CS110031B5 - Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou - Google Patents
Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou Download PDFInfo
- Publication number
- CS110031B5 CS110031B5 CS502761A CS502761A CS110031B5 CS 110031 B5 CS110031 B5 CS 110031B5 CS 502761 A CS502761 A CS 502761A CS 502761 A CS502761 A CS 502761A CS 110031 B5 CS110031 B5 CS 110031B5
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- solder
- metal electrode
- alloy
- reinforcing metal
- bonding
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 title claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 10
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 101000795167 Homo sapiens Tumor necrosis factor receptor superfamily member 13B Proteins 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100029675 Tumor necrosis factor receptor superfamily member 13B Human genes 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940000425 combination drug Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
' Monokrystalický vysoce čistý křemík ]e velmi výhodným polovodičovým prvkem pro výrobu usměrňovačích diod, tranzistorů a řízených polovodičových systémů typu na příklad PNPN. Uvedené systémy obsahují · jeden nebo více tzv. přechodů PN. Tyto přechody PN,. které jsou rozhraním mezi odlišnými typy elektrické vodivosti v krys- / talu křemíku, lze připravit! několika metodami. Z .nich jsou nejznámější metody » slitinová, difusní a metoda využívající vzniku PN přechodu při tažení monokrystalu.
Způsob přípravy slitinovou metodou je předmětem čs. patentu č. 99 437. Vynález navazuje na tento čs. patent s názvem „Způ- 15 sob výroby usměrňovacího polovodičového systému s přechody P+ — N — N+ nebo N+ — P — P+ na křemíku, pro výkonové usměrňovače“. Podstatou tohoto patentu je, že systém sestávající z monokrystalického 811 křemíku a příslušných elektrod s fóliemi se podrobí žíháni v inertním nebo redukčním prostředí při teplotě od 820° C do 970°
C, při kterém proběhne legování a ztavení tohoto systému v jeden celek a vytvoří tak as vlastní usměrňující přechod P — Nis přechodem ohmickým, který se zpevni kovovými elektrodami umožňujícími připájení přívodů systému. Vlastní usměrňující přechod P — Na přechod ohmický je vytvořen so na destičce ž monokrystalického křemíku 0,3—0,5 mm silné, na jedné straně nalegováním slitiny AI — Sn (5—20 % Sn] nebo
AI — In- (3—10 % In) a na druhé straně nalegováním slitiny Ag, Pb, Ge a Sb (nelméně 5 % Pb, 2,5 % Ge, 0,3 % Sb a zbytek Ag]. Slitiny se ztavují ve formě a kombinaci nejvýše dvou 0,05—0,-2 mm silných fólii z binárních slitin potřebného složení a velikosti, přičemž ztavení a legování se pro- . vádí pod mírným tlakem cca 15—25 g na cm2 účinné plochy1 přechodu.
Difusní metoda spočívá v difusi nečistot způsobujících opačný typ vodivosti základního materiálu. Do materiálu typu N difundují akceptory (B, AI, Ga, In, TI), do . a materiálu typu P donory (P, ASj Sb]. Tyto nečistoty difundují do křemíku buď přímo z prvků, nebo ze sloučenin a látek, které je obsahují. Difuse může probíhat z fáze plynné, kapalné nebo pevné. Velmi rozšířená je difuse násobná, která využívá rozdílných difusních koeficienitů akceptorů a donorů a dále difuse přes kysličníky křemíku.
Metoda používaná při tažení monokrystalu má. několik modifikaci:,
a) změna typu vodivosti základního materiálu přídavkem vhodné legury během tažení;
o] změna původní vodivosti změnou podmínek tažení (rychlost tažení, rychlost, rotace apod.).
Obě metody, jak difusní, tak metoda tažení, umožňují získat velmi tenké přechodové vrstvy, což je důležité u složitých struktur, které obsahuií několik přechodů PN. Pro výkonové elementy ie výhódněiší, ss vzhledem k nižším elektrickým ztrátám, metoda difusní než metoda tažení.
Různé metody přípravy PN přechodů, aplikované na výchozím materiálu typu vodivosti Pnebo N, poskytují vzájemnou kom- 40 binací několik desítek až set možných způsobů výroby složitých polovodičových struktur. Z nich uvádíme jen základní typy u diod obr. 1 a u tranzistorů — obr. 2.
Typ vodivosti, označený, křížkem, znamená « oblast s větší koncentrací aktivní nečistoty, . které se používá podle návrhu Halla a Dunlapa.
Uvedené, struktury jsou obsaženy v destičkách křemíku silných jen několik desetin mm. ‘ Z důvodů zvýšení mechanické pevnosti proti otřesům a tepelným dila- tacím a pro snadné pájeni přívodních kontaktů' jsou tyto destičky přitavovány vhod- M nou slitinou k elektrodám z molybdenu, tantalu nebo wolframu.
Podle předloženého vynálezu je tento úkol řešen použitím slitiny Ag, Pb, Ge a X .{nejméně: 5 % Pb; 2,5 °/ó Gě; 0,1 θ/ο X a eo zbytek Ag). která vznikne během legování ztavením dvou fólií binárních, po případě termálních slitin vhddného složení. X je donorová (P, As, Sb, Bij.nebo akceptorová příměs (B, AI, Ga, In, Ťl), zesilující typ M vodivosti příslušné rekrystalisované vrstvy křemíku. Vzniklá slitina je volena tak, aby. dokonale smáčela á spojovala a měla potřebné legújící vlastnosti. Elektroda je na druhé volné straně předem pokovena po- n mocí vhodného kovu, na příklad slitiny stříbra s germaniem. ' . Žíháním systémů podle uspořádání na obr. 3 až 5 při teplotě od. 820 do 970° C proběhne přitavení. křemíku k elektrodě. « Legování lze provádět ve vakuu, inertní nebo redukční atmosféře.
Příklady provedení podle vynálezu:
1. Na obr. č. 3 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých' vrstev v případě . využití vynálezu pro výrobu prvku PNPN.
Destička 1 ze Si typu P, obsahující na příklad difusní vrstvy 2,3 (N) a 4 (P), je přitavena podle vynálezu k molybdenové elektrodě 5 slitinou 6 z Ag, Pb, Ge a Sb. Kontakty 7 — slitina Ag, Ge á 8 — měděný, po případě hliníkový drátek nebo dracoun slouží jako přívody elektrického proudu. Řídicí elektroda je označena 9.
2. Na obr. 4 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých vrstev v případě , využití vynálezu pro výrobu tranzistoru 7
NPNN+. Destička 10 ze Si typu N, s difusními vrstvami 12 (P) a 13 (N), je přitavena podle vynálezu k molybdenové elektrodě 14 slitinou 15 z Ag, Pb. Ge a Sb. Rekrystalisací během legování vznikne silně dotovaná vrstva. N+ 11. Části . 16, 17 a 18 slouží jako vývody kolektoru, emitoru a báze.
3. Na obr. 5 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých vrstev v případě využití vynálezu pro výrobu difusních diod. Destička 20 ze Si typu N, s nadifundovanou vrstvou 22 typu P, je přitavena podle vynálezů k molybdenové elektrodě 23 slitinou 24 z Ag, Pb, Ge a Sb, Rekrystalisací během, legování vznikne nízkoohmová vrstva N+. 21. Části 25 a 26 slouží opět k připojení elementu do elektrického obvodu.
Výhodou, vynálezu je, že obvykle používané drahé a deficitní zlato je. nahrazeno slitinou stříbra, která je mnohem dostupnější. Další výhodou je, že křemík je nataven při použití vynalezené slitiny do menší hloubky než při použití stejně silné zlaté nebo hliníkové fólie. To umožňuje použití slabších výchozích destiček drahého křemíku a dále nedojde tak snadno k protavěňí slabých difusních vrstév.
Claims (3)
- . i. Pájka- pro spojení destičky monokryštalického křemíku, se zpevňující kovovou elektrodou, tvořená slitinou nejméně 5 % olova Pb, 2,5 °/o germania Ge., další složkouX a stříbrem Ag, vyznačená tím, že X je nejméně 0,1 % příměsi posilující typ vodivosti pájené strany křemíkové destičky.PATENTU ,
- 2. Pájka podle bodu 1 vyznačená tím, že íb «příměs je donorová a je tvořena fosforemP nebo aršeneiii As nebo vizmutem Bi.
- 3. Pájka podlé bodu 1 vyznačená tím, že příměs je akceptorová a je tvořena borem B nebo hliníkem AI nebo galiem Ga nebo ss indiem In.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS502761A CS110031B5 (cs) | 1961-08-16 | 1961-08-16 | Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS502761A CS110031B5 (cs) | 1961-08-16 | 1961-08-16 | Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS110031B5 true CS110031B5 (cs) | 1983-09-15 |
Family
ID=40849157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS502761A CS110031B5 (cs) | 1961-08-16 | 1961-08-16 | Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS110031B5 (cs) |
-
1961
- 1961-08-16 CS CS502761A patent/CS110031B5/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2918396A (en) | Silicon carbide semiconductor devices and method of preparation thereof | |
| US3078397A (en) | Transistor | |
| US2831787A (en) | Emeis | |
| US2994018A (en) | Asymmetrically conductive device and method of making the same | |
| US2905873A (en) | Semiconductor power devices and method of manufacture | |
| US9324607B2 (en) | GaN power device with solderable back metal | |
| US3280386A (en) | Semiconductor a.c. switch device | |
| US3211970A (en) | Semiconductor devices | |
| US3301716A (en) | Semiconductor device fabrication | |
| US3179542A (en) | Method of making semiconductor devices | |
| US2854612A (en) | Silicon power rectifier | |
| US2956216A (en) | Semiconductor devices and methods of making them | |
| US2793332A (en) | Semiconductor rectifying connections and methods | |
| US2865794A (en) | Semi-conductor device with telluride containing ohmic contact and method of forming the same | |
| US3010857A (en) | Semi-conductor devices and methods of making same | |
| US2931960A (en) | Electric semiconductor p-nu junction devices and method of producing them | |
| US3211971A (en) | Pnpn semiconductor translating device and method of construction | |
| CS110031B5 (cs) | Pájka pro spojení destičky monokrystalického křemíku, še zpevňující' kovovou elektrodou | |
| US2817798A (en) | Semiconductors | |
| US2817609A (en) | Alkali metal alloy agents for autofluxing in junction forming | |
| US2820135A (en) | Method for producing electrical contact to semiconductor devices | |
| US3063876A (en) | Preparation of junctions in silicon carbide members | |
| US2830239A (en) | Semiconductive alloys of gallium arsenide | |
| US2818536A (en) | Point contact semiconductor devices and methods of making same | |
| Henkels | Germanium and silicon rectifiers |