. Těsnicí plochu lze vyčistit mnoha způsoby, například působením rozpouštědel organických látek, alkalických čisticích roztoků s detergenty, leptacími lázněmi, působením elektrochemických procesů apod. Společnou nevýhodou všech těchto způsobů je to, že celá součástka se dostane do styku s poměrně agresivními látkami. Vyčištění těsnicí plochy na samostatné součásti elektronky je dobře realizovatelné a účinné, ale během kompletace podsestav dochází k novému znečištění těsnicí plochy, například adsorpcí par organických látek běžně se vyskytujících v laboratorní atmosféře.One of the most important requirements for the sealing surface of the metal - indium connection in the production of tubes, especially camera, special photomultipliers, etc., is the perfect cleanliness of this surface. In particular, substances of organic origin, such as traces of fats and oils, cause incomplete adhesion of indium to the metal and thus create vacuum leaks in the joint. The sealing surface can be cleaned in many ways, for example by treatment with organic solvents, alkaline cleaning solutions with detergents, etching baths, electrochemical processes, etc. The common disadvantage of all these methods is that the whole component comes into contact with relatively aggressive substances. Cleaning of the sealing surface on separate tube components is well feasible and efficient, but during assembly of the subassemblies, the sealing surface is contaminated again, for example by adsorption of organic vapors commonly found in the laboratory atmosphere.

Všechny tyto nevýhody odstraňuje způsob čištění těsnicí plochy na kovové části baňky elektronky, jehož podstata spočívá v tom, že na těsnicí plochu se působí elektrickým výbojem za normálního tlaku při současném axiálním otáčení kovové části baňky elektronky tak, že zdroj vysokého napětí se připojí jedním pólem na elektrodu umístěnou nad těsnicí plochou a druhým pólem ke kovové části baňky elektronky, přičemž jiskrový výboj působí postupně na celou těsnicí plochu.All of these disadvantages are overcome by the method of cleaning the sealing surface on the metal portion of the vacuum tube, which is based on the fact that the sealing surface is subjected to an electrical discharge at normal pressure while simultaneously axially rotating the metal portion of the vacuum tube. an electrode positioned above the sealing surface and the second pole to the metal portion of the tube of the vacuum tube, the spark discharge gradually acting over the entire sealing surface.

Vyšší účinek vynálezu se projevuje zejména v tom, že je možno rychle, bez máčení a bez použití složitějšího zařízení dokonale odstranit vrstvičku organických sloučenin 'z těsnicí plochy budoucího spoje kov — indium a tím zajistit vakuově těsné spojení kovové části baňky elektronky s čelní deskou.The greater effect of the present invention is particularly evident in that it is possible to remove the organic compound layer from the sealing surface of the future metal-indium joint quickly, without soaking and without using a more complex device, thereby ensuring a vacuum-tight connection of the metal portion of the vacuum tube to the faceplate.

Na přiloženém výkresu je schematicky znázorněno* uspořádání k provádění způsobu podle vynálezu. Baňka 1 budoucí elektronky, vakuově spojená kovovou částí 2 je pro spojení s čelní deskou pomocí india opatřena na konci kovové části 2 těsnicí plochou 3. Nad těsnicí plochou 3 je ve vzdálenosti několika milimetrů umístěna elektroda 4 připojená k jednomu pólu zdroje 5 vysokého napětí, jehož druhý pól je připojen ke kovové části 2 baňky 1, Axiálním otáčením baňky 1 dopadá jiskra elektrického výboje postupně na celou čištěnou těsnicí plochu 3.The attached drawing schematically shows an arrangement for carrying out the method according to the invention. Flask 1 of the future tube, vacuum-coupled to the metal part 2, is provided with a sealing surface 3 at the end of the metal part 2 for connection to the end plate by indium. Above the sealing surface 3 is located a few millimeters electrode 4 connected to one pole the second pole is connected to the metal part 2 of the flask 1. By rotating the flask 1 axially, the spark of the electric discharge gradually strikes the entire cleaned sealing surface 3.

Způsobu podle vynálezu lze využít zejména při kompletaci elektrovakuových prvků, u nichž je použito lisovaného spoje s indiovým těsněním, ke spojení dvou nebo více částí baňky, z nichž alespoň některá je kovová.In particular, the method of the invention can be used in assembling electro-vacuum elements in which an indium seal press fit is used to connect two or more flask parts, at least some of which are metallic.

Claims (1)

pěedmEtpřededmEt Způsob čištění těsnicí plochy na kovové části baňky elektronky určené pro slisování s čelní deskou pomocí indiového těsnění vyznačující se tím, že na těsnicí plochu se působí elektrickým výbojem za normálního tlaku při současném axiálním otáčení kovynalezu vové části baňky elektronky, kdy zdroj vysokého napětí se připojí jedním pólem na elektrodu umístěnou nad těsnicí plochou a druhým pólem ke kovové části baňky elektronky, přičemž jiskrový výboj působí postupně na celou těsnicí plochu.Method of cleaning a sealing surface on a metal part of a vacuum tube for pressing with a faceplate by means of an indium seal, characterized in that the sealing surface is subjected to an electric discharge under normal pressure while simultaneously axially rotating the metal in the vacuum tube. a pole on the electrode located above the sealing surface and a second pole to the metal portion of the tube of the vacuum tube, the spark discharge gradually acting on the entire sealing surface.
CS872680A 1980-12-11 1980-12-11 A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube CS219636B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS872680A CS219636B1 (en) 1980-12-11 1980-12-11 A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS872680A CS219636B1 (en) 1980-12-11 1980-12-11 A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS219636B1 true CS219636B1 (en) 1983-03-25

Family

ID=5438234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS872680A CS219636B1 (en) 1980-12-11 1980-12-11 A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS219636B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4534921A (en) Method and apparatus for mold cleaning by reverse sputtering
EP0546443B1 (en) Soldering by conduction of heat from a plasma
JPS6056431B2 (en) plasma etching equipment
US3879836A (en) Printed circuit card component removal method
CS219636B1 (en) A method of cleaning a sealing surface on a metal portion of a vacuum tube
JP2006203174A5 (en)
US4063991A (en) Method of increasing voltage withstanding capability of vacuum interrupters
US3834605A (en) Printed circuit card component removal apparatus
JPH07106307A (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
DE59202882D1 (en) GALVANIZING DEVICE FOR PANEL-SHAPED WORKPIECES, ESPECIALLY PCB.
DE3508005A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR CLEANING THE PINS OF A "DUAL-IN-LINE" SEMICONDUCTOR PACK BEFORE SOLDERING
DE102020208909A1 (en) PROCESSING PROCESS FOR A WAFER
JP2002076569A (en) Inspection device for printed board
CN214763592U (en) PCB basicity etching nitric acid system moves back tin waste liquid and uses preliminary filter equipment
US20250166950A1 (en) Direct current contactors with improved evacuation air pathways
KR950004432A (en) Method of removing wafer contaminants by sputter cleaning
RU1776153C (en) Equipment for vacuum processing of electronic devices
DE102007034751B3 (en) Plastic component plasma treatment in vacuum chamber involves holding back organic gas release resulted during plasma treatment as condensate by condensate trap, which is arranged in suction line
JPH08161959A (en) Switch and manufacturing method thereof
JP2002216631A (en) Method and apparatus for cleaning the inside of a cathode ray tube
FR2560797A1 (en) Process and apparatus for cleaning connection leads and the like, using vacuum reverse sputtering, before soldering operations
JPH09248617A (en) Vacuum arc descaling local processor
JPS60215788A (en) Plating chamber of high-speed plating device
JPS6336138B2 (en)
KR970052632A (en) Particle removal device in semiconductor device manufacturing process