CS200753B1 - Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin - Google Patents
Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin Download PDFInfo
- Publication number
- CS200753B1 CS200753B1 CS400078A CS400078A CS200753B1 CS 200753 B1 CS200753 B1 CS 200753B1 CS 400078 A CS400078 A CS 400078A CS 400078 A CS400078 A CS 400078A CS 200753 B1 CS200753 B1 CS 200753B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- alloys
- copper
- etching agent
- etching
- solution
- Prior art date
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 title description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-pyrimidin-4-ylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC1=CC=NC=N1 JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004160 Ammonium persulphate Substances 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000026935 allergic disease Diseases 0.000 description 1
- 230000007815 allergy Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019395 ammonium persulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/18—Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
Vynález se týká leptadla pro vyvolávání mikrostruktury mědi a jejích slitin za účelem jejího vyhodnocení.
K vyvolávání mikrostruktury mědi a jejích slitin se za účelem hodnocení používá všeobecně leptadel o složení: roztok 10 g persíranu amonného ve 100 ccm vody /vždy je třeba připravit Čerstvý roztok/ nebo roztok 10 g kyseliny chromové ve 100 ccm vody nebo roztok 10 ccm kyseliny dusičné, 6o ccm kyseliny octové a 30 ccm kyseliny fosforečné, přičemž teplota leptání je 60 °C, doba leptání 15 až 30 a., nebo roztok 1 g chloridu měánato-amonného ve 12 ccm vody s přidáváním amoniaku tak dlouho, až se sraženina rozpustí a roztok nabude temně modré barvy, nebo roztok 4 g chloridu železitého, 30 ccm kyseliny chlorovodíkové ve 1 000 ccm vody, nebo roztok 10 g dvojchromanu sodného, 5 ccm kyseliny sírové v 80 ccm vody.
Uvedená laptadla mají nevýhody, jako je příprava vždy Čerstvého roztoku, zdlouhavá příprava roztoků a jejich nestálost, vhodnost jen pro určité slitiny, např. u leptadla chlorid železitý nebo nedokonalé rozlišení jednotlivých součástí c< a β struktury, např. mosazi, kde obě strukturní součásti mají téměř stejnou barvu, např. u leptadla s dvojchromanem sodným, kde ještě leptadla na bázi chrómu zanechávají na pokožce nepříjemné zabarvení a při dlouhodobém používání i alergii, a některá leptadla jsou vhodná pro plošná a jiná pro reliéfní leptáni.
200 753
200 753
Tyto nevýhody dosud známých leptadel odstraňuje leptadlo podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že je tvořeno vaodným roztokem obsahujícím 2 až 20 g kyseliny eulfosalycilové, 0,5 až 10 g chllrldu měňnato-amonného a 0,1 až 3 β chloridu sodného ve 100 cca vody.
Výhodou leptadla je jednoduchá a nenáročná příprava a způsob práce a leptadlem. Vzorek materiálu určený ke kontrole na mlkroatrukturu se po vyleátění ponoří do připraveného roztoku na dobu 1 až 3 s. Po opláchnutí je vzorek připraven k metalografickému vyhodnocení na strukturu. Roztok je stabilní a nerozkládá ae ani po době jednoročního uložení.
Optimální leptadlo je tvořeno vodným roztokem 10 g kyseliny sulfoaalycilové, 5 g chloridu měSnato-amonného a 1 g chloridu sodného ve 100 cca vody.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZULeptadlo pro vyvoláváni mikroatruktury médi a jejích slitin, vyznačující ae tím, že sestává z vodného roztoku 2 až 20 g kyseliny sulfoaalycilové, 0,5 až 10 g chloridu méSnatoamonného a 0,1 až 3 B chloridu sodného ve 100 ccm destilované vody.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS400078A CS200753B1 (cs) | 1978-06-19 | 1978-06-19 | Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS400078A CS200753B1 (cs) | 1978-06-19 | 1978-06-19 | Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS200753B1 true CS200753B1 (cs) | 1980-09-15 |
Family
ID=5381713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS400078A CS200753B1 (cs) | 1978-06-19 | 1978-06-19 | Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS200753B1 (cs) |
-
1978
- 1978-06-19 CS CS400078A patent/CS200753B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB912956A (en) | Improvements in and relating to chemical nickel plating of magnesium and its alloys | |
| Pryor et al. | The mechanism of the inhibition of the corrosion of iron by solutions of sodium orthophosphate | |
| Matsuura et al. | Standard potentials of alkali metals, silver, and thallium metal/ion couples in N, N′-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and propylene carbonate | |
| JPS5633646A (en) | Processing method for color photographic material | |
| CS200753B1 (cs) | Xeptadio pro vyvolávání mikrostruktury médi a jejích slitin | |
| TR199700291A2 (xx) | Nikel Kaplama ve nikel ��karma a�amalar�n� i�eren tipteki bir s�rekli metal d�k�m� kal�b�n�n bir elementinin bak�r veya bak�r ala��m� olan d�� y�zeyinin i�lenme prosesi. | |
| US3992197A (en) | Silver crystals and production thereof | |
| GB1069324A (en) | Process for the production of offset printing plates | |
| GB1316030A (en) | Etchant for chemical dissolution of copper | |
| GB1383383A (en) | Aluminium etchant | |
| GB1507593A (en) | Titanium and titanium alloy surface preparation method for subsequent bonding | |
| ES483947A1 (es) | Perfeccionamientos introducidos en los banos de consolida- cion posterior de superficies de aluminio anodicamente oxi- dadas | |
| Atkinson et al. | A Polarographic Examination of Diazotized Amines. II. Additional Coulometric Data | |
| SU398702A1 (ru) | Раствор для стравливания гальванических покрытий сплавами олово—свинец | |
| US2521082A (en) | Electrolytic production of silver chloride | |
| SU427101A1 (ru) | Раствор для травления магниевых сплавов | |
| JPS5456939A (en) | Method of descaling stainless steel pipe | |
| Chin | Anodic films in ECM electrolytes: onset of passivation of mild steel in nitrate solution | |
| Greene et al. | Development of brass etchants by electrochemical techniques | |
| SU831885A1 (ru) | Раствор дл электрохимическогопОлиРОВАНи СплАВОВ | |
| SU643792A1 (ru) | Инверсионно-вольтамперометрический способ определени арсенат-ионов в водных растворах | |
| Hedges | CXXVII.—Observations on the passivity of metals | |
| GOTO et al. | X-ray fluorescence anlaysis of iron, cobalt, nickel, and copper in Alnico alloys by aqueous solution method(X ray fluorescence analysis of iron, cobalt, nickel, and copper in Alnico alloys by aqueous solution method) | |
| US3413200A (en) | A.c. etching of plutonium | |
| SU521361A1 (ru) | Водный электролит дл анодировани металлической поверхности |