CS218510B1 - Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty - Google Patents

Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty Download PDF

Info

Publication number
CS218510B1
CS218510B1 CS624981A CS624981A CS218510B1 CS 218510 B1 CS218510 B1 CS 218510B1 CS 624981 A CS624981 A CS 624981A CS 624981 A CS624981 A CS 624981A CS 218510 B1 CS218510 B1 CS 218510B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
emitter layer
layer
main electrode
controlled emitter
region
Prior art date
Application number
CS624981A
Other languages
English (en)
Inventor
Jaroslav Homola
Ilja Muller
Bohumil Pina
Timotej Simko
Original Assignee
Jaroslav Homola
Ilja Muller
Bohumil Pina
Timotej Simko
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jaroslav Homola, Ilja Muller, Bohumil Pina, Timotej Simko filed Critical Jaroslav Homola
Priority to CS624981A priority Critical patent/CS218510B1/cs
Publication of CS218510B1 publication Critical patent/CS218510B1/cs

Links

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

Předmětem vynálezu je vícevrstvá polovodičová součástka určená pro provoz při vyšších pracovních kmitočtech. Podstata vynálezu spočívá ve vhodné geometrii členění řízené emitorové struktury ták, že okraj emitorové vrstvy se v žádném místě struktury nelomí v úhlu menším než 120°. Na povrchu .součástky je ze strany druhé hlavní elektrody vytvořeno alespoň šest stejně velkých oblastí ve tvaru pravidelného šestiúhelníka tak, že uvnitř každé takové oblasti se náčhází řízená emitorová vrstva a alespoň pět stran šestiúhelníka, ohraničujícího každou tuto oblast, je totožných s okrajem řízené emitorové vrstvy. V každé ze zmíněných oblastí jsou uspořádány mikrosvody symetricky podle středu kružnice opsané této oblasti.

Description

Vynález se týká vícevrstvé polovodičové součástky určené pro provoz při vyšších pracovních kmitočtech. U tyristorů pro vyšší pracovní kmitočty se pro potlačení zapínacích ztrát využívá principu rozčleněného emitoru. Známá provedení těchto tyristorů mají emitorovou vrstvu členěnou do tvaru evolventních pásů, rozvětvených přímých pásů, pásů ve tvaru kruhových oblouků apod.
Nevýhoda používaných členění emitoru spočívá v tom, že okraj emitorové vrstvy se na několika místech struktury lomí v ostrém úhlu. Vrcholy těchto ostrých úhlů představují nejslabší místa struktury z hlediska odolnosti při frekvenčním zatěžování a navíc zhoršují dynamické parametry součástky. Další nevýhodou je obtížné řešení rovnoměrného pokrytí struktury emitoru mikrosivody, což je nezbytné pro dosažení optimální kombinace zápínacích ztrát a vypínací doby.
Vynález odstraňuje uvedené nevýhody a řeší daný problém v podstatě tak, že na povrchu polovodičové součástky ze strany druhé hlavní elektrody je vytvořeno alespoň šest stejně velikých oblastí ve tvaru pravidelného šestiúhelníku, přičemž uvnitř každé takové oblasti se nachází řízená emitorová vrstva a alespoň pět stran šestiúhelníka ohraničujícího každou oblast je totožných s okrajem řízené emitorové vrstvy. Uspořádání mikrosvodů v každé ze zmíněných oblastí ve tvaru pravidelného šestiúhelníka je symetrické podle středu kružnice opsané této oblasti.
Výhoda geometrie členění emitorové vrstvy polovodičové součástky podle vynálezu spočívá v tom, že okraj emitorové vrstvy se v žádném místě struktury nelomí v úhlu menším než 120°. V emitorové vrstvě se pak nevyskytují slabá místa, a to umožňuje dosáhnout optimální kombinace parametrů součástky. Další výhodou členění podle vynálezu je možnost zcela pravidelného rozmístění mikrosvodů v celé emitorové vrstvě.
Na přiloženém výkresu je znázorněn příklad struktury tyristorů pro střední kmitočty. Na obr. 1 je řez strukturou a na iObr. 2 je znázorněna geometrie členění emitorové vrstvy.
Vrstva základního polovodičového' materiálu 5 je umístěna mezi dvěma vnějšími polovodičovými vrstvami 6, 8 opačného typu vodivosti než vrstva základního polovodičového materiálu 5. První vnější vrstva 6 má kontakt s první hlavní elektrodou 7 a druhá vnější vrstva 8 má v řadě diskrétních míst tzv. mikrosvodů 4 kontakt š druhou hlavní elektrodou 9, dále má kontakt s rameny řídicí oblasti 2 a souvisí s řízenou emitorovou vrstvou 1, stejného typu elektrické vodivosti jako vrstva základního polovodičového materiálu 5. Řízená emitorová vrstva 1 má kontakt s druhou hlavní elektrodou 9.
Řízená emitorová vrstva je rozčleněna rameny řídicí oblasti 2 (obr. 2J na šest stejně velikých oblastí 3 ve tvaru pravidelného šestiúhelníka, vzájemně propojených na. obvodu součástky a obsahujících pravidelnou síť mikrosvodů 4.
Oblastí využití vynálezu jsou tyristory s vysokou proudovou zatížitelností při vyšších frekvencích.

Claims (2)

1. Vícevrstvá polovodičová součástka pro· vyšší pracovní kmitočty, obsahující vrstvu základního polovodičového materiálu mezi dvěma vnějšími polovodičovými vrstvami opačného typu vodivosti než vrstva základního polovodičového· materiálu, z nichž první má kontakt s první hlavní elektrodou a druhá má v řadě diskrétních míst tzv. mikrosvodů kontakt s druhou hlavní elektrodou a souvisí dále s řízenou emitorovou vrstvou polovodičového materiálu stejného typu elektrické vodivosti jako základní vrstva, přičemž tato řízená emitorová vrstva má kontakt s druhou hlavní elektrodou a druhá vnější vrstva má kontakt s rameny řídivynálezu cí oblasti, vyznačená tím, že na povrchu součástky ze strany druhé hlavní elektrody (9) je vytvořeno alespoň šest stejně velikých oblastí (3) ve tvaru pravidelného šestiúhelníka, přičemž uvnitř každé takové oblasti (3) se nachází řízená emitoirová vrstva (lj a alespoň pět stran šestiúhelníka ohraničujícího každou oblast (3) je totožných s okrajem řízené emitorové vrstvy (1).
2. Vícevrstvá polovodičová součástka podle bodu 1, vyznačená tím, že uspořádání mikrosvodů (4) v každé ze zmíněných oblastí (3) ve tvaru pravidelného' šestiúhelníka je symetrické podle středu kružnice opsané této oblasti.
CS624981A 1981-08-20 1981-08-20 Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty CS218510B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS624981A CS218510B1 (cs) 1981-08-20 1981-08-20 Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS624981A CS218510B1 (cs) 1981-08-20 1981-08-20 Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS218510B1 true CS218510B1 (cs) 1983-02-25

Family

ID=5409098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS624981A CS218510B1 (cs) 1981-08-20 1981-08-20 Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS218510B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4532534A (en) MOSFET with perimeter channel
US4789882A (en) High power MOSFET with direct connection from connection pads to underlying silicon
US5323036A (en) Power FET with gate segments covering drain regions disposed in a hexagonal pattern
US5003370A (en) High power frequency semiconductor device with improved thermal resistance
DE112017007965B4 (de) Federelektrode für ein Druckkontaktgehäuse-Leistungshalbleitermodul
US3704398A (en) Multi-emitter power transistor having emitter region arrangement for achieving substantially uniform emitter-base junction temperatures
US3996601A (en) Shorting structure for multilayer semiconductor switching devices
DE102020121074A1 (de) Halbleitervorrichtung und Inverter
US3538398A (en) Semiconductor element with improved guard region
US4651181A (en) Field effect transistors having parallel-connected subtransistors
EP0008535B1 (en) A gate controlled semiconductor device
CN111162123A (zh) 沟槽式栅极结构igbt
CS218510B1 (cs) Vícevrstvá polovodičová součástka pro vyšší pracovní kmitočty
US3437886A (en) Thyristor with positively bevelled junctions
JPS6243548B2 (cs)
US20200127656A1 (en) Increasing forward biased safe operating area by source segmentation
JPS63237579A (ja) オン抵抗の小さいfet構造
US3474303A (en) Semiconductor element having separated cathode zones
US4298882A (en) Multilayer semiconductor element
US3771027A (en) Bistable semiconductor device
US4329701A (en) Semiconductor package
US3999211A (en) Thyristor
US4943840A (en) Reverse-conducting thyristor
EP0263240B1 (de) Verzweigungszirkulator für grosse Hochfrequenzleistungen
JPS6364905B2 (cs)