CS214254B1 - Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls - Google Patents

Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls Download PDF

Info

Publication number
CS214254B1
CS214254B1 CS614580A CS614580A CS214254B1 CS 214254 B1 CS214254 B1 CS 214254B1 CS 614580 A CS614580 A CS 614580A CS 614580 A CS614580 A CS 614580A CS 214254 B1 CS214254 B1 CS 214254B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
etching
grains
galliumarsenide
parts
crystal
Prior art date
Application number
CS614580A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Arnost Hruby
Bedrich Stepanek
Original Assignee
Arnost Hruby
Bedrich Stepanek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arnost Hruby, Bedrich Stepanek filed Critical Arnost Hruby
Priority to CS614580A priority Critical patent/CS214254B1/en
Publication of CS214254B1 publication Critical patent/CS214254B1/en

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Weting (AREA)

Description

ČESKOSLOVENSKÁSOCIALISTICKÁREPUBLIKA< 1S )CZECHOSLOVAKIASOCIALISTREPUBLIC <1S)

POPIS VYNÁLEZU K AUTORSKÉMU OSVĚDČENÍ 214 254 (Π) (Bl)COPYRIGHT CERTIFICATE DESCRIPTION 214 254 (Π) (Bl)

(61) (23) Výstavní priorita(22) Přihlášeno n 09 80(21) PV 6145-80 (51) IntCl.5 H 01 L 21/302(61) (23) Exhibition priority (22) Registered n 09 80 (21) PV 6145-80 (51) IntCl.5 H 01 L 21/302

ÚŘAD PRO VYNÁLEZYOFFICE OFFICE

A OBJEVY (40) Zveřejněno 15 09 81(45) Vydáno 01 Q6 84 (75)& DISCOVERY (40) Published 15 09 81 (45) Published 01 Q6 84 (75)

Autor vynálezu hrubý arnošt ing. esc., Štěpánek bedřich ing. esc., praha (54) Způsob leptání pro stanovení krystalických zrn krystalů galliumarseniduAuthor of the invention Rough Arnošt ing. Esc., Štěpánek Bedřich ing. Esc., Prague (54) Etching method for determination of crystalline grains of galliumarsenide crystals

Vynález se týká způsobu leptáni krystalů galliumarsenidu pro stanovení krystalických zrn,-kdy krystaly byly předem opracovány broušením či lapovéním, a dále povrch leptán na lesk. íBACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a process for etching crystals of gallium-arsenide for the determination of crystalline grains, wherein the crystals have been pre-treated by grinding or lapping, and a surface etched to gloss. and

Leptání krystalů pro stanovení krystalických zrn umožňuje jednoduchou cestou Stanovit,zda vypěstovaný krystal galliumarsenidu je monokrystalem, či je složen z několika zrn.The etching of the crystals for the determination of crystalline grains makes it possible to determine in a simple way whether the cultivated gallium crystal is a single crystal or composed of several grains.

Existuje celá řada použitelných leptadel a leptacích postupů, avšak doposud používanéroztoky mají řadu nevýhod.There are a number of useful etchants and etching processes, but the solutions used so far have a number of disadvantages.

Použití roztoku Η,,02 + HF + HgO (R. K. Willardson, H. L. Goering: Preparation of III-VCompounds, vol. I. New Yourk, Reinhold Publ. Cer. (1962) je příliš náročné na čas. Leptáníprobíhá 45 minut. Dále se používá brom, který je jedovatý (L. Koszi,' D. L. Rode: J. Ělch.The use of Η ,, 02 + HF + HgO (RK Willardson, HL Goering: Preparation of III-VCompounds, vol. I. New Yourk, Reinhold Publ. Cer. (1962) is too time consuming. Etching takes 45 minutes. uses bromine, which is poisonous (L. Koszi, 'DL Rode: J. Olch.

Soc. 122 /1975/ 1696) nebo autoři J. G. Grahmaier, C. B. Watson: Phys. St. Solidi 32 /1969/ K 13) používají silně agresivních látek jako je roztavený hydroxid draselný. Použití jedova-tých a silně agresivních látek značně ztěžuje práci, nebot je nutné používat složitá bezpeč-nostní opatření, která jsou mnohdy i ňa úkor přesnosti výsledku.Soc. 122/1975/1696 or by J.G. Grahmaier, C. B. Watson: Phys. St. Solidi 32/1969 / K 13) use strongly aggressive substances such as molten potassium hydroxide. The use of poisonous and highly aggressive substances makes work very difficult, as it is necessary to use complex safety measures, which are often detrimental to the accuracy of the result.

Využívání výše uvedených leptadel je příliš časově náročné jednak pro vlastní leptacíproces a jednak pro zajištění všech potřebných bezpečnostních opatření, tuc(íž se popsaná lep-tadla a postupy jeví jako neekonomické.The use of the above-mentioned etchants is too time-consuming, both for the etching process itself and for ensuring all the necessary safety precautions (such as the described adhesives and processes appear uneconomical.

Tyto nevýhody odstraňuje způsob leptání pro stanovení krystalických zrn galliumarsenidu 214254These disadvantages are eliminated by the etching method for the determination of crystalline gallium grains 214254

LL

Claims (2)

214254 .214254. 2 podle vynálezu, jehož podstatou je, že na krystal galliumarsenidu se působí po dobu 30 až 60sekund při teplotě 40 až. 60 °C leptadlem, obsahujícím 20' dílů 40 % vodného roztoku kyselinyvinné, 5 dílů koncentrované kyseliny dusičné a 4 díly 1 vodného roztoku dusičnanu stříbr-ného, přičemž se krystalem v roztoku mírně pohybuje. Výhodou tohoto způsobu leptání je, že neobsahuje látky jedovaté a silně agresivní, a želeptací časy jsou velice krátké, takže celý postup trvá zhruba 2 až 3 minuty. Použité látkyjsou levné a snadno dostupné. Před leptáním pro stanoveni krystalických zrn se krystal galliumarsenidu za mokra obrou-sí jemným karborundovým práškem a oelptá. na lesk. Po důkladném omytí lesklého povrchu a opláchnutí ve vodě se vloží do předem připravenéholeptadla pro stanovení krystalických zrn o složení podle vynálezu. Leptání se provádí v roztoku o teplotě 40 až 60 °C. Vzorkem se v leptadle mírně pohybujepo dobu 30 až 60 sekund, pak sé substrát důkladně opláchne pod proudící vodou a nakonec vdestilované vodě, Na metalografickém mikroskopu při zvětšeni 200 až 500 x lze pak pozorovatpočet zrn vzorku galliumarsenidu. Následující příklady provedeni mají pouze objasnit předmět vynálezu, aniž by jej jakým-koliv způsobem omezovaly. Přiklad 1 Dokonale obroušený krystal galliumarsenidu, oleptaný na lesk, se po důkladném opláchnutívodou vložil do leptadla pro stanovení knystalických zrn o složení podle vynálezu. Leptadlo mělo teplotu 45 °C a vzorek galliumarsenidu byl v něm ponechán za mírného míchá-ni 55 sekund. Potom byl vyjmut a opláchnut v proudící vodě a naxonec v destilované vodě. Pooschnutí byl pozorován na metalografickém mikroskopu. Skládal se z několika dobře patrných zrn. Příklad 2 Dobře obroušený krystal galliumarsenidu, oleptaný na lesk byl po důkladném opláchnutívodou vložen do leptadla pro stanovení krystalických zrn o složení podle vynálezu. Leptadlo mělo teplotu 57 °C a vzorek galliumarsenidu v něm byl ponechán za mírného mí-cháni 40 sekund. Potom byl vyjmut, důkladně opláchnut v proudící vodě a nakonec v destilovanévodě. Po uschnuti byl pozorován na metalografickém mikroskopu. Vzorek galliumarsenidu se sklá-dal z několika dobře vyvinutých zrn. Způsob leptáni pro stanovení krystalických zrn podle vynálezu lze využít ve všech labo-ratořích, kde se připravuje krystalický galliumarsenid. Leptání krystalů pro stanovení krystalických zrn umožňuje jednoduchou cestou určit, zdavypěstovaný krystal je monokrystalem," nebo je složen z několika zrn. PŘEDMĚT VYNALEZU Způsob leptání pro stanovení krystalických zrn krystalů galliumarsenidu předem opraco- 3 214254 váných broušenímpůsobí leptadlemkyseliny dusičnéaž 60 sekund při a oleptaných na lesk vyznačující se tím, že se na krystal galliumarseniduo složení 20 dílů vodného roztoku kyseliny vinné koncentrované 40 %, 5 dílůkoncentrované a 4 díly vodného roztoku dusičnanu stříbrného 1 % po dobu 30teplotě 40 až 60 °C, přičemž se vzorkem v roztoku mírně pohybuje.2 according to the invention, the essence of which is that the crystal of galliumarsenide is treated for 30 to 60 seconds at a temperature of 40 to. 60 ° C with an etchant containing 20 parts of a 40% aqueous solution of tartaric acid, 5 parts of concentrated nitric acid and 4 parts of an aqueous solution of silver nitrate, moving slightly in the solution. The advantage of this etching method is that it does not contain toxic and strongly aggressive substances, and the etching times are very short, so the process takes about 2 to 3 minutes. The materials used are cheap and readily available. Before etching for the determination of crystalline grains, the gallium-arsenide crystal is wet-milled with a fine carborundum powder and etched. to shine. After thoroughly washing the shiny surface and rinsing it in water, it is placed in a pre-prepared crystalline grain healing composition of the present invention. Etching is carried out in solution at a temperature of 40 to 60 ° C. The sample was gently moved through the etch for 30 to 60 seconds, then the substrate was thoroughly rinsed under flowing water and finally in distilled water. On a metallographic microscope at a magnification of 200-500x, the number of galliumarsenide specimens could then be observed. The following examples are intended to illustrate the invention without limiting it in any way. EXAMPLE 1 A perfectly polished crystal of galliumarsenide, etched to gloss, was thoroughly rinsed in an etchant to determine the knystalic grains of the composition of the invention. The etchant was at a temperature of 45 ° C and the galliumarsenide sample was left there for a mild stirring for 55 seconds. It was then removed and rinsed in flowing water and extracted in distilled water. Drying was observed on a metallographic microscope. It consisted of several well-visible grains. EXAMPLE 2 A well-polished crystal of galliumarsenide, etched to a gloss, was thoroughly rinsed in an etchant to determine the crystalline grains of the composition of the invention. The etchant had a temperature of 57 ° C and the gallium sarcoside sample was left there with mild agitation for 40 seconds. Then it was removed, thoroughly rinsed in flowing water and finally in distilled water. After drying, it was observed on a metallographic microscope. The galliumarsenide sample was folded from several well-developed grains. The method of etching for the determination of crystalline grains of the invention can be used in all laboratories where crystalline gallium arsenide is prepared. The etching of the crystals for the determination of the crystalline grains makes it possible to determine in a simple way that the newly grown crystal is a single crystal, or is composed of several grains. characterized in that a composition of 20 parts of an aqueous solution of tartaric acid at a concentration of 40%, 5 parts concentrated and 4 parts of an aqueous solution of silver nitrate 1% for a temperature of 40-60 ° C is applied to the gallium-arsenide salt;
CS614580A 1980-09-11 1980-09-11 Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls CS214254B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS614580A CS214254B1 (en) 1980-09-11 1980-09-11 Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS614580A CS214254B1 (en) 1980-09-11 1980-09-11 Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS214254B1 true CS214254B1 (en) 1982-04-09

Family

ID=5407818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS614580A CS214254B1 (en) 1980-09-11 1980-09-11 Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS214254B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5049200A (en) Process for the hydrophilizing and/or cement-residue-removing surface treatment of silicon wafers
US5032203A (en) Apparatus for polishing
US4238244A (en) Method of removing deposits from surfaces with a gas agitated cleaning liquid
GB1528990A (en) Polishing semiconductor materials
JPS63211724A (en) Storable semiconductor washing solution, manufacture of the same and application of the same
CA1040987A (en) Process for stripping nickel from articles and composition utilized therein
US4737195A (en) Activator-accelerator mixtures for alkaline paint stripper compositions
US4305779A (en) Method of polishing nickel-base alloys and stainless steels
US2653861A (en) Etching aluminum using hexahydroxyheptanoic acid as a modifier
ATE86311T1 (en) DRY GRANULATE PREPARATION AND PROCESS FOR POLISHING FERROUS COMPONENTS.
GB1499490A (en) Polishing semi-conductor surfaces
US4243473A (en) Method for detecting crystal defects in semiconductor silicon and detecting solution therefor
CS214254B1 (en) Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls
US2705192A (en) Etching solutions and process for etching members therewith
USRE20994E (en) Method of treating raw phosphate
CZ280639B6 (en) Baths for chemical polishing of stainless steel surfaces
BR8707891A (en) LIQUID DISPERSION COMPOSITION FOR, AND PROCESS FOR, POLISHING FERROUS COMPONENTS
CS214252B1 (en) Method of lustrous etching of gallium arsenide crystalls
US4383857A (en) Attack polish for nickel-base alloys and stainless steels
US3997361A (en) Coin cleaner
JPS5521541A (en) Process for purifying waste phosphoric acid used in chemicial grinding
US3552993A (en) Process for rinsing chromium plated parts
CS212170B1 (en) Method of etching the galliumarsenide crystals for fixing the dislocation density
USH125H (en) Etch and polish for metal halides
SU1710605A1 (en) Method of revealing structural defects in single crystals of germanium