CS201940B1 - Method of creating the line figures on the light-sensitive materials - Google Patents

Method of creating the line figures on the light-sensitive materials Download PDF

Info

Publication number
CS201940B1
CS201940B1 CS150879A CS150879A CS201940B1 CS 201940 B1 CS201940 B1 CS 201940B1 CS 150879 A CS150879 A CS 150879A CS 150879 A CS150879 A CS 150879A CS 201940 B1 CS201940 B1 CS 201940B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
mirror
film
semipermeable
photosensitive layer
deposited
Prior art date
Application number
CS150879A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Jiri Holan
Original Assignee
Jiri Holan
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Holan filed Critical Jiri Holan
Priority to CS150879A priority Critical patent/CS201940B1/en
Publication of CS201940B1 publication Critical patent/CS201940B1/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu vytváření carových obrazců na světlocitlivých materiálech interferencí světelného vlnění.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing line patterns on light-sensitive materials by light wave interference.

V mnoha případech je třeba vytvořit na fotografickém materiálu, popřípadě jiném materiálu citlivém k záření, carové obrazce s určitou geometrií a předepsaným odstupňováním prostorových frekvencí. Tento problém se často vyskytuje při měření a hodnocení schopností fotografických materiálů, optických přístrojů apod. reprodukovat jemné struktury, zejména při měření rozlišovací schopnosti a funkce přenosů modulace.In many cases, it is necessary to create a line pattern with a certain geometry and prescribed spatial frequency scaling on the photographic material or other radiation-sensitive material. This problem often occurs when measuring and evaluating the ability of photographic materials, optical instruments, etc. to reproduce fine structures, especially when measuring the resolution and modulation transfer function.

K tomu se dobře osvědčila metoda, které využívá interferenci rovinné a kulové světelné vlny podle čs. autorského osvědčení č. 189.882. Jistou nevýhodou této metody však je nutnost realizovat rovinnou(světelnou vlnu. K tomu se používá uspořádaní, ve kterém se svazek koherentního optického záření soustředí do jednoho bodu a dalším, přesně nastaveným optickým členem se takto vzniklá kulová vlna změní na rovinnou.For this, a method that uses interference of plane and spherical light waves according to MS. Certificate No. 189.882. A certain disadvantage of this method, however, is the need to realize a plane (light wave). For this purpose, an arrangement is used in which the coherent optical radiation beam is concentrated at one point and the spherical wave thus formed becomes plane.

Tuto nevýhodu odstraňuje způsob vytváření čárových obrazců na světlocitlivých materiálech podle vynálezu. Jeho podstatou je vytváření čárových obrazců interferencí dvou kulových světelných vln na světlocitlivé vrstvě, která je vložena do interferenčního pole.This disadvantage is overcome by the method of forming line patterns on the photosensitive materials of the invention. Its essence is the creation of line patterns by interference of two spherical light waves on a light-sensitive layer, which is inserted into the interference field.

Světlocitlivá vrstva se s výhodou uloží na povrch rotačního hyperboloidu, jehož ohniska leží v průsečících světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.The light-sensitive layer is preferably deposited on the surface of a rotating hyperboloid, the focal points of which lie in the intersection of the light rays incident on the light-sensitive layer from the individual light waves.

Světlocitlivá vrstva může být také s výhodou uložena na povrch kolmého hyperbolického válce, kdy ohniska hyperbol leží na přímkách procházejících průsečíky světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.The light-sensitive layer can also advantageously be deposited on the surface of a perpendicular hyperbolic cylinder, wherein the foci of the hyperboles lie on lines passing through the intersections of the light rays striking the light-sensitive layer from the individual light waves.

Světlocitlivá vrstva také s výhodou tvoří tečnou rovinu k rotačnímu hyperboloidu nebo se uloží na povrchu kruhové válcové plochy aproximující povrch hyperbolického válce anebo tvoří tečnou rovinu k hyperbolickému válci.The light-sensitive layer also preferably forms a tangent plane to the rotary hyperboloid, or is deposited on the surface of a circular cylindrical surface approximating the surface of the hyperbolic cylinder, or forms a tangent plane to the hyperbolic cylinder.

Při způsobu podle vynálezu odpadá nutnost transformovat již vytvořenou kulovou vlnu na rovinnou.In the method according to the invention, there is no need to transform the already formed spherical wave into a plane wave.

Další předností je to, že v tomto případě existuje ve srovnání se starším způsobem další možnost, jak ovlivňovat konfiguraci obrazců. Rozložení extrémů interferenčního pole při dané vlnové délce záření je při interferenci rovinné a kulové vlny závislé na vzdálenosti citlivé vrstvy od zdroje kulové vlny, při interferenci dvou kulových vlň rovněž na vzájemné vzdálenosti obou zdrojů záření.Another advantage is that, in this case, there is another possibility to influence the configuration of the shapes compared to the old way. The distribution of the extremes of the interference field at a given wavelength of radiation is dependent on the distance of the sensitive layer from the spherical wave source in the case of plane and spherical wave interference, and when the two spherical waves interfere with each other.

Způsob využívající interferenci dvou kulových vln tedy zjednodušuje přístroj a současně rozšiřuje jeho možnosti.Thus, the two-wave interference method simplifies the apparatus while extending its capabilities.

Geometrie obrazce zaznamenaného na ozařovaný materiál závisí na způsobu, jakým je citlivá vrstva uložena do interferenčního pole.The geometry of the pattern recorded on the irradiated material depends on how the sensitive layer is deposited in the interference field.

Často je nutné, aby exponující záření dopadalo na povrch citlivé vrstvy kolmo. Toho lze dosáhnout tak, že citlivá vrstva má tvar rotačního hyperboloidu, jehož ohniska leží ve středech kulových vln.It is often necessary that the exposed radiation reach the surface of the sensitive layer perpendicularly. This can be achieved by having the sensitive layer in the form of a rotating hyperboloid whose foci lie in the centers of the spherical waves.

Při realizaci zařízení pro interferenci světelných vln je obvykle nutné, aby byl světelný svazek mezi zdroji záření a citlivou vrstvou odkloněn zrcadly apod. Způsob uložení citlivé vrstvy je určen chodem paprsků v blízkosti vrstvy a polohu středů vln určují průsečíky světelných paprsků dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých kulových světelných vln, nikoliv poloha reálných zdrojů kulových vln.When implementing a light-wave interference device, it is usually necessary for the light beam between the radiation sources and the sensitive layer to be deflected by mirrors, etc. The way the sensitive layer is deposited spherical light waves, not the position of real spherical wave sources.

Uvedený způsob uložení nelze použít pro citlivé vrstvy, nanesené na podložkách, které nemohou sledovat tvar nerozvinutelné plochy, tedy například pro převážnou většinu fotografických materiálů. V takovém případě lze dosáhnout příznivých výsledků tak, že vrstva je uložena na povrchu hyperbolického válce, jehož hyperboly mají ohniska na přímkách procházejících středy kulových vln, potom záření dopadá na citlivou 'vrstvu přesně kolmo na křivce a přibližně kolmo v pásu v jejím okolí.Said mounting method cannot be used for sensitive layers deposited on substrates which cannot follow the shape of the undevelopable area, i.e. for the vast majority of photographic materials. In such a case, favorable results can be obtained by placing the layer on the surface of a hyperbolic cylinder whose hyperboles have foci on lines passing through the centers of the spherical waves, then the radiation impinges on the sensitive layer exactly perpendicular to the curve and approximately perpendicular to the band around it.

Vyplývá z toho jisté omezení šířky použitelného záznamu, to však není pro rezolvometrické měření na závadu.This implies some limitations on the width of the usable record, but this is not a malfunction for the resolvometric measurement.

Obvykle postačí uložit citlivou vrstvu na povrchu kruhového válce, který uvedený hyperbolický válec aproximuje; kruhový válec lze vyrobit snadněji než hyperbolický.It is usually sufficient to deposit a sensitive layer on the surface of a circular cylinder which approximates said hyperbolic cylinder; a circular cylinder is easier to manufacture than hyperbolic.

Carové obrazce s nízkými prostorovými frekvencemi lze s dobrými výsledky zaznamenat i tehdy, je-li' citlivá vrstva uložena v rovině kolmé ke spojnici obou zdrojů záření.Car patterns with low spatial frequencies can be recorded with good results even when the sensitive layer is positioned in a plane perpendicular to the line of both radiation sources.

Citlivé vrstvy nanesené na neohebné položce, například fotografické desky nebo kovové anebo polovodičové materiály pokryté světlocitlivými laky-fotoresisty, je vhodné při exponování umístit tak, aby se vrstva dotýkala na povrchu myšleného rotačního hy-. perboloidu v místě, ležícím v oboru prostorových frekvencí, které jsou pro danou aplikaci nejdůležitější. Záznamy širokého oboru pros-Sensitive layers deposited on a rigid item, such as photographic plates or metallic or semiconductor materials coated with light-sensitive photoresist varnishes, should be positioned so that the layer touches the surface of the intended rotational surface when exposed. perboloid at a location in the field of spatial frequencies that are most relevant to the application. Records of a wide range of pros-

Claims (6)

PŘEDMÉTSUBJECT 1. Způsob vytváření čárových obrazců na světlocitlivých materiálech, vyznačený tím, že obrazce se vytváří interferencí dvou kulových světelných vln na světiocitlivé vrstvě vložené do interferenčního pole.A method for producing line patterns on photosensitive materials, characterized in that the patterns are formed by the interference of two spherical light waves on a photosensitive layer embedded in an interference field. 2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že světlocitlivá vrstva se uloží na povrch rotačního hyperboloidu, jehož ohniska leží v průsečících světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.2. Method according to claim 1, characterized in that the photosensitive layer is deposited on the surface of a rotating hyperboloid, the foci of which lie in the intersection of the light rays striking the photosensitive layer from the individual light waves. 3. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že světlocitlivá vrstva se uloží na povrch kolmého hyperbolického válce, kdy ohniska torových frekvencí se potom vytvářejí postupným exponováním potřebného počtu vzorků v různých polohách.3. The method of claim 1, wherein the photosensitive layer is deposited on the surface of a perpendicular hyperbolic cylinder, wherein foci of torque frequencies are then formed by successively exposing the necessary number of samples at different positions. Jeden příklad způsobu vytváření čárových obrazců podle vynálezu je uveden na obr. 1.One example of a method of creating line patterns according to the invention is shown in Fig. 1. Světelné paprsky vystupující z laseru 1 se rozdělí polopropustným prvním zrcadlem 2 nia dva svazky. Jeden ze svazku projde polopropustným prvním zrcadlem 2 ia soustředí se první čočkou 6 do prvého bodu 8. Druhý svazek se odráží na polopropustném prvním zrcadle 2 a dále po odraze na druhém zrcadle 3 je soustředěn druhou čočkou 7 do druhého bodu 9. V bodech 8 a 9 leží skutečné zdroje kulových světelných vln. Vlna, vycházející z druhého bodu 9, dopadá na ozařovanou citlivou vrstvu uloženou na ploše 10 po- průchodu .polopropustným třetím zrcadlem 5; druhá vlna dopadá na citlivou vrstvu po odrazu na čtvrtém zrcadle 4 a polopropustném zrcadle 5. Ohniska plochy 10 leží v tomto případě v reálném zdroji záření, tvořeném druhým bodem 9 a virtuálním zdroji 11.The light rays emerging from the laser 1 are separated by a semipermeable first mirror 2 and two beams. One of the beams passes through the semipermeable first mirror 2 and concentrates with the first lens 6 at the first point 8. The second beam is reflected on the semipermeable first mirror 2, and after reflection on the second mirror 3 is centered by the second lens 7 at the second point 9. 9, the actual sources of spherical light waves lie. The wave coming from the second point 9 impinges on the irradiated sensitive layer deposited on the surface 10 of the passage through the semipermeable third mirror 5; the second wave impinges on the sensitive layer after reflection on the fourth mirror 4 and the semipermeable mirror 5. In this case, the foci of the surface 10 lie in the real radiation source formed by the second point 9 and the virtual source 11. Způsob uložení citlivé vrstvy podle vynálezu lze realizovat například tak, že se do interferenčního pole, vznikajícího v prostoru za polopropustným třetím zrcadlem 5 uloží citlivý materiál — fotografický film — v tělese fotografického přístroje se štěrbinovou závěrkou s vyjmutým objektivem. Filmová dráha bez úprav umožňuje exponovat film uložený na rovině, další mechanismy přístroje jsou využity k posuvu a odměřování filmu. Pro exponování filmu, uloženého na povrchu .kruhového nebo hyperbolického válce, se filmová dráha doplní vložkou pro vedení filmu po příslušné ploše. Film při tom prochází mezi dvěma válcovými plochami, přičemž přední z nich, 'tj. plocha obrácená proti interferujícím svazkům, je opatřena výřezem pro průchod záření.The method of depositing the sensitive layer according to the invention can be realized, for example, by depositing a sensitive material - a photographic film - in the body of the camera with a slit lens with the lens removed in the interference field generated in the space behind the semipermeable third mirror 5. The film path without modification allows to expose the film stored on the plane, other mechanisms of the device are used to feed and measure the film. To expose the film deposited on the surface of the circular or hyperbolic cylinder, the film path is completed with a film guide insert over the appropriate area. The film extends between two cylindrical surfaces, the front one, i.e. the surface facing the interfering beams is provided with a cut-out for the passage of radiation. Nerozvinutelný hyperboloid je použitelný zejména tehdy, je-li možné zkoušenou vrstvu nanést v kapalném stavu na povrch tělesa uvedeného tvaru. Těleso s citlivouvrstvou se po usušení vrstvy uloží do zařízení pro expozici a zaznamenají se interferenční obrazce.The undevelopable hyperboloid is particularly useful when it is possible to apply the test layer in a liquid state on the surface of a body of said shape. After the layer has dried, the sensitive layer body is stored in an exposure device and the interference patterns are recorded. VYNÁLEZU hyperbol leží na přímkách procházejících průsečíky světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.BACKGROUND OF THE INVENTION The hyperbole lies on lines passing through the intersection of light rays, impinging on the light-sensitive layer of individual light waves. 4. Způsob podle bodů . 1 a 2, vyznačený tím, že světlocitlivá vrstva tvoří tečnou rovinu k rotačnímu hyperboloidu.4. Method according to points. 1 and 2, characterized in that the photosensitive layer forms a tangent plane to the rotational hyperboloid. 5. Způsob podle bodů 1 a 3, vyznačený tím, že světlocitlivá vrstva se uloží na povrchu kruhové válcové plochy aproximující povrch hyperbolického válce.5. A method according to claim 1, wherein the photosensitive layer is deposited on the surface of a circular cylindrical surface approximating the surface of the hyperbolic cylinder. 6. Způsob podle bodů 1 a 3, vyznačený fím, že světlocitlivá vrstva tvoří tečnou rovinu k hyperbolickému válci.6. The method of claims 1 and 3, wherein the photosensitive layer forms a tangent plane to the hyperbolic cylinder.
CS150879A 1979-03-06 1979-03-06 Method of creating the line figures on the light-sensitive materials CS201940B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS150879A CS201940B1 (en) 1979-03-06 1979-03-06 Method of creating the line figures on the light-sensitive materials

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS150879A CS201940B1 (en) 1979-03-06 1979-03-06 Method of creating the line figures on the light-sensitive materials

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS201940B1 true CS201940B1 (en) 1980-12-31

Family

ID=5349658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS150879A CS201940B1 (en) 1979-03-06 1979-03-06 Method of creating the line figures on the light-sensitive materials

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS201940B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0092395B1 (en) Method of forming diffraction gratings
JP3399949B2 (en) Latent image detection by alignment device
US5583609A (en) Projection exposure apparatus
US4311389A (en) Method for the optical alignment of designs in two near planes and alignment apparatus for performing this method
JPH0643393A (en) Method and device for forming image
JPS6137633B2 (en)
US4469407A (en) Laser apodizing filter
US4212536A (en) Holographic subtraction with phase modulation to distinguish phase and amplitude differences
US3712813A (en) Production of semiconductor modules by a photo-resist technique with holographic projection of etching patterns
JPH034292A (en) Method and device for manufacturing reflective hologram
US6091486A (en) Blazed grating measurements of lithographic lens aberrations
EP0097257B1 (en) A method and apparatus for producing a light source of required shape
EP0152433B1 (en) Method of producing a filtered beam of light
EP0469026B1 (en) Manufacture of flat panel displays
US4395124A (en) Apparatus for position encoding
US3795446A (en) Lithography
CS201940B1 (en) Method of creating the line figures on the light-sensitive materials
US8184264B2 (en) Calibration methods and devices useful in semiconductor photolithography
US3601017A (en) Method of suppressing interference fringes in photosensitive material
KR19990067888A (en) Total internal reflection(tir) holographic apparatus and methods and optical assemblies therein
KR100258265B1 (en) Manufacture of alignment marks for holographic lithography
JPH0575246B2 (en)
KR100212905B1 (en) High picture quality image mask due to tir hologram
US3689267A (en) Screen making process utilizing rotation of optical plate
JPS6340316A (en) Device for manufacturing semiconductor