CN85107886B - Mos场效应晶体管的栅压温度筛选方法 - Google Patents

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Abstract

MOS场效应晶体管的一种筛选方法。本方法是将MOS场效应晶体管的源极和漏极短路、栅极和源极之间施加直流偏压,置于高温环境中进行老化。比较老化前后的阈电压值可判知MOS场效应晶体管的稳定性和可靠性。易于剔除性能不稳定、可靠性差的管子,而对优质正品管无损伤。具有参数反映灵敏、试验效率高、周期短、非破坏性、仪器设备简单、操作容易和节省筛选费用的优点。在当前对MOS场效应晶体管的考核尚无国家标准的情况下亦可作为例行试验方法。

Description

MOS场效应晶体管的栅压温度筛选方法
本发明属于MOS场效应晶体管的一种筛选方法。
MOS场效应晶体管,由于栅结构是由MOS系统构成,它的质量直接反映出MOS场效应晶体管的稳定性和可靠性。如果在MOS系统中存在有过多的带电粒子,例如氧化层中固定的电荷和可动电荷等,会使MOS场效应晶体管的阈电压(VT)产生过大的漂移和偏离设计的预定值,则稳定性和可靠性差。为了剔除性能不稳定和可靠性差的管子,目前采用热电老化筛选方法。它是将晶体管加上一定的电功率,在高温下试验一段时间,然后测量其电参数。但这种方法,所施加的栅压不高,未能促使可动电荷充分漂移,筛选效率低,试验中维护工作量大。另外有美国专利“MOS场效应晶体管的稳定性试验”(1975年美国专利3,882,391号)。它采用的方法是测量原来的和施加栅压(在室温下)后的MOS栅的平带电压之差。由此来确定晶体管的可靠性,并且来确定磷硅玻璃层(栅氧化层覆盖有磷硅玻璃时)的质量,检验磷硅玻璃层的厚度是否足以吸收可动电荷。这种方法设备较多,测量和计算的数据较多,并且不是直接测量晶体管的参数。
本发明的目的在于提高MOS场效应晶体管的筛选效率,能够更有效地剔除性能不稳定、可靠性差的晶体管,而对优质正品晶体管无损伤。
为了达到上述目的,本发明是将MOS场效应晶体管的源极和漏极短接,栅极和源极之间施加适当的直流偏压,进行恒温热处理。比较试验前后的阈电压数值,即可筛次选好。附图说明:附图为实现筛选方案的电路系统图。图中G、D、S分别代表MOS场效应晶体管的栅极、漏极和源极。1W、100KΩ为碳膜电阻,作为栅极保护用。50V、0.01μF电容器作为瞬时高频电流通路用,排除外界高频感应的干扰。2个30V稳压管作为栅极过电压保护用。MOS管的栅极通过1W、100KΩ电阻与电源线相接,源极和漏极短接后接地线。在电源线上施加直流10-25V电压。
按照附图给出的电路系统,将MOS场效应晶体管的源极和漏极短接,在栅极和源极间施加一定的直流偏压,例如10-25伏(电压按栅介质厚度而定),使栅介质中的电场强度达到1×106伏/厘米数量级的情况下作恒温热处理。这样,栅介质中沾污的可动离子就会被激活,并产生定向运动,导致晶体管的阈电压发生变化。比较处理前后的阈电压数值,则质量优良的晶体管阈电压变化小,质量差的晶体管阈电压变化大,根据这一点就可以剔除质量差的晶体管,选出质量好的晶体管。由于漏源间未加电功率,所以晶体管不会过载。
优先实施方案:按附图装设好筛选用的电路板。测量待试验晶体管的阈电压值VT(室温下测量)。然后将晶体管插在电路板上的管座上,此时源极和漏极短路,栅极和源极之间施加有直流15伏偏压(假设栅介质层厚为150nm),电源可用普通的晶体管直流稳压电源(例如若接入100支晶体管时,可用10-25V、1A的直流稳压电源)。放入150℃-170℃的电热恒温箱中30分钟后,保持栅压不变,取出置于室温中,当管壳温度降到室温时,再去除偏压。复测阈电压值VT′。比较变化量△VT=|VT′-VT|。△VT大的晶体管即为可靠性差的晶体管。例如可取△VT≥1伏为次品。
本筛选方案优点是筛选效率高,可同时筛选大批量的晶体管,不需施加电功率,节省能源,仪器设备简单,操作容易,试验周期短,不损伤正品管,可以有效地剔除稳定性和可靠性差的管子。本方法可用作热电老化筛选晶体管,也可用作质量检验用。

Claims (8)

1、一种MOS场效应晶体管的筛选方法,包括:
(1)首先测量待试验晶体管的阈电压VT
(2)将晶体管的源极和漏极短路,栅极和源极之间施加直流偏压,置于恒温中老化。
(3)保持栅源偏压不变,取出晶体管置于室温中冷却至室温,再去除偏压。
(4)再测量晶体管的阈电压值VT′。
(5)比较阈电压值ΔVT=|VT′-VT|,△VT大的晶体管即为稳定性和可靠性差的晶体管。
其特征在于在所述恒温老化同时,在MOS场效应晶体管的栅极与源漏极之间加直流偏压,而源极与漏极是(相互)短路的。
2、根据权利要求1所说的筛选方法,其特征在于晶体管栅极与源极所加电压为10-25伏(1×106伏/厘米),老化温度为150℃-170℃。
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