CS199188B1

CS199188B1 - Pressure regulator

Info

Publication number: CS199188B1
Application number: CS674578A
Authority: CS
Inventors: Milan Vadura; Jan Rovensky
Original assignee: Milan Vadura; Jan Rovensky
Priority date: 1978-10-17
Filing date: 1978-10-17
Publication date: 1980-07-31

Description

Vynález se týká regulátoru tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů zařízení pro ehemlckotepelné zpracování látek, jejíchž vstup je napojen na zdroj.inertního plynného prostředí.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a pressure regulator for a system for the continuous supply of an inert gaseous medium to the premises of an apparatus for the heat-treatment of substances, the input of which is connected to a source of inert gaseous medium.

Při chemiekoťepelnéfli zpracování látek, zejména kovů, je nutné do prostorů zařízení pro ehemlckotepelné zpracování látek, al už do pracovních prostorů, nebo do bezpečnostních prostorů, zajistit nepřetržitou dodávku inertního plynného prostředí, představovaného například dusíkem, ve kterém se uvažovaný chemlckotepelný proces uskutečňuje. Je známo, že při probíhajícím procesu chemickotepelného zpracováni látek dochází ke kolísání potřebného množství inertního plynného prostředí, si už vlivem změny objemu a tlaku dodávaného inertního plynného prostředí ze zdroje inertního plynného prostředí, úměrné různým hodnotám teplot nastavováných při předem určených provozních režimech chemlckotepelném zpracování látek, nebo vlivem změny objemu a tlaku inertního plynného prostředí v prostorách zařízení po ukončení procesu chemickotepelného zpracování látek při Jejich dochládání, noho také vlivem vstřebávání inertního plynného prostředí do zpracovávané látky, popřípadě také vlivem samovolného úniku inertního plynného prostředí do okolí způsobené netěsnostmi ve spojích mezi pevnými a odnímatelnými částmi zařízení.In the chemical-heat treatment of substances, in particular metals, it is necessary to provide a continuous supply of an inert gaseous medium, such as nitrogen, in which the chemical-heat treatment process takes place, to the premises of the chemical-heat treatment plant, whether in the working or safety areas. It is known that during the process of chemical-thermal treatment of substances the required amount of inert gaseous medium fluctuates due to the change in volume and pressure of the supplied inert gaseous medium from the inert gaseous medium source, proportional to different temperatures set in predetermined chemical-heat treatment modes. or due to the change in volume and pressure of inert gaseous medium in the premises of the facility after the end of the process of chemical-heat treatment of substances during their after-treatment, but also due to absorption of inert gaseous medium into the treated substance removable parts of the device.

199 188199 188

Pro zajištěni správné potřebné činnosti zařízení pro chemickotepelné zpracování látek ja nutná do jejich prostorů zabezpečit plynulou dodávku inertního plynného prostředí tak, aby i za promšnnáho charakteru procesu chemickotepelnáho zpracování látek • i » bylo v pracovních nebo bezpečnostních prostorech zařízení udržováno inertní plynná prostředí v potřebném objemu při Odpovídajícím tlaku· Analogicky je potom třeba postupovat i po ukončení vlastního procesu chemickotepelného zpracování látek při jejioh. dochládání, která ae prakticky vždy vyznačuje nepravidelným chladnutím stán pracovního nebo bezpečnostního prostoru zařízení, oož v návaznosti nepříznivě ovlivňuje charakter dodávky inertního plynného prostředí do prostorů zařízení, přičemž navío je tento charakter dodávky dále ovlivňován i fyzikálně objemovými vlastnostmi daného inertního plynného prostředí v závislosti na průběhu teploty při doohládání.In order to ensure the proper operation of the chemical-heat treatment plant, it is necessary to ensure a continuous supply of inert gaseous medium into their premises so that the inert gaseous environments are kept in the required volume in the working or safety areas of the plant. Adequate pressure · Analogous procedure must be followed even after the actual process of chemical-thermal treatment of substances at its end. subsequent cooling, which is practically always characterized by irregular cooling of work or safety area of the equipment, which consequently adversely affects the nature of the supply of inert gas to the premises of the equipment, and in addition this character of supply is further influenced by the physical volume properties of the inert gas environment temperature after finishing.

• \• \

Každý chemickotepelný proces zpracování látek včetně jejioh doohládání probíhá v zařízení pro chemickotepelné zpracování látek ve značně velkých časových úsecích, oož vyžaduje od obsluhy zařízení výkon kontrolní činnosti značná pozornosti a vypětí, zejména s ohledem trvalé kontroly nepřerušená dodávky inertního plynného prostředí potřebného tlaku a objemu do prostorů zařízení, jejíž i krátkodobá přerušení by bezprostředně vedlo buS k znehodnocení zpracovávané látky v zařízení, popřípadě v extrémních případech i k havárii celého zařízení. U všech stávajících zařízení využívaných pro chemickotepelné zpracování látek je kontrolní činnost průběhu dodávky inertního plynného prostředí spojena s trvalou přítomností obsluhy přímo u zařízení, nebol kolísání dodávek inertního plynného prostředí ve značně velkých časových intervalech jak při vlastním procesu chemiokotepelnáho zpracování látek, tak i při jejich doohládání $»· je potřeba průběžného doragulovávání, ipe^tního plynného prostředí do zařízení pro zajištění potřebného průtoku. U stávajících řešení regulátorů tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů zařízení pro ehemiekotepelné zpracování látek však doposud nebyl zejména nalezen způsob, který by bez trvalá bezprostřední přítomnosti obsluhy automaticky zajišťoval účinnou ochranu zařízení před havarlí při náhlém velkém poklesu dodávky inertního plynného prostředí ze zdroje inertního plynného prostředí, nebo při náhlém.úplném výpadku dodávky, zapříčiněném například poruchou na přívodním potrubí se zdroje inertního plynného prostředí, nebo na některém z redukčníoh ventilů tlaku inertního plynného prostředí uspořádaných v přívodní* potrubí ze zdroje inertního plynného prostředí do prostorů zařízení.Each chemical heat treatment process of substances, including their finalization, takes place in a chemical heat treatment plant for very large periods of time, requiring the operator to carry out control activities with considerable attention and strain, especially with regard to continuous control of uninterrupted supply of inert gas environment equipment, whose even short-term interruptions would immediately lead to the degradation of the processed substance in the facility, or in extreme cases, to the entire facility. In all existing plants used for chemical-thermal treatment of substances, the control activity of the supply of inert gaseous environment is associated with the permanent presence of the operator directly at the equipment, because the supply of inert gaseous environment fluctuates in very large time intervals. There is a need for continuous refolding, a pipetting gaseous environment into the device to provide the necessary flow. However, in the existing pressure regulator solutions for a continuous inert gas system to the premises of an electro-thermal treatment plant, a method has not yet been found which would, without continuous immediate operator presence, automatically ensure effective protection of the equipment against accident. inert gas source, or in the event of a sudden complete power failure, caused, for example, by a failure in the supply line of the inert gas source, or one of the inert gas pressure reducing valves arranged in the supply line from the inert gas source to the plant premises.

' Výěe uvedená nedostatky jsou odstraněny regulátorem tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů zařízeni pro ehemiekotepelné zpracováni látek podle vynálezu,jehož podstatou je, že výstupní potrubí prostorů zařízení je zavedeno do přepadová nádoby á výstupní potrubí přepadová nádoby je spojeno s vnější atmosférou vodním uzávěrem, vytvořeným s výhodou jako nahoře otevřená nádobka s kapalinou, do níž je shora ponořeno svou svislou částí výstupní potrubí přepadová nádoby.The above drawbacks are overcome by a pressure regulator for a system for the continuous supply of an inert gaseous medium to the premises of the apparatus for the electro-thermal treatment of the substances according to the invention. a water seal, preferably formed as a top-open liquid container, into which the outlet pipe of the overflow container is immersed from above with its vertical part.

Dále podstata regulátoru tlaku podle vynálezu spočívá v tom,že ústí výstupního potrubí prostorů zařízení leží v přepadové nádobě nad prostorem odpovídajícím objemu kapaliny vodního uzávěru. Výstupní potrubí přepadové nádoby je opatřeno trojéeetným ventilem, na jehož jeden výetup je napojena svislá část výstupního potrubí přepadově nádoby, a na.jehož druhý Výetup je napojeno odvodní potrubí pro odvod inertního plynného prostředí.Further, the principle of the pressure regulator according to the invention is that the outlet of the outlet pipe of the device spaces lies in the overflow vessel above the space corresponding to the volume of the water seal liquid. The outlet pipe of the overflow vessel is provided with a three-valve, to which one outlet is connected the vertical part of the outlet pipe of the overflow vessel, and to which the other outlet is connected the outlet pipe for the discharge of inert gaseous environment.

Odvodní potrubí je připojeno k přístroji pro chemickou analýzu inertního plyhného prostředí. .The exhaust pipe is connected to a device for chemical analysis of an inert gaseous medium. .

Regulátor tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného- prostředí do prostorů zařízení pro chemlckotepelné zpracování látek podle vynálezu zšjiěluje *í* automatické vytváření potřebného tlaku a Objemu inertního plynného prostředí v prostorech zařízení pro chemlckotepelné zpracování látek, jak při vlastním procesu chsmickotepelného zpracování látek, tak i při procesu dochládání. Regulátor tlaku podle vynálezu se vyznačuje jednoduchými unkčně zcela spolehlivým konstrukčním Uspořádáním s vysokou provozní životností a minimálními nároky na obsluhu a údržbu, k jehož přednostem je třeba přičítat zejména jeho univerzálnost použití u všech druhů zařízení pro chemičkotepelné zpracování látek v nejrůznějšíoh průmyslových oborech.The pressure regulator for a continuous inert gas system to the chemical-heat treatment plant of the present invention will automatically generate the necessary pressure and volume of the inert gas environment in the chemical-heat treatment plant itself, both in the thermal and chemical heat treatment process itself. even in the process of co-ordination. The pressure regulator according to the invention is distinguished by a simple, ultra-reliable construction with a long service life and a minimum of operation and maintenance, the advantages of which are, in particular, its versatility in all kinds of chemical-heat treatment plants in a wide variety of industries.

Na připojeném výkresu je znázorněn příklad provedení regulátoru tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou Inertního plynného prostředí do prostorů do zařízení pro chemlckotepelné zpracování látek podle vynálezu, přičemž na výkrese je znázorněno schematické funkční uspořádání regulátoru tlaku pro eyatém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů zařízení pro chemlckotepelné zpracování látek.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS An exemplary embodiment of a pressure regulator for a continuous inert gas supply system space to a chemical-heat treatment plant of the present invention is shown, schematically illustrating a schematic functional arrangement of the eyatema continuous pressure inert gas supply system space for the device. chemical-thermal treatment of substances.

Regulátor tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů 1 zařízení pro chemlckotepelné zpracování látek podle vynálezu je tvořen přepadovou nádobou 4, do které je napojeno výstupní potrubí 2 prostorů 1 zařízení. Výstupní potrubí 6 přepadové nádoby 4 je spojeno s vnějěi atmosférou vodním uzávěrem 2, s výhodou vytvořeným jako otevřená nádobka s kapalinou 10. do které je shora pohořeno svou svislou čéstí výstupní potrubí 6 přepadové nádoby £. Ústí výstupního potrubí 2 prostorů χ zařízení je umístěno v přepadové nádobě £ tak, aby bylo nad prostorem odpovídajícím objemu kapaliny vodního uzávěru 2· Je výhodné opatřit výstupní potrubí 6 přepadové nádoby £ trojosstným ventilem 2 se vstupem napojeným na část výstupního potrubí 6 z přepadové nádoby £, přičemž na jehož první výstup je napojena svislá část X výstupního potrubí.6 přepadové nádáby 4, která je přes vodní uzávěr 2 spojená s vnějSí atmosférou, a na jehož druhý výstup je možné napojit odvodní potrubí £ pro odvod Inertního plynného prostředí, které lze v případě potřeby připojit rovněž k přístroji pro chemickou analýzu inertního plynného prostředí po průtoku prostory 1 zařízeni.The pressure regulator for a system with a continuous supply of inert gaseous medium to the premises 1 of the device for chemical-thermal treatment of substances according to the invention is formed by an overflow vessel 4 into which the outlet piping 2 of the premises 1 of the device is connected. The outlet conduit 6 of the overflow vessel 4 is connected to the outside atmosphere by a water seal 2, preferably formed as an open container of liquid 10 into which the outlet conduit 6 of the overflow vessel 6 is burned from above with its vertical part. The outlet of the outlet pipe 2 of the device space 4 is located in the overflow vessel 6 so that it is above the space corresponding to the volume of the water seal 2. It is advantageous to provide the outlet pipe 6 of the overflow vessel 6 with a three-way valve 2 with an inlet wherein the first outlet is connected to the vertical part X of the outlet conduit 6 of the overflow vessel 4, which is connected to the external atmosphere via the water seal 2, and to the second outlet of which it is possible to connect the outlet conduit 6 for evacuating the inert gas. if necessary, also connect to the apparatus for chemical analysis of the inert gaseous medium after the flow through the space 1 of the device.

Jak je patrno ze schematického funkčního uspořádání regulátoru tlaku pro systém s nepřetržitou dodávkou inertního plynného prostředí do prostorů zařízeni pro chemicko-* tepelné zpracování látek znázorněného na výkrese, js velikost tlaku inertního plynného ' prostředí v pracovních nebo bezpečnostních prostorech χ zařízení pro ehemiokotepelné zpracování látek nastavována prostřednictvím regulačního ventilu 11 napojeného na vstup 2 Inertního plynného prostředí do prostorů 1 zařízení, který zajiěluje nepřetržitou dodávku Inertního plynného prostředí ze zdroje Inertního plynného prostředí do prostorů 1 zařízení, jak při vlastním režimu chemiekotepelného zpracování látek, tak 1 při procesu dochládání. .As can be seen from the schematic functional arrangement of the pressure regulator for a continuous inert gas system to the chemical-thermal treatment plant shown in the drawing, the pressure of the inert gas environment in the working or safety areas of the ehemi-heat treatment plant is adjusted. by means of a control valve 11 connected to the inert gas inlet 2 of the plant 1, which ensures the continuous supply of the inert gas from the inert gas source to the plant 1, both in the chemothermal heat treatment mode and in the after-treatment process. .

Při případném vytvoření nepříznivého podtlaku, zapříčiněného například náhlým velkým poklesem tlaku inertního plynného prostředí nebo při prudkém ochlazení prostorů χ zařízení, nebo také při úplném výpadku dodávky inertního plynného prostředí do prostorů X zařízení dojde prostřednictvím regulátoru, tlaku podle vynálezu k propojení prostoru χ zařízení přes výstupní potrubí 6 přepadové nádoby £ s okolní atmosférou a k vyrovnání tlaku v prostorech χ zařízení s okolním atmosférickým tlakem tak, že při náhlém vzniku velkého podtlaku dojde k vysátí množství vody z vodního uzávěru 2 do přepadové nádoby £ úměrného rozdílu tlaku nastaveného prostřednictvím regulačního ventilu 11 až pod spodní okraj svislé části 2 výstupního potrubí £. přepadové nádoby £ a výstupním potrubím 6 přepadové nádoby £ je vlivem podtlaku nasávána okolní atmosféra do prostorů χ zařízení až do vyrovnání hodnoty tlaku v prostorách χ zařízení s okolním atmosférickým tlakem.In the event of an adverse negative pressure caused, for example, by a sudden large pressure drop of the inert gas environment or by a rapid cooling of the χ device space, or also in the event of a complete failure of the piping 6 of the overflow vessel 6 with the ambient atmosphere and to equalize the pressure in the spaces χ of the device with the ambient atmospheric pressure so that in the event of a high vacuum the water is drained from the water cap 2 into the overflow vessel 6 proportional to the the lower edge of the vertical outlet section 2 of the outlet pipe. The overflow vessel 6 and the overflow line 6 of the overflow vessel 6 are sucked into the ambient atmosphere by the negative pressure of the device until the pressure in the facility is equalized with the ambient atmospheric pressure.

Claims

1. A pressure regulator for a system and a continuous supply of an inert gaseous medium to the premises of a chemical-heat treatment plant, the input of which is connected to a source of an inert gaseous medium, characterized in that _; that the outlet conduit (3) of the device spaces (i) is introduced into the overflow container (4) and the outlet conduit (6) of the overflow container (4) is connected to the external atmosphere by a water seal (9) formed as a top open container with liquid (10) ), into which the outlet pipe (6) of the overflow vessel (4) is immersed from above by its vertical part (7).

2. The regulator according to claim 1, characterized in that the orifice of the outlet pipe (3) of the device spaces (1) lies in the overflow vessel (4) above the space corresponding to the volume of the liquid shutter (9).

OF

3. The regulator according to claim 1, characterized in that the outlet pipe (6) of the overflow vessel (4) is provided with a three-way valve (5) to which one outlet is connected a vertical part (?) Of the outlet pipe (6) of the overflow vessel (4). ), and to the second outlet of which an outlet pipe (8) is connected for the removal of an inert gaseous medium.

Controller according to Claim 3, characterized in that the discharge line (8) is connected to an apparatus for chemical analysis of an inert gaseous medium.