CS201940B1 - Method of creating the line figures on the light-sensitive materials - Google Patents
Method of creating the line figures on the light-sensitive materials Download PDFInfo
- Publication number
- CS201940B1 CS201940B1 CS150879A CS150879A CS201940B1 CS 201940 B1 CS201940 B1 CS 201940B1 CS 150879 A CS150879 A CS 150879A CS 150879 A CS150879 A CS 150879A CS 201940 B1 CS201940 B1 CS 201940B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- mirror
- film
- semipermeable
- photosensitive layer
- deposited
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Vynález se týká způsobu vytváření carových obrazců na světlocitlivých materiálech interferencí světelného vlnění.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing line patterns on light-sensitive materials by light wave interference.
V mnoha případech je třeba vytvořit na fotografickém materiálu, popřípadě jiném materiálu citlivém k záření, carové obrazce s určitou geometrií a předepsaným odstupňováním prostorových frekvencí. Tento problém se často vyskytuje při měření a hodnocení schopností fotografických materiálů, optických přístrojů apod. reprodukovat jemné struktury, zejména při měření rozlišovací schopnosti a funkce přenosů modulace.In many cases, it is necessary to create a line pattern with a certain geometry and prescribed spatial frequency scaling on the photographic material or other radiation-sensitive material. This problem often occurs when measuring and evaluating the ability of photographic materials, optical instruments, etc. to reproduce fine structures, especially when measuring the resolution and modulation transfer function.
K tomu se dobře osvědčila metoda, které využívá interferenci rovinné a kulové světelné vlny podle čs. autorského osvědčení č. 189.882. Jistou nevýhodou této metody však je nutnost realizovat rovinnou(světelnou vlnu. K tomu se používá uspořádaní, ve kterém se svazek koherentního optického záření soustředí do jednoho bodu a dalším, přesně nastaveným optickým členem se takto vzniklá kulová vlna změní na rovinnou.For this, a method that uses interference of plane and spherical light waves according to MS. Certificate No. 189.882. A certain disadvantage of this method, however, is the need to realize a plane (light wave). For this purpose, an arrangement is used in which the coherent optical radiation beam is concentrated at one point and the spherical wave thus formed becomes plane.
Tuto nevýhodu odstraňuje způsob vytváření čárových obrazců na světlocitlivých materiálech podle vynálezu. Jeho podstatou je vytváření čárových obrazců interferencí dvou kulových světelných vln na světlocitlivé vrstvě, která je vložena do interferenčního pole.This disadvantage is overcome by the method of forming line patterns on the photosensitive materials of the invention. Its essence is the creation of line patterns by interference of two spherical light waves on a light-sensitive layer, which is inserted into the interference field.
Světlocitlivá vrstva se s výhodou uloží na povrch rotačního hyperboloidu, jehož ohniska leží v průsečících světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.The light-sensitive layer is preferably deposited on the surface of a rotating hyperboloid, the focal points of which lie in the intersection of the light rays incident on the light-sensitive layer from the individual light waves.
Světlocitlivá vrstva může být také s výhodou uložena na povrch kolmého hyperbolického válce, kdy ohniska hyperbol leží na přímkách procházejících průsečíky světelných paprsků, dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých světelných vln.The light-sensitive layer can also advantageously be deposited on the surface of a perpendicular hyperbolic cylinder, wherein the foci of the hyperboles lie on lines passing through the intersections of the light rays striking the light-sensitive layer from the individual light waves.
Světlocitlivá vrstva také s výhodou tvoří tečnou rovinu k rotačnímu hyperboloidu nebo se uloží na povrchu kruhové válcové plochy aproximující povrch hyperbolického válce anebo tvoří tečnou rovinu k hyperbolickému válci.The light-sensitive layer also preferably forms a tangent plane to the rotary hyperboloid, or is deposited on the surface of a circular cylindrical surface approximating the surface of the hyperbolic cylinder, or forms a tangent plane to the hyperbolic cylinder.
Při způsobu podle vynálezu odpadá nutnost transformovat již vytvořenou kulovou vlnu na rovinnou.In the method according to the invention, there is no need to transform the already formed spherical wave into a plane wave.
Další předností je to, že v tomto případě existuje ve srovnání se starším způsobem další možnost, jak ovlivňovat konfiguraci obrazců. Rozložení extrémů interferenčního pole při dané vlnové délce záření je při interferenci rovinné a kulové vlny závislé na vzdálenosti citlivé vrstvy od zdroje kulové vlny, při interferenci dvou kulových vlň rovněž na vzájemné vzdálenosti obou zdrojů záření.Another advantage is that, in this case, there is another possibility to influence the configuration of the shapes compared to the old way. The distribution of the extremes of the interference field at a given wavelength of radiation is dependent on the distance of the sensitive layer from the spherical wave source in the case of plane and spherical wave interference, and when the two spherical waves interfere with each other.
Způsob využívající interferenci dvou kulových vln tedy zjednodušuje přístroj a současně rozšiřuje jeho možnosti.Thus, the two-wave interference method simplifies the apparatus while extending its capabilities.
Geometrie obrazce zaznamenaného na ozařovaný materiál závisí na způsobu, jakým je citlivá vrstva uložena do interferenčního pole.The geometry of the pattern recorded on the irradiated material depends on how the sensitive layer is deposited in the interference field.
Často je nutné, aby exponující záření dopadalo na povrch citlivé vrstvy kolmo. Toho lze dosáhnout tak, že citlivá vrstva má tvar rotačního hyperboloidu, jehož ohniska leží ve středech kulových vln.It is often necessary that the exposed radiation reach the surface of the sensitive layer perpendicularly. This can be achieved by having the sensitive layer in the form of a rotating hyperboloid whose foci lie in the centers of the spherical waves.
Při realizaci zařízení pro interferenci světelných vln je obvykle nutné, aby byl světelný svazek mezi zdroji záření a citlivou vrstvou odkloněn zrcadly apod. Způsob uložení citlivé vrstvy je určen chodem paprsků v blízkosti vrstvy a polohu středů vln určují průsečíky světelných paprsků dopadajících na světlocitlivou vrstvu z jednotlivých kulových světelných vln, nikoliv poloha reálných zdrojů kulových vln.When implementing a light-wave interference device, it is usually necessary for the light beam between the radiation sources and the sensitive layer to be deflected by mirrors, etc. The way the sensitive layer is deposited spherical light waves, not the position of real spherical wave sources.
Uvedený způsob uložení nelze použít pro citlivé vrstvy, nanesené na podložkách, které nemohou sledovat tvar nerozvinutelné plochy, tedy například pro převážnou většinu fotografických materiálů. V takovém případě lze dosáhnout příznivých výsledků tak, že vrstva je uložena na povrchu hyperbolického válce, jehož hyperboly mají ohniska na přímkách procházejících středy kulových vln, potom záření dopadá na citlivou 'vrstvu přesně kolmo na křivce a přibližně kolmo v pásu v jejím okolí.Said mounting method cannot be used for sensitive layers deposited on substrates which cannot follow the shape of the undevelopable area, i.e. for the vast majority of photographic materials. In such a case, favorable results can be obtained by placing the layer on the surface of a hyperbolic cylinder whose hyperboles have foci on lines passing through the centers of the spherical waves, then the radiation impinges on the sensitive layer exactly perpendicular to the curve and approximately perpendicular to the band around it.
Vyplývá z toho jisté omezení šířky použitelného záznamu, to však není pro rezolvometrické měření na závadu.This implies some limitations on the width of the usable record, but this is not a malfunction for the resolvometric measurement.
Obvykle postačí uložit citlivou vrstvu na povrchu kruhového válce, který uvedený hyperbolický válec aproximuje; kruhový válec lze vyrobit snadněji než hyperbolický.It is usually sufficient to deposit a sensitive layer on the surface of a circular cylinder which approximates said hyperbolic cylinder; a circular cylinder is easier to manufacture than hyperbolic.
Carové obrazce s nízkými prostorovými frekvencemi lze s dobrými výsledky zaznamenat i tehdy, je-li' citlivá vrstva uložena v rovině kolmé ke spojnici obou zdrojů záření.Car patterns with low spatial frequencies can be recorded with good results even when the sensitive layer is positioned in a plane perpendicular to the line of both radiation sources.
Citlivé vrstvy nanesené na neohebné položce, například fotografické desky nebo kovové anebo polovodičové materiály pokryté světlocitlivými laky-fotoresisty, je vhodné při exponování umístit tak, aby se vrstva dotýkala na povrchu myšleného rotačního hy-. perboloidu v místě, ležícím v oboru prostorových frekvencí, které jsou pro danou aplikaci nejdůležitější. Záznamy širokého oboru pros-Sensitive layers deposited on a rigid item, such as photographic plates or metallic or semiconductor materials coated with light-sensitive photoresist varnishes, should be positioned so that the layer touches the surface of the intended rotational surface when exposed. perboloid at a location in the field of spatial frequencies that are most relevant to the application. Records of a wide range of pros-
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS150879A CS201940B1 (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Method of creating the line figures on the light-sensitive materials |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS150879A CS201940B1 (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Method of creating the line figures on the light-sensitive materials |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS201940B1 true CS201940B1 (en) | 1980-12-31 |
Family
ID=5349658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS150879A CS201940B1 (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Method of creating the line figures on the light-sensitive materials |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS201940B1 (en) |
-
1979
- 1979-03-06 CS CS150879A patent/CS201940B1/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0092395B1 (en) | Method of forming diffraction gratings | |
| JP3399949B2 (en) | Latent image detection by alignment device | |
| US5583609A (en) | Projection exposure apparatus | |
| US4311389A (en) | Method for the optical alignment of designs in two near planes and alignment apparatus for performing this method | |
| JPH0643393A (en) | Method and device for forming image | |
| JPS6137633B2 (en) | ||
| US4469407A (en) | Laser apodizing filter | |
| US4212536A (en) | Holographic subtraction with phase modulation to distinguish phase and amplitude differences | |
| US3712813A (en) | Production of semiconductor modules by a photo-resist technique with holographic projection of etching patterns | |
| JPH034292A (en) | Method and device for manufacturing reflective hologram | |
| US6091486A (en) | Blazed grating measurements of lithographic lens aberrations | |
| EP0097257B1 (en) | A method and apparatus for producing a light source of required shape | |
| EP0152433B1 (en) | Method of producing a filtered beam of light | |
| EP0469026B1 (en) | Manufacture of flat panel displays | |
| US4395124A (en) | Apparatus for position encoding | |
| US3795446A (en) | Lithography | |
| CS201940B1 (en) | Method of creating the line figures on the light-sensitive materials | |
| US8184264B2 (en) | Calibration methods and devices useful in semiconductor photolithography | |
| US3601017A (en) | Method of suppressing interference fringes in photosensitive material | |
| KR19990067888A (en) | Total internal reflection(tir) holographic apparatus and methods and optical assemblies therein | |
| KR100258265B1 (en) | Manufacture of alignment marks for holographic lithography | |
| JPH0575246B2 (en) | ||
| KR100212905B1 (en) | High picture quality image mask due to tir hologram | |
| US3689267A (en) | Screen making process utilizing rotation of optical plate | |
| JPS6340316A (en) | Device for manufacturing semiconductor |