CS216566B1 - Zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky - Google Patents

Abstract

Zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky. Vynález ae týká oboru tiakovýeh strojů. Vynález řeší problém dosažení vysoké kvality při nynášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky, ovratvování rozměrnéjšíoh formátů podložek, zejména hliníkových fólií, při zachování vysoké produktivityvpráce. Podstata vynálezu spočívá v tom, že uvedené zařízení je opatřeno vedením, které je přestavitelně v rozmezí - 20° od roviny podávacího stolu, přičemž zásobník tekuté látky je tvořen dvojitým pláštěm pro chladicí médium. Zásobník s tekutou látkou je připojen na cirkulační okruh chladicího agregátu. Uvedený vynález je možné využít při nanášení tekutých látek na pevné nebo ohebné podložky.

Description

(54) Zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky (51) Int Cl.’

B 05 C 1/08

KAHOUB PAVEL ing,, CVIKOV

216 566

Zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky. Vynález ae týká oboru tiakovýeh strojů. Vynález řeší problém dosažení vysoké kvality při nynášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky, ovratvování rozměrnéjšíoh formátů podložek, zejména hliníkových fólií, při zachování vysoké produktivityvpráce.

Podstata vynálezu spočívá v tom, že uvedené zařízení je opatřeno vedením, které je přestavitelně v rozmezí - 20° od roviny podávacího stolu, přičemž zásobník tekuté látky je tvořen dvojitým pláštěm pro chladicí médium. Zásobník s tekutou látkou je připojen na cirkulační okruh chladicího agregátu.

Uvedený vynález je možné využít při nanášení tekutých látek na pevné nebo ohebné podložky.

Vynález se týká zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a ohebné podložky, jako na příklad hliníkové fňlie, pleoh, papíry a jiné materiály.

Nejznámější a velmi jednoduoé zařízení pro nanášení tekutých látek jsou odstředivky. Uvedené zařízení pracuje tak, že se pevná nebo ohebná podložka upne na otáčeoí desku a po roztočení na stanovené otáčky ee směrem od Btředu do kraje polévá ovrstvovací látkou, nevýhodou tohoto zařízení je, že nastávají ztráty ěaeto velmi drahých látek. Vlivem letmého rozstřiku látka dobře nezatéká do věeoh párů podložky. Další nevýhodou tohoto zařízení je, že je málo produktivní a hodí se pouze pro kusovou výrobu.

Další známé zařízení pro nanášení tekutýoh látek na ohebné podložky je založeno na principu barevníku tiskových strojů. Toto zařízení je opatřeno broušenými válci e elastickým povrchem. Uvedené zařízení vyžaduje velkou přesnost a je dosti složité. Propustný element se podložky buď dotýká, nebo je minimálně vzdálen, takže vzniká mezi ním s podložkou celistvá vrstvička v podobě filmu proudáí látky. Podmínkou dobrého ohodu zařízení je přesná síla podložky, stejný minimální tlak okolí, přísně konstantní konzistence nanášené látky a vlastní náročné provedeni, je

Nové a pokrokové zařízení pro nanášení tekutých látek, založené na prinoipu etatioké elektřiny. Jeho nevýhodou však je, že uvedené zařízení je velmi nákladné a vyžaduje speciální výběr podložek i samotné ovrstvovací látky,.

Další známé zařízení je založeno na prioipu nanášení prostřednictvím nanášeoího válce, na který je tekutá látka přenášena válcem brodícím ze zásobníku tekuté látky. Nevýhodou tohoto zařízení je, že nezaručuje konstantní výstupní poměry φβζΐ válcem nanáěeoím a podložkou, na kterou je tekutá látka nanášena, oož má za následek nerovnoměrnost tloušťky nanášené vrstvy. Na tomto zařízení je velmi obtížné ovretvování rozměmějšíc formátů. Další nevýhodou tohoto zařízení je, že dochází ke kolísání teploty tekuté látky v zásobníku a v důsledku toho i ke zrněným fyzikálních vlastností, zvláště měrnost vrstvy.

Uvedené nevýhody odstraňuje zařízení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že je opatřeno vede- . ním, které je přestavitelně v rozmezí - 20° od roviny podávacího stolu, přičemž zásobník tekuté látky je tvořen dvojitým pláštěm pro ohladioí médium. Zásobník s tekutpu látkou je připojen na cirkulační okruh chladícího agregátu.

Výhodou uvedeného zařízení podle vynálezu je to, že výstupní úhel podložky, který lze nastavit na optimální hodnotu podle použité podložky a tekuté látky, zůstává v průběhu ovretvování konstantní a není ovlivňován obsluhou zařízení. Vedení umožňuje nanášení tekutých látek i na podložky rozměrnějších formátů, a to i při využití principu ovretvování spodní plochy podložky. Další výhodou zařízení je, že zaručuje zachování teploty tekuté látky a její výšky hladiny v zásobníku, oož se příznivě projeví na rovnoměrnosti nánosu s tím snížení zmetkovitosti výrobků.

Jedno z možných provedení je znázorněno na přiložených výkresech, kde na obr, 1 je sohemstloky v náryse nakresleno zařízení podle vynálezu s použitím meohaniokého vedení podložky a udržování teploty prostřednictvím ohladíoího média, které je v přímém styku s pláětěm zásobníku, na obr. 2 je aohematioky v náryse nakresleno zařízení podle vynálezu s použitím meohaniokého vedení podložky a udržování teploty tekuté látky v chladicím agregátu. U tohoto provedení nastává cirkulace tekuté látky mezi zásobníkem a nádrží chladícího agregátu, oož zaručuje vzhledem k velkému obeahu konstantní homoggnnoet tekuté látky v zásobníku.

Zařízení podle vynálezu sestává z podávacího atolu je uložena podložka i, která Be posunuje mezi nanáěeoím válcem £ s přítlačným vállem Ji, Výstupní úhel podložky _1 je irčen vedením Ji, které je možno + _o přestavovat v rozmezí - 20 od roviny podávaoího stolu J - viz obr. 1. Přítlačný válec 2 í® uložen odpružené tak, žo přitlačuje podložku j. k nanášeoímu váloi £ danou optimální silou a jo seřízen tak, aby se

21Í566 nedotýkal nanášeoího válce £ přímým stykem* Podložka _1 je unášena nanášecím válcem £ a přítladným válcem 2 a Je posunována k vedení 4, Tekutá látka £ je ze zásobníku 2 odebírána brodioím váloem 66 a přenášena na nanášecí váleo J. Množství přenášené tekuté látky £ je přímo závislé na tvaru drážek nanááecího váloe na obvodových rychlostech nanášeoího váloe £ a brodícího válce Jjý na volbě materiálu tšohto válců a výšce kladiny tekutá látky 8, v zásobníku 2· Zásobník 2 »é dvojitý pláží, v jehož vnitřním prostoru proudí na výkresech neznázorněné chladicí médium. Chlazení tekuté látky £ lze provédžt ohladioím agregátem 10 ze kterého je tekutá látka 4 dopravována do zásobníku £ a přebytečné množství proudí zpět do ohladioího agregátu 20.

Punkoe uvedeného zařízení je náaledujíoít

Nanášená tekutá látka JB je odebírána ze zásobníku 2 nebo £ prostřednictvím brodícího váloe .6, který se v zásobníku 2 nebo £ rovnoměrně otáčí a tím na svůj povroh rovnoměrně nabírá tekutou látku 4 a předává j i nanášeoímu válel 4. Prostřednictvím podávaoího atolu jg j® mezi nanášeoí váleo £ a přítlačný váleo 2 zasouvána podložka 2, na kterou je ze spodní atrany přiváděna prostřednictvím nanááecího váloe 2 tekutá látka 8, Výstupní úhel paí podložky 2 je určen nastavením polohy vedení 4, ze kterého je podložka 2 vráně odebírána a předávána k dalšímu zpracování.

Claims (2)

1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU

   1, Zařízení pro nanášení tekutých látek na pevné a Ohebné podložky, zejména na'hliníkové fžlie, sestávající z přítlačného váloe, nanášeoího váloe, brodícího váloe a zásobníku tekuté látky, vyznačující se tím, že je opatřeno vedením (4), které je přestav!telné v rozmezí - 20° od roviny podávaoího stolu (2), přičemž zásobník (7) tekuté látky (8) je tvořen dvojitým pláštěm pro ohladioí médium,
2. 2, Zařízení podle bodu 1, vyznačující ae tím, že zásobník (9) a tekutou látkou (8) je připojen na cirkulační okruh ohladioího agregátu(io).