CS204718B1 - Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt - Google Patents

Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt Download PDF

Info

Publication number
CS204718B1
CS204718B1 CS464379A CS464379A CS204718B1 CS 204718 B1 CS204718 B1 CS 204718B1 CS 464379 A CS464379 A CS 464379A CS 464379 A CS464379 A CS 464379A CS 204718 B1 CS204718 B1 CS 204718B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
nickel
iron
cobalt
bath
alloy
Prior art date
Application number
CS464379A
Other languages
English (en)
Slovak (sk)
Inventor
Vladimir Holpuch
Jaromir Vitek
Original Assignee
Vladimir Holpuch
Jaromir Vitek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vladimir Holpuch, Jaromir Vitek filed Critical Vladimir Holpuch
Priority to CS464379A priority Critical patent/CS204718B1/cs
Publication of CS204718B1 publication Critical patent/CS204718B1/cs

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Vynález se týká elektrolytické vodní lázně pro vylučování slitiny nikl—železo—kobalt, která sestává z organické kyseliny a solí niklu,' dvojmocného železa a kobaltu rozpuštěných ve vodě.
Elektrolyticky vyloučená slitina nikl—železo—kobalt má nulovou tepelnou roztažnost a dobré mechanické vlastnosti; jako např. tvrdost, houževnatost a nízký koeficient tření při vyšších teplotách. To je způsobeno dobrou přilnavostí kysličníkového filmu na povrchu, který vznikne při tepelném namáhání. Ternární slitina je vhodná pro účely galvanoplastiky při výrobě skořepin, pro snížení opotřebení při výrobě obráběcích nástrojů.
Vylučování ternární slitiny z jednoduchých solí bez přítomnosti komplexotvorných látek je velmi obtížné, protože dochází ke vzniku sraženiny trojmocného železa v elektrolytu a tím k podstatnému zvýšení vnitřního pnutí povlaku a jejich značné drsnosti.
V literatuře je popisována a uváděna řada látek, které mají zabránit vypadávání trojmocného železa z elektrolytu a odstranit uvedené nedostatky. Jsou uváděny organické hydroxikyselihy, např. kyselina citrónová a aminokyseliny.
Tyto látky vykazují značné nevýhody:
— během elektrolytického děje dochází k jejich rozkladu a rozkladné produkty nepříznivě ovlivňují vlastnosti slitinového povlaku, — při pracovní nečinnosti dochází k bakteriálnímu napadení elektrolytu a tím ke změně jeho složení, — části molekul těchto látek se při elektrovodovém ději zabudovávají do povlaku a zhoršují jeho vzhled, mechanickou a korozní odolnost.
Výše uvedené nevýhody odstraňuje elektrolytická vodní lázeň sestávající z 10 až 300 g solí niklu, železa a kobaltu; 0,01 až 5 g anionaktivního smáčedla a 1 až 50 g ústojných — pufračních látek rozpuštěných v 1000 ml vody, podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že obsahuje kyselinu sulfosalicylovou, případně její soli v množství 10 až 300 g na 1000 ml lázně, dále organické sloučeniny v množství 0,1 až 5 g na 1000 ml lázně, která obsahují síru v molekule v kombinaci s amino, amido, nebo imido skupinou a sloučeniny v množství 1 až 30 g na 1000 ml lázně, které obsahují v molekule halogenidy.
Kyselina suífosalicylová tvoří s niklem, kobaltem a trojmocným železem dobře rozpustné komplexy, které jsou stabilní v rozsahu pH 1 až 5. Při elektrodových dějích nedochází k destrukci sulfosalicylové kyseliny a k zabudování síry do povlaku.
Povlaky vyloučené z elektrolytu, který obsahuje sulfosalicylovou kyselinu mají nízké vnitřní pnutí a nízkou pórovitost. Pro odstranění vodíkového pittingu je možné použít smáčedla např. Neokalu, Syntaponu apod. Pro zlepšení rozpustnosti anod a odstranění jejich pasivace je vhodné použít sloučenin, které obsahují v molekule halogenidy. Zvlášť vhodné jsou sloučeniny, které obsahují brom a jod. Jako příklad je možné uvést chlorid, bromid a jodid sodný, draselný nebo halogenld niklu, železa a kobaltu. Je však možné i použít organických látek, např. mono, di a tri octovou kyselinu nebo jejich sole.
Pro zvýšení lesku je možné použít organických sloučenin, které obsahují síru v molekule v kombinaci s amino, amido nebo imido skupinou. Například sacharin, paratoluensulfamid, merkaptoimidasolin, atd. Pro udržení pH na žádaném rozmezí je vhodné použít slabé organické nebo anorganické kyseliny, např. kyselinu boritou, octovou, mravenčí.
Elektrolyty mohou pracovat v širokém rozsahu teplot (20 až 90 °C) aniž by došlo k rozkladu elektrolytu.
Podle obsahu niklu, železa a kobaltu je možné vyloučit povlaky s širokým rozmezím obsahu jednotlivých kovů.
Vynález je dále objasněn na čtyřech příkladech provedení, jimiž ovšem jeho rozsah není omezen ani vyčerpán.
Přikladl:
elektrolyt vhodný pro dekorativní pokovování:
200 g/1 síran nikelnatý 10 g/1 bromid draselný 15 g/1 sulfosalicylan sodný 20 g/1 síran želéznatý 24 g/1 síran kobaltnatý 2 g/1 sacharin
0,1 g/1 dilsopropyl naftalensulfonan sodný teplota eletkrolytu 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 5 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 68 % niklu, 23% železa, 9 % kobaltu.
Příklad 2:
g/1 Ni ve formě sulfosalicylanového komplexu g/1 Co ve formě sulfosalicylanového komplexu .
g/1 Fe' ve formě sulfosalicylanového komplexu g/1 jodid draselný 2 g/1 sacharin
0,2 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný
0,01 g/1 merkaptoimidasolin teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 8 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 40 % niklu, 20 % železa 40 % kobaltu.
Příklad 3:
200 g/1 síran nikelnatý g/1 monobromoctan sodný 15 g/1 sulfosalicylan sodný 10 g/1 boritá kyselina 90 g/1 síran železnatý 4,8 g/1 síran kobaltnatý g/1 sacharin
0,1 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 10 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 27 % nikl, 68 % železa, 5 % kobaltu
Příklad 4:
200 g/1 síran nikelnatý 10 g/1 tribromoctan sodný 15 g/1 sulfosalicylan hořečnatý 10 g/1 octan sodný
120 g/1 síran železnatý 48 g/1 síran kobaltnatý g/1 sacharin
0,5 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota: 1 až 10 A/dm2 Složení vyloučené slitiny: 15 % niklu, 75 % železa, 10 % kobaltu.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT
    Elektrolytická vodná lázeň pro vylučování slitiny nikl-železo-kobalt, která sestává z 10 až 300 g solí niklu, železa a kobaltu, 0,1 až 5 g aminoaktivního smáčedla a 1 až 50 g ústojných — pufračních látek rozpuštěných v 1000 ml vody, vyznačující se tím, že obsahuje kyselinu sulfosalicylovou, případně
    VYNÁLEZU její soli v množství 10 až 300 g na 1000 ml lázně, dále organické sloučeniny v množství 0,1 až 5 g na 1000 ml lázně, které obsahují síru v molekule a v kombinaci s amino, amido, nebo hnido skupinou a sloučeniny v množství 1 až 30 g na 1000 ml lázně, které obsahují v molekule halogenidy.
CS464379A 1979-07-03 1979-07-03 Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt CS204718B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS464379A CS204718B1 (en) 1979-07-03 1979-07-03 Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS464379A CS204718B1 (en) 1979-07-03 1979-07-03 Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS204718B1 true CS204718B1 (en) 1981-04-30

Family

ID=5389656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS464379A CS204718B1 (en) 1979-07-03 1979-07-03 Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS204718B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3954574A (en) Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom
JPS6056084A (ja) 亜鉛及び亜鉛合金電着浴及びその方法
US3966564A (en) Method of electrodepositing an alloy of tin, cobalt and a third metal and electrolyte therefor
US20110308959A1 (en) Process for the deposition of platinum-rhodium layers having improved whiteness
CN101498026B (zh) 镁合金阳极氧化处理的电解液及对镁合金表面处理的方法
US3576724A (en) Electrodeposition of rutenium
US4142948A (en) Chromium deposition solution
US2693444A (en) Electrodeposition of chromium and alloys thereof
US4605474A (en) Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings
JP5652585B2 (ja) 3価クロムめっき浴
US3729394A (en) Composition and method for electrodeposition of zinc
US2990343A (en) Chromium alloy plating
US4478692A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
CA1222720A (en) Zinc cobalt alloy plating
US3892638A (en) Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys
US4543167A (en) Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath
US3881919A (en) Ternary alloys
FI63445B (fi) Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar
JPS6141999B2 (cs)
JPS6141998B2 (cs)
US4465563A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
CS204718B1 (en) Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt
US4422908A (en) Zinc plating
US3772167A (en) Electrodeposition of metals
USRE29749E (en) Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom