CS201958B1 - Způsob čištění aparatur od nánosů a usazenin - Google Patents

Abstract

Vynález se týká čištění aparatur od nánosů a usazenin organických látek. Na nánosy se působí zdrojem koherentního záření o středním výkonu 20 až 100 W za současného přívodu kyslíku a odsávání zplodin hoření

Description

(54) Způsob čištění aparatur od nánosů a usazenin

Vynález se týká čištění aparatur od nánosů a usazenin organických látek. Na nánosy se působí zdrojem koherentního záření o středním výkonu 20 až 100 W za současného přívodu kyslíku a odsávání zplodin hoření,

201 9í?8

Vynález se týká způsobu čištění strojního zařízení především v chemickém průmyslu od nánosů a usazenin.

V chemickém průmyslu, zejména ve výrobnách těžké organické chemie, polymerů, v rafinériích ropy, dochází často k tvorbě nánosů do různého stupně degradovaných organických látek ve strojním zařízení. Z hlediska konzistence se jedná o hmoty různého stupně tvrdosti a rozdílné homogenity. Tyto látky způsobují v zařízení zhoršení přestupu tepla, průchodu a chemické přeměny hmoty, což při kritickém znečištění může vést k haváriím zařízení a ohrožení lidských životů. V současné době neexistují univerzální efektivní způsoby čištění strojního zařízení s nánosy organických látek. Trubkové aparáty se bu3 demontují a přetrubkují nebo, dovolí-li to materiál, vypalují ostrou parou. Beztrubkové reaktory se bu2 mechanicky zbavují nánosů organických látek kladivem a sekáčem,nebo vysokotlakým vodním paprskem. Dosavadní způsoby čištění nejsou univerzální a efektivní z důvodu jejich různé účinnosti vůči rozdílné mechanické odolnosti a mohutnosti nánosů organických látek, značné délky čisticího procesu, zvýšené fyzické námahy a související zhoršené hygieny a bezpečnosti práce čističů, možnosti poškození zařízení, nutnosti demontáže zařízení po vyčištění a repasi, zvýšené potřeby práoe strojně zámečnických profesí. Stávající čističské postupy jsou proto velmi nákladné, snižují roční pracovní fond, a tedy i výrobirost zařízení a jsou značně náročné na potřebu pracovních sil.

Podstatou čištění aparatur od nánosů a usazenin je způsob čištění aparatur od nánosů a usazenin, při kterém se zdrojem koherentního záření o středním výkonu 20 až 100 W působí na nánosy usazenin za současného přívodu plynu s obsahem kyslíku a odsávání zplodin hoření.

Výhody způsobu čištění aparatur a jejich částí od nánosů podle vynálezu je odstranění fyzické námahy, vyloučení mechanického poškození aparatur, dobrý čisticí účinek -i v mechanicky nepřístupných místech zařízení. Způsob umožítuje automatizovat proces čištění.

Vynález objasní následující příklady.

Příklad 1

Na degradovaný polystyren ve zcela neprůchodné trubce JS 22 mm výměníku bylo působeno laserovým paprskem o výkonu 25 W, maximální vlnové délky 10,6 ^ura emitovaného COg laserem za současného přívodu vzduchu a jeho odsávání kapilárou o průměru 4 mm. Rychlost vytavování usazenin činila 4 cm/min.

2,

Příklad 2

Nános polystyrenu byl za stejných podmínek jako v pokuse 1 odstraňován rychlostí 5 cm/min.

Příklad 3

- Nános zesilovaného polymeru styrenu z patra rektifikační kolony byl odstraňován laserovým paprskem o výkonu 80 W, vlnové délky 10,6^um emitovaného COg laserem za současného přívodu kyslíku a odsávání zplodin hoření z trubky o JS 22 mm rychlostí 15 era/min.

Claims (1)

1. Předmět vynálezu

   Způsob čištění aparatur od nánosů a usazenin, vyznačený tím, že se zdrojem koherentního záření o středním výkonu 20 až 100 W působí na nánosy usazenin za současného přívodu plynu s obsahem kyslíku a odsávání zplodin hoření.