CS211620B1 - Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích - Google Patents

Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích Download PDF

Info

Publication number
CS211620B1
CS211620B1 CS903679A CS903679A CS211620B1 CS 211620 B1 CS211620 B1 CS 211620B1 CS 903679 A CS903679 A CS 903679A CS 903679 A CS903679 A CS 903679A CS 211620 B1 CS211620 B1 CS 211620B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
weight
etching solution
hydrochloric acid
calcium chloride
printing
Prior art date
Application number
CS903679A
Other languages
English (en)
Inventor
Zdenek Jelinek
Zdenek Adamek
Bohumil Povolny
Original Assignee
Zdenek Jelinek
Zdenek Adamek
Bohumil Povolny
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Jelinek, Zdenek Adamek, Bohumil Povolny filed Critical Zdenek Jelinek
Priority to CS903679A priority Critical patent/CS211620B1/cs
Publication of CS211620B1 publication Critical patent/CS211620B1/cs

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

Vynález o názvu "Leptací roztok pro rozpuštění galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích, připravený na bázi kyseliny chlorovodíkové, chloridu vápenatého a Zinečnatého" se týká polygrafického průmyslu, Úěelem vynálezu je docílit zvýšení rozpouštění galvanického nánosu chrómu na tiskových vícekovových podložkách za normální pokojové teploty při snížených výrobních nákladech a při podstatné úspoře elektrické energie. Leptací roztok sestává z 2 - 10 % hmot. kyseliny chlorovodíkové, z 20 - 80 % hmot. chloridu vápenatého, z 20 - 90 % hmot. chloridu zinečnatého a z 0,05 - 5Ž hmot. urychlujícího katalyzátoru tvořeného sodnými nebo draselnými solemi kyseliny siřičité nebo zhiosírové nebo dithioničité nebo pyrosiřičité, případně obdobné deriváty, ve kterých je síra nahrazena selenem, v množství 0,05 až 5 % hmot. Vynález lze využít i při odstraňování slabých galvanických nánosů chrómu.

Description

Vynález se týká leptaciho roztoku na bázi kyseliny chlorovodíková, chloridu vápenatého a zinečnatého pro rozpouštění galvanicky naneseného ohromu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích.
V současné době se pro odstraňování galvanicky naneseného chrómu z vícekovových desek a hlubotiskových válců používá různých roztoků obsahujících kyselinu chlorovodíkovou jako chemicky účinnou látku v různé koncentraci spolu se zahuStujíeími-substituenty - chloridy, převážně chloridem vápenatým, zinečnatým nebo zcela výjimečně hořečnatým.
Reakční rychlost leptání ohromu při použití tohoto způsobu je za normální teploty (20 °C) nízká, což je nejen neekonomické, ale i z chemického hlediska nevýhodné, protože při delším působení leptaoiho roztoku na víoekovovou desku dochází k narušení ochranného filmu šablony získané fotoreprodukčním způsobem a tím i k rozpouštění chrómu na nežádoucích (netisknoucích) místech.
K zvýšení reakční rychlosti se v současné době leptají desky při teplotě nejméně 30 °C. Tato teplota je také potřebná proto, že většinou dnes používaný leptací roztok obsahuje kyselinu chlorovodíkovou ve smšsi s přesyceným roztokem chloridu vápenatého, který by při > teplotě 20 °C vykrystalizoval z roztoku a šablonu vlivem drsných krystalů poškozoval. Zahřívání leptaciho roztoku probíhá formou dodávání sálavého tepla a tím .dochází ke značné spotřebě elektrické energie. Vlastní leptací proces při této teplotě probíhá po dobu 8-12 minut. Agresivita roztoku vůči šabloně je ještě vyšší než při práci za normální teploty (20 °C). I tím dochází k poškození šablony, pronikání leptaciho roztoku a tak k současnému poškození tiskové formy.
Uvedené nedostatky odstraňuje leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky- naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích,· připravený na bázi kyseliny chlorovodíkové, chloridu vápenatého a zinečnatého podle vynálezu, jehož podstatu tvoři 2 - 10 % hmot. kyseliny chlorovodíkové (přepočítáno na 100 35 HC1), 20 až 80 % hmot. chloridu vápenatého, 20 - 90 % hmot. chloridu zinečnatého a 0,05 - 5 % hmot. katalyzátoru tvořeného sodnými nebo draselnými solemi kyseliny siřičité nebo thiosirové nebo dithioničité nebo pyrosiřičité, případně obdobnými deriváty, ve kterých je síra nahrazena selenem opět v množství 0,05 - 5 35 hmot. Práce s uvedeným leptacim roztokem probíhá za normální teploty v době 2-6 minut.
Přikladl
Použití pro připraví i ofsetové tiskové formy na vícekovové podložce.
600 ml voda
300 g chlorid vápenatý bezvodý
90 ml kyselina chlorovodíková 37 35 hmot.
10 ml vodný roztok (10 % hmot.) thiosíran sodný
Postup přípravy
Chlorid vápenatý se za horka rozpustí ve vodě, roztok se ochladí, přidá se kyselina chlorovodíková a nakonec roztok thiosíranu.
Příklad 2
Použití pro přípravu ofsetové tiskové formy na vícekovové podložce.
720 ml 200 ml 60 ml 80 % hmot. vodný roztok CaClg 90 35 hmot. vodný roztok ZnCl2 37 35 hmot. kys. chlorovodíková
20 ml voda
0,5 - 1 g dithioničitan sodný
Postup přípravy
Roztoky chloridu zinečnatého a vápenatého se smísí při 20 °C, přidá se kyselina chlorovodíková a nakonec dithioničitán rozpuštěný ve 20 ml vody.
Příklad 3
Použití pro přípravu ofsetové tiskové formy na vícekovové podložce.
500 ml 420 ml 60 ml 20 ml 0,5 - 1 g 80 % hmot. vodný roztok CaClg 90 % hmot. vodný roztok ZnClg 37 % hmot. kyselina chlorovodíková voda kyselina seleničitá
Postup přípravy
Chlorid vápenatý a zinečnatý se smísí při 20 °C, přidá se kyselina chlorovodíková
a nakonec roztok kyseliny seleničité ve 20 ml vody.
Přikládá
Použití pro odohromování hlubotiskových válců.
170 ml 37 % hmot. kyselina chlorovodíková
.150 ml voda
650 ml 60 % hmot. vodný roztok CaClg
30 ml voda
1 až 50 g pyrosiřičitan draselný
Postup přípravy
Pyrosiřičitan draselný se rozpustí v 30 ml vody, přidá do roztoku chloridu vápenatého a nakonec se přidá kyselina chlorovodíková.
Ofsetová tisková deska sestávající z nosné podložky, např. ocelové, galvanicky poměáované a pochromované, se ovrství svštlooitlivým roztokem. Po vysušení se na vrstvu přenese fotoreprodukčním způsobem z diapozitivu obraz. Po vyvolání zůstanou na podložce jen mista utvrzená aktivním svétlem. Místa neutvrzená se při vyvolání odplaví vývojkou a zůstane obnažený chrom. Vznikne negativ obrazu, vytvářející šablonu pro leptání. Leptací roztok pro vícekovové podložky na bázi kyseliny chlorovodíkové, chloridu vápenatého a zinečnatého pak rozpustí obnažený chrom až na spodní měá, která je hydrofobní a přijímá tiskovou barvu.
Tím se obdrží tisková forma pro ofsetový přenos obrazu např. na papír.
Využití leptaoího roztoku pro vícekovové podložky na bázi kyseliny chlorovodíkové, chlo ridu vápenatého a zinečnatého s katalyzátorem pro urychlené rozpouštění galvanicky naneseného ohromu podle vynálezu je určeno pro oblast polygrafie k výrobě ofsetových tiskových forem na vicekovových podložkách a pro odohromování hlubotiskových válců. Mimo oblast polygrafie lze předmět vynálezu využít při odohromovávání slabých galvanických nánosů chrómu.
Předmět vynálezu umožňuje podstatné zvýšeni rychlosti rozpouštěni galvanického nánosu chrómu za normální teploty (20 °C) a odstraňuje používání tepelných energetických zdrojů. Reakční rychlost leptání je vyšší než u dosud používaných roztoků. Zaručuje dokonalost a kvalitu ofsetových tiskových forem na vicekovových podložkách a snižuje náklady na výrobu. Úspora elektrické energie při výrobě 80 - 100 000 tiskových ofsetových forem činí zhruba 200 000 kW za rok. Nahrazuje dosud dovážené leptací roztoky z kapitalistických států v úhrnné hodnotě 300 000 devizových korun za rok.

Claims (1)

  1. Leptací roztok pro rozpouštění galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích na bázi kyseliny chlorovodíkové, chloridu vápenatého a zinečnatého, vyznačený tím, ie sestává z 2 až 10 % hmot. kyseliny chlorovodíkové, 20 až 80 % hmot. chloridu vápenatého, 20 až 90 % hmot. chloridu zinečnatého a 0,05 až 5 % hmot. katalyzátoru tvořeného sodnými nebo draselnými solemi kyseliny siřičité nebo thiosírové nebo dithioničité nebo 'pyrosiřičité, případně obdobnými deriváty, ve kterých je síra nahrazena selenem, v množství 0,05 až 5 % hmot.
CS903679A 1979-12-19 1979-12-19 Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích CS211620B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS903679A CS211620B1 (cs) 1979-12-19 1979-12-19 Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS903679A CS211620B1 (cs) 1979-12-19 1979-12-19 Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS211620B1 true CS211620B1 (cs) 1982-02-26

Family

ID=5441655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS903679A CS211620B1 (cs) 1979-12-19 1979-12-19 Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS211620B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1084758A (en) Process for the manufacture of planographic printing forms
US4153461A (en) Layer support for light-sensitive material adapted to be converted into a planographic printing plate
EP0009031B1 (en) Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate
US3247791A (en) Surface treated lithographic plates and production thereof
US3669660A (en) Lithographic plate developing composition and process of use thereof
GB718525A (en) Improvements in or relating to photographically presensitized metal plates
US4436807A (en) Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material
JPS647653B2 (cs)
US4061529A (en) Method for making etch-resistant stencil with dichromate-sensitized casein coating
CA1189376A (en) Developer for positive photolithographic articles including sodium silicate and sodium chloride
CS211620B1 (cs) Leptací roztok pro rozpouštěni galvanicky naneseného chrómu na ofsetových tiskových vícekovových deskách a na hlubotiskových válcích
JPH0414783B2 (cs)
GB1020648A (en) Lithographic plates
JPS5887292A (ja) クロム電気メツキ液
JPH0261073A (ja) 無電解錫めっき浴及び無電解錫めっき方法
US4366224A (en) Inorganic lithium developer composition
US3458372A (en) Powderless etching
JPS6339895B2 (cs)
US3562119A (en) Presensitized aluminum photolithographic etched plate and elements and method used in the preparation of same
US3350206A (en) Lithographic plates, gluconate solutions therefor and process for producing the same
US2624672A (en) Photosensitive printing plate having a light-sensitive coating consisting of a colloid, a phosphate, and a chromium compound
EP0002105B1 (en) Process for increasing the solubility rate ratio of a positive-working resist
US3475241A (en) Process of making aluminum printing plates
US2192482A (en) Lithographing process
EP0551300A1 (en) Printing plate protectant