CS214254B1 - Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls - Google Patents
Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls Download PDFInfo
- Publication number
- CS214254B1 CS214254B1 CS614580A CS614580A CS214254B1 CS 214254 B1 CS214254 B1 CS 214254B1 CS 614580 A CS614580 A CS 614580A CS 614580 A CS614580 A CS 614580A CS 214254 B1 CS214254 B1 CS 214254B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- etching
- grains
- galliumarsenide
- parts
- crystal
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Weting (AREA)
Description
ČESKOSLOVENSKÁSOCIALISTICKÁREPUBLIKA< 1S )CZECHOSLOVAKIASOCIALISTREPUBLIC <1S)
POPIS VYNÁLEZU K AUTORSKÉMU OSVĚDČENÍ 214 254 (Π) (Bl)COPYRIGHT CERTIFICATE DESCRIPTION 214 254 (Π) (Bl)
(61) (23) Výstavní priorita(22) Přihlášeno n 09 80(21) PV 6145-80 (51) IntCl.5 H 01 L 21/302(61) (23) Exhibition priority (22) Registered n 09 80 (21) PV 6145-80 (51) IntCl.5 H 01 L 21/302
ÚŘAD PRO VYNÁLEZYOFFICE OFFICE
A OBJEVY (40) Zveřejněno 15 09 81(45) Vydáno 01 Q6 84 (75)& DISCOVERY (40) Published 15 09 81 (45) Published 01 Q6 84 (75)
Autor vynálezu hrubý arnošt ing. esc., Štěpánek bedřich ing. esc., praha (54) Způsob leptání pro stanovení krystalických zrn krystalů galliumarseniduAuthor of the invention Rough Arnošt ing. Esc., Štěpánek Bedřich ing. Esc., Prague (54) Etching method for determination of crystalline grains of galliumarsenide crystals
Vynález se týká způsobu leptáni krystalů galliumarsenidu pro stanovení krystalických zrn,-kdy krystaly byly předem opracovány broušením či lapovéním, a dále povrch leptán na lesk. íBACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a process for etching crystals of gallium-arsenide for the determination of crystalline grains, wherein the crystals have been pre-treated by grinding or lapping, and a surface etched to gloss. and
Leptání krystalů pro stanovení krystalických zrn umožňuje jednoduchou cestou Stanovit,zda vypěstovaný krystal galliumarsenidu je monokrystalem, či je složen z několika zrn.The etching of the crystals for the determination of crystalline grains makes it possible to determine in a simple way whether the cultivated gallium crystal is a single crystal or composed of several grains.
Existuje celá řada použitelných leptadel a leptacích postupů, avšak doposud používanéroztoky mají řadu nevýhod.There are a number of useful etchants and etching processes, but the solutions used so far have a number of disadvantages.
Použití roztoku Η,,02 + HF + HgO (R. K. Willardson, H. L. Goering: Preparation of III-VCompounds, vol. I. New Yourk, Reinhold Publ. Cer. (1962) je příliš náročné na čas. Leptáníprobíhá 45 minut. Dále se používá brom, který je jedovatý (L. Koszi,' D. L. Rode: J. Ělch.The use of Η ,, 02 + HF + HgO (RK Willardson, HL Goering: Preparation of III-VCompounds, vol. I. New Yourk, Reinhold Publ. Cer. (1962) is too time consuming. Etching takes 45 minutes. uses bromine, which is poisonous (L. Koszi, 'DL Rode: J. Olch.
Soc. 122 /1975/ 1696) nebo autoři J. G. Grahmaier, C. B. Watson: Phys. St. Solidi 32 /1969/ K 13) používají silně agresivních látek jako je roztavený hydroxid draselný. Použití jedova-tých a silně agresivních látek značně ztěžuje práci, nebot je nutné používat složitá bezpeč-nostní opatření, která jsou mnohdy i ňa úkor přesnosti výsledku.Soc. 122/1975/1696 or by J.G. Grahmaier, C. B. Watson: Phys. St. Solidi 32/1969 / K 13) use strongly aggressive substances such as molten potassium hydroxide. The use of poisonous and highly aggressive substances makes work very difficult, as it is necessary to use complex safety measures, which are often detrimental to the accuracy of the result.
Využívání výše uvedených leptadel je příliš časově náročné jednak pro vlastní leptacíproces a jednak pro zajištění všech potřebných bezpečnostních opatření, tuc(íž se popsaná lep-tadla a postupy jeví jako neekonomické.The use of the above-mentioned etchants is too time-consuming, both for the etching process itself and for ensuring all the necessary safety precautions (such as the described adhesives and processes appear uneconomical.
Tyto nevýhody odstraňuje způsob leptání pro stanovení krystalických zrn galliumarsenidu 214254These disadvantages are eliminated by the etching method for the determination of crystalline gallium grains 214254
LL
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS614580A CS214254B1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS614580A CS214254B1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS214254B1 true CS214254B1 (en) | 1982-04-09 |
Family
ID=5407818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS614580A CS214254B1 (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS214254B1 (en) |
-
1980
- 1980-09-11 CS CS614580A patent/CS214254B1/en unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5049200A (en) | Process for the hydrophilizing and/or cement-residue-removing surface treatment of silicon wafers | |
US5032203A (en) | Apparatus for polishing | |
US4238244A (en) | Method of removing deposits from surfaces with a gas agitated cleaning liquid | |
GB1528990A (en) | Polishing semiconductor materials | |
JPS63211724A (en) | Storable semiconductor washing solution, manufacture of the same and application of the same | |
CA1040987A (en) | Process for stripping nickel from articles and composition utilized therein | |
US4737195A (en) | Activator-accelerator mixtures for alkaline paint stripper compositions | |
US4305779A (en) | Method of polishing nickel-base alloys and stainless steels | |
US2653861A (en) | Etching aluminum using hexahydroxyheptanoic acid as a modifier | |
ATE86311T1 (en) | DRY GRANULATE PREPARATION AND PROCESS FOR POLISHING FERROUS COMPONENTS. | |
GB1499490A (en) | Polishing semi-conductor surfaces | |
US4243473A (en) | Method for detecting crystal defects in semiconductor silicon and detecting solution therefor | |
CS214254B1 (en) | Method of etching for determination of crystalline grains of gallium arsenide crystalls | |
US2705192A (en) | Etching solutions and process for etching members therewith | |
USRE20994E (en) | Method of treating raw phosphate | |
CZ280639B6 (en) | Baths for chemical polishing of stainless steel surfaces | |
BR8707891A (en) | LIQUID DISPERSION COMPOSITION FOR, AND PROCESS FOR, POLISHING FERROUS COMPONENTS | |
CS214252B1 (en) | Method of lustrous etching of gallium arsenide crystalls | |
US4383857A (en) | Attack polish for nickel-base alloys and stainless steels | |
US3997361A (en) | Coin cleaner | |
JPS5521541A (en) | Process for purifying waste phosphoric acid used in chemicial grinding | |
US3552993A (en) | Process for rinsing chromium plated parts | |
CS212170B1 (en) | Method of etching the galliumarsenide crystals for fixing the dislocation density | |
USH125H (en) | Etch and polish for metal halides | |
SU1710605A1 (en) | Method of revealing structural defects in single crystals of germanium |