CS110031B5 - Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou - Google Patents

Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou Download PDF

Info

Publication number
CS110031B5
CS110031B5 CS502761A CS502761A CS110031B5 CS 110031 B5 CS110031 B5 CS 110031B5 CS 502761 A CS502761 A CS 502761A CS 502761 A CS502761 A CS 502761A CS 110031 B5 CS110031 B5 CS 110031B5
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
solder
metal electrode
alloy
reinforcing metal
bonding
Prior art date
Application number
CS502761A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to CS502761A priority Critical patent/CS110031B5/cs
Publication of CS110031B5 publication Critical patent/CS110031B5/cs

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Description

' Monokrystalický vysoce čistý křemík ]e velmi výhodným polovodičovým prvkem pro výrobu usměrňovačích diod, tranzistorů a řízených polovodičových systémů typu na příklad PNPN. Uvedené systémy obsahují · jeden nebo více tzv. přechodů PN. Tyto přechody PN,. které jsou rozhraním mezi odlišnými typy elektrické vodivosti v krys- / talu křemíku, lze připravit! několika metodami. Z .nich jsou nejznámější metody » slitinová, difusní a metoda využívající vzniku PN přechodu při tažení monokrystalu.
Způsob přípravy slitinovou metodou je předmětem čs. patentu č. 99 437. Vynález navazuje na tento čs. patent s názvem „Způ- 15 sob výroby usměrňovacího polovodičového systému s přechody P+ — N — N+ nebo N+ — P — P+ na křemíku, pro výkonové usměrňovače“. Podstatou tohoto patentu je, že systém sestávající z monokrystalického 811 křemíku a příslušných elektrod s fóliemi se podrobí žíháni v inertním nebo redukčním prostředí při teplotě od 820° C do 970°
C, při kterém proběhne legování a ztavení tohoto systému v jeden celek a vytvoří tak as vlastní usměrňující přechod P — Nis přechodem ohmickým, který se zpevni kovovými elektrodami umožňujícími připájení přívodů systému. Vlastní usměrňující přechod P — Na přechod ohmický je vytvořen so na destičce ž monokrystalického křemíku 0,3—0,5 mm silné, na jedné straně nalegováním slitiny AI — Sn (5—20 % Sn] nebo
AI — In- (3—10 % In) a na druhé straně nalegováním slitiny Ag, Pb, Ge a Sb (nelméně 5 % Pb, 2,5 % Ge, 0,3 % Sb a zbytek Ag]. Slitiny se ztavují ve formě a kombinaci nejvýše dvou 0,05—0,-2 mm silných fólii z binárních slitin potřebného složení a velikosti, přičemž ztavení a legování se pro- . vádí pod mírným tlakem cca 15—25 g na cm2 účinné plochy1 přechodu.
Difusní metoda spočívá v difusi nečistot způsobujících opačný typ vodivosti základního materiálu. Do materiálu typu N difundují akceptory (B, AI, Ga, In, TI), do . a materiálu typu P donory (P, ASj Sb]. Tyto nečistoty difundují do křemíku buď přímo z prvků, nebo ze sloučenin a látek, které je obsahují. Difuse může probíhat z fáze plynné, kapalné nebo pevné. Velmi rozšířená je difuse násobná, která využívá rozdílných difusních koeficienitů akceptorů a donorů a dále difuse přes kysličníky křemíku.
Metoda používaná při tažení monokrystalu má. několik modifikaci:,
a) změna typu vodivosti základního materiálu přídavkem vhodné legury během tažení;
o] změna původní vodivosti změnou podmínek tažení (rychlost tažení, rychlost, rotace apod.).
Obě metody, jak difusní, tak metoda tažení, umožňují získat velmi tenké přechodové vrstvy, což je důležité u složitých struktur, které obsahuií několik přechodů PN. Pro výkonové elementy ie výhódněiší, ss vzhledem k nižším elektrickým ztrátám, metoda difusní než metoda tažení.
Různé metody přípravy PN přechodů, aplikované na výchozím materiálu typu vodivosti Pnebo N, poskytují vzájemnou kom- 40 binací několik desítek až set možných způsobů výroby složitých polovodičových struktur. Z nich uvádíme jen základní typy u diod obr. 1 a u tranzistorů — obr. 2.
Typ vodivosti, označený, křížkem, znamená « oblast s větší koncentrací aktivní nečistoty, . které se používá podle návrhu Halla a Dunlapa.
Uvedené, struktury jsou obsaženy v destičkách křemíku silných jen několik desetin mm. ‘ Z důvodů zvýšení mechanické pevnosti proti otřesům a tepelným dila- tacím a pro snadné pájeni přívodních kontaktů' jsou tyto destičky přitavovány vhod- M nou slitinou k elektrodám z molybdenu, tantalu nebo wolframu.
Podle předloženého vynálezu je tento úkol řešen použitím slitiny Ag, Pb, Ge a X .{nejméně: 5 % Pb; 2,5 °/ó Gě; 0,1 θ/ο X a eo zbytek Ag). která vznikne během legování ztavením dvou fólií binárních, po případě termálních slitin vhddného složení. X je donorová (P, As, Sb, Bij.nebo akceptorová příměs (B, AI, Ga, In, Ťl), zesilující typ M vodivosti příslušné rekrystalisované vrstvy křemíku. Vzniklá slitina je volena tak, aby. dokonale smáčela á spojovala a měla potřebné legújící vlastnosti. Elektroda je na druhé volné straně předem pokovena po- n mocí vhodného kovu, na příklad slitiny stříbra s germaniem. ' . Žíháním systémů podle uspořádání na obr. 3 až 5 při teplotě od. 820 do 970° C proběhne přitavení. křemíku k elektrodě. « Legování lze provádět ve vakuu, inertní nebo redukční atmosféře.
Příklady provedení podle vynálezu:
1. Na obr. č. 3 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých' vrstev v případě . využití vynálezu pro výrobu prvku PNPN.
Destička 1 ze Si typu P, obsahující na příklad difusní vrstvy 2,3 (N) a 4 (P), je přitavena podle vynálezu k molybdenové elektrodě 5 slitinou 6 z Ag, Pb, Ge a Sb. Kontakty 7 — slitina Ag, Ge á 8 — měděný, po případě hliníkový drátek nebo dracoun slouží jako přívody elektrického proudu. Řídicí elektroda je označena 9.
2. Na obr. 4 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých vrstev v případě , využití vynálezu pro výrobu tranzistoru 7
NPNN+. Destička 10 ze Si typu N, s difusními vrstvami 12 (P) a 13 (N), je přitavena podle vynálezu k molybdenové elektrodě 14 slitinou 15 z Ag, Pb. Ge a Sb. Rekrystalisací během legování vznikne silně dotovaná vrstva. N+ 11. Části . 16, 17 a 18 slouží jako vývody kolektoru, emitoru a báze.
3. Na obr. 5 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých vrstev v případě využití vynálezu pro výrobu difusních diod. Destička 20 ze Si typu N, s nadifundovanou vrstvou 22 typu P, je přitavena podle vynálezů k molybdenové elektrodě 23 slitinou 24 z Ag, Pb, Ge a Sb, Rekrystalisací během, legování vznikne nízkoohmová vrstva N+. 21. Části 25 a 26 slouží opět k připojení elementu do elektrického obvodu.
Výhodou, vynálezu je, že obvykle používané drahé a deficitní zlato je. nahrazeno slitinou stříbra, která je mnohem dostupnější. Další výhodou je, že křemík je nataven při použití vynalezené slitiny do menší hloubky než při použití stejně silné zlaté nebo hliníkové fólie. To umožňuje použití slabších výchozích destiček drahého křemíku a dále nedojde tak snadno k protavěňí slabých difusních vrstév.

Claims (3)

  1. . i. Pájka- pro spojení destičky monokryštalického křemíku, se zpevňující kovovou elektrodou, tvořená slitinou nejméně 5 % olova Pb, 2,5 °/o germania Ge., další složkouX a stříbrem Ag, vyznačená tím, že X je nejméně 0,1 % příměsi posilující typ vodivosti pájené strany křemíkové destičky.
    PATENTU ,
  2. 2. Pájka podle bodu 1 vyznačená tím, že íb «příměs je donorová a je tvořena fosforem
    P nebo aršeneiii As nebo vizmutem Bi.
  3. 3. Pájka podlé bodu 1 vyznačená tím, že příměs je akceptorová a je tvořena borem B nebo hliníkem AI nebo galiem Ga nebo ss indiem In.
CS502761A 1961-08-16 1961-08-16 Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou CS110031B5 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS502761A CS110031B5 (cs) 1961-08-16 1961-08-16 Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS502761A CS110031B5 (cs) 1961-08-16 1961-08-16 Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS110031B5 true CS110031B5 (cs) 1983-09-15

Family

ID=40849157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS502761A CS110031B5 (cs) 1961-08-16 1961-08-16 Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS110031B5 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2918396A (en) Silicon carbide semiconductor devices and method of preparation thereof
US3078397A (en) Transistor
US2831787A (en) Emeis
US2994018A (en) Asymmetrically conductive device and method of making the same
US2905873A (en) Semiconductor power devices and method of manufacture
US9324607B2 (en) GaN power device with solderable back metal
US3280386A (en) Semiconductor a.c. switch device
US3211970A (en) Semiconductor devices
US3301716A (en) Semiconductor device fabrication
US3179542A (en) Method of making semiconductor devices
US2854612A (en) Silicon power rectifier
US2956216A (en) Semiconductor devices and methods of making them
US2793332A (en) Semiconductor rectifying connections and methods
US2865794A (en) Semi-conductor device with telluride containing ohmic contact and method of forming the same
US3010857A (en) Semi-conductor devices and methods of making same
US2931960A (en) Electric semiconductor p-nu junction devices and method of producing them
US3211971A (en) Pnpn semiconductor translating device and method of construction
CS110031B5 (cs) Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou
US2817798A (en) Semiconductors
US2817609A (en) Alkali metal alloy agents for autofluxing in junction forming
US2820135A (en) Method for producing electrical contact to semiconductor devices
US3063876A (en) Preparation of junctions in silicon carbide members
US2830239A (en) Semiconductive alloys of gallium arsenide
US2818536A (en) Point contact semiconductor devices and methods of making same
Henkels Germanium and silicon rectifiers