CS204718B1 - Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt - Google Patents
Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt Download PDFInfo
- Publication number
- CS204718B1 CS204718B1 CS464379A CS464379A CS204718B1 CS 204718 B1 CS204718 B1 CS 204718B1 CS 464379 A CS464379 A CS 464379A CS 464379 A CS464379 A CS 464379A CS 204718 B1 CS204718 B1 CS 204718B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nickel
- iron
- cobalt
- bath
- alloy
- Prior art date
Links
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 3
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 claims description 2
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 5
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 5
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RUQIYMSRQQCKIK-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-di(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(C(C)C)C(C(C)C)=CC2=C1 RUQIYMSRQQCKIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 2
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 2
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M sodium;(2-carboxyphenyl) sulfate Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQGUNFXXOHNHIH-UHFFFAOYSA-L S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1.[Mg+2].S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1 Chemical compound S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1.[Mg+2].S(=O)(=O)(O)OC=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1 MQGUNFXXOHNHIH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 cobalt halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N hydrochloride;hydroiodide Chemical compound Cl.I AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 1
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- ULKADLGGTPAKSU-UHFFFAOYSA-M sodium;2,2,2-tribromoacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C(Br)(Br)Br ULKADLGGTPAKSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SESSOVUNEZQNBV-UHFFFAOYSA-M sodium;2-bromoacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CBr SESSOVUNEZQNBV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Vynález se týká elektrolytické vodní lázně pro vylučování slitiny nikl—železo—kobalt, která sestává z organické kyseliny a solí niklu,' dvojmocného železa a kobaltu rozpuštěných ve vodě.
Elektrolyticky vyloučená slitina nikl—železo—kobalt má nulovou tepelnou roztažnost a dobré mechanické vlastnosti; jako např. tvrdost, houževnatost a nízký koeficient tření při vyšších teplotách. To je způsobeno dobrou přilnavostí kysličníkového filmu na povrchu, který vznikne při tepelném namáhání. Ternární slitina je vhodná pro účely galvanoplastiky při výrobě skořepin, pro snížení opotřebení při výrobě obráběcích nástrojů.
Vylučování ternární slitiny z jednoduchých solí bez přítomnosti komplexotvorných látek je velmi obtížné, protože dochází ke vzniku sraženiny trojmocného železa v elektrolytu a tím k podstatnému zvýšení vnitřního pnutí povlaku a jejich značné drsnosti.
V literatuře je popisována a uváděna řada látek, které mají zabránit vypadávání trojmocného železa z elektrolytu a odstranit uvedené nedostatky. Jsou uváděny organické hydroxikyselihy, např. kyselina citrónová a aminokyseliny.
Tyto látky vykazují značné nevýhody:
— během elektrolytického děje dochází k jejich rozkladu a rozkladné produkty nepříznivě ovlivňují vlastnosti slitinového povlaku, — při pracovní nečinnosti dochází k bakteriálnímu napadení elektrolytu a tím ke změně jeho složení, — části molekul těchto látek se při elektrovodovém ději zabudovávají do povlaku a zhoršují jeho vzhled, mechanickou a korozní odolnost.
Výše uvedené nevýhody odstraňuje elektrolytická vodní lázeň sestávající z 10 až 300 g solí niklu, železa a kobaltu; 0,01 až 5 g anionaktivního smáčedla a 1 až 50 g ústojných — pufračních látek rozpuštěných v 1000 ml vody, podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že obsahuje kyselinu sulfosalicylovou, případně její soli v množství 10 až 300 g na 1000 ml lázně, dále organické sloučeniny v množství 0,1 až 5 g na 1000 ml lázně, která obsahují síru v molekule v kombinaci s amino, amido, nebo imido skupinou a sloučeniny v množství 1 až 30 g na 1000 ml lázně, které obsahují v molekule halogenidy.
Kyselina suífosalicylová tvoří s niklem, kobaltem a trojmocným železem dobře rozpustné komplexy, které jsou stabilní v rozsahu pH 1 až 5. Při elektrodových dějích nedochází k destrukci sulfosalicylové kyseliny a k zabudování síry do povlaku.
Povlaky vyloučené z elektrolytu, který obsahuje sulfosalicylovou kyselinu mají nízké vnitřní pnutí a nízkou pórovitost. Pro odstranění vodíkového pittingu je možné použít smáčedla např. Neokalu, Syntaponu apod. Pro zlepšení rozpustnosti anod a odstranění jejich pasivace je vhodné použít sloučenin, které obsahují v molekule halogenidy. Zvlášť vhodné jsou sloučeniny, které obsahují brom a jod. Jako příklad je možné uvést chlorid, bromid a jodid sodný, draselný nebo halogenld niklu, železa a kobaltu. Je však možné i použít organických látek, např. mono, di a tri octovou kyselinu nebo jejich sole.
Pro zvýšení lesku je možné použít organických sloučenin, které obsahují síru v molekule v kombinaci s amino, amido nebo imido skupinou. Například sacharin, paratoluensulfamid, merkaptoimidasolin, atd. Pro udržení pH na žádaném rozmezí je vhodné použít slabé organické nebo anorganické kyseliny, např. kyselinu boritou, octovou, mravenčí.
Elektrolyty mohou pracovat v širokém rozsahu teplot (20 až 90 °C) aniž by došlo k rozkladu elektrolytu.
Podle obsahu niklu, železa a kobaltu je možné vyloučit povlaky s širokým rozmezím obsahu jednotlivých kovů.
Vynález je dále objasněn na čtyřech příkladech provedení, jimiž ovšem jeho rozsah není omezen ani vyčerpán.
Přikladl:
elektrolyt vhodný pro dekorativní pokovování:
200 g/1 síran nikelnatý 10 g/1 bromid draselný 15 g/1 sulfosalicylan sodný 20 g/1 síran želéznatý 24 g/1 síran kobaltnatý 2 g/1 sacharin
0,1 g/1 dilsopropyl naftalensulfonan sodný teplota eletkrolytu 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 5 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 68 % niklu, 23% železa, 9 % kobaltu.
Příklad 2:
g/1 Ni ve formě sulfosalicylanového komplexu g/1 Co ve formě sulfosalicylanového komplexu .
g/1 Fe' ve formě sulfosalicylanového komplexu g/1 jodid draselný 2 g/1 sacharin
0,2 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný
0,01 g/1 merkaptoimidasolin teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 8 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 40 % niklu, 20 % železa 40 % kobaltu.
Příklad 3:
200 g/1 síran nikelnatý g/1 monobromoctan sodný 15 g/1 sulfosalicylan sodný 10 g/1 boritá kyselina 90 g/1 síran železnatý 4,8 g/1 síran kobaltnatý g/1 sacharin
0,1 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota 1 až 10 A/dm2 složení vyloučené slitiny: 27 % nikl, 68 % železa, 5 % kobaltu
Příklad 4:
200 g/1 síran nikelnatý 10 g/1 tribromoctan sodný 15 g/1 sulfosalicylan hořečnatý 10 g/1 octan sodný
120 g/1 síran železnatý 48 g/1 síran kobaltnatý g/1 sacharin
0,5 g/1 diisopropyl naftalensulfonan sodný teplota 20 až 90 °C katodová proudová hustota: 1 až 10 A/dm2 Složení vyloučené slitiny: 15 % niklu, 75 % železa, 10 % kobaltu.
Claims (1)
- PŘEDMĚTElektrolytická vodná lázeň pro vylučování slitiny nikl-železo-kobalt, která sestává z 10 až 300 g solí niklu, železa a kobaltu, 0,1 až 5 g aminoaktivního smáčedla a 1 až 50 g ústojných — pufračních látek rozpuštěných v 1000 ml vody, vyznačující se tím, že obsahuje kyselinu sulfosalicylovou, případněVYNÁLEZU její soli v množství 10 až 300 g na 1000 ml lázně, dále organické sloučeniny v množství 0,1 až 5 g na 1000 ml lázně, které obsahují síru v molekule a v kombinaci s amino, amido, nebo hnido skupinou a sloučeniny v množství 1 až 30 g na 1000 ml lázně, které obsahují v molekule halogenidy.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS464379A CS204718B1 (en) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS464379A CS204718B1 (en) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS204718B1 true CS204718B1 (en) | 1981-04-30 |
Family
ID=5389656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS464379A CS204718B1 (en) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS204718B1 (cs) |
-
1979
- 1979-07-03 CS CS464379A patent/CS204718B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3954574A (en) | Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom | |
| JPS6056084A (ja) | 亜鉛及び亜鉛合金電着浴及びその方法 | |
| US3966564A (en) | Method of electrodepositing an alloy of tin, cobalt and a third metal and electrolyte therefor | |
| US20110308959A1 (en) | Process for the deposition of platinum-rhodium layers having improved whiteness | |
| CN101498026B (zh) | 镁合金阳极氧化处理的电解液及对镁合金表面处理的方法 | |
| US3576724A (en) | Electrodeposition of rutenium | |
| US4142948A (en) | Chromium deposition solution | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| US4605474A (en) | Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings | |
| JP5652585B2 (ja) | 3価クロムめっき浴 | |
| US3729394A (en) | Composition and method for electrodeposition of zinc | |
| US2990343A (en) | Chromium alloy plating | |
| US4478692A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| CA1222720A (en) | Zinc cobalt alloy plating | |
| US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
| US4543167A (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| US3881919A (en) | Ternary alloys | |
| FI63445B (fi) | Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar | |
| JPS6141999B2 (cs) | ||
| JPS6141998B2 (cs) | ||
| US4465563A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| CS204718B1 (en) | Electrolytic aqueous bath for deposition of alloy of nickel-iron-cobalt | |
| US4422908A (en) | Zinc plating | |
| US3772167A (en) | Electrodeposition of metals | |
| USRE29749E (en) | Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom |