CN2303003Y - 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种生产氧化铟锡透明导电膜的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机。它是由真空抽气机组、真空室、真空室内设置的放卷辊、收卷辊、主传动辊、磁控溅射靶、加热器、充气系统组成。所述的磁控溅射靶是铟一锡合金或者氧化铟锡烧结的平面靶,1—4个该平面磁控靶等距离地设置在主传动辊外圆周围,每个该平面磁控靶各连接一个三相桥式整流电源。本实用新型具有提高生产效率和产品质量,结构简单、操作容易的特点。
Description
本实用新型涉及一种等离子体表面物理气相沉积装置，属于一种生产氧化铟锡透明导电膜的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机。
目前，在聚酯薄膜上镀制氧化铟锡(以下简称170)透明导电膜的设备是间歇式的真空蒸发镀膜机(用电阻加热或电子束加热)，存在的问题是设备的生产效率低，操作较麻烦、产品质量不易稳定。
本实用新型的目的是提供一种连续式的提高生产效率和产品质量、结构简单、操作容易的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机。
本实用新型的目的是这样实现的，它是由真空抽气机组、真空室、真空室内设置的放卷辊、收卷辊、加热器、主传动辊、磁控溅射靶、充气系统组成。所述的磁控溅射靶是铟一锡合金或者氧化铟锡烧结的平面磁控靶，将1-4个平面磁控靶等距离地设置在主传动辊外圆周围，每个平面磁控靶各连接一个三相桥式整流电源，可对各靶单独供电、单独控制，具有过电压过电流保护和RC自动弧功能。
本实用新型由于采用铟一锡合金或者氧化铟锡平面磁控靶，适于大面积镀膜，而且又把它多个安装，可明显提高靶材的溅射速率和沉积速率，因而，生产效率高，镀膜速度可达1～10米／分，适合于工业规模生产。由于对成卷的柔性的被镀基材的加热和镀膜过程是同时进行，这样，在基材上得到透明导电的氧化铟锡膜层，可见光透过率达80％以上，电阻值～300
，而且膜层与基材的附着牢固，膜厚均匀，产品质量明显提高。由于本实用新型所述的真空室可以为卧式单室型或者上下双室型，结构简单、操作容易。当把本实用新型所述铟一锡合金或者氧化铟锡平面磁控靶的靶材更换为铜、铝或者不锈钢(1CR18Ni97i)等材料时，还可高效率地镀制阻热膜、装饰膜等。因此，本实用新型的功能比较多。
下面结合实施例及附图对本实用新型的技术方案进行详细说明。
图1为本实用新型结构示意图。
参照图1，真空室2为卧式单室型，在真空室2内上部左右对称设置放卷辊3和收卷辊4，在真空室2内的下部居中设置主传动辊7。在真空室2下部设置充气系统9。被镀基材5从放卷辊3经张力辊、导辊到主传动辊7，再经张力辊、导辊到收卷辊4上。在放卷辊3、收卷辊4与主传动辊7的外圆上方之间，靠近被镀基材5设置加热器6。或者在两侧的平面磁控靶8的溅射区域外，靠近被镀基材5设置加热器6，将尺寸相同的三个铟一锡合金或氧化铟锡烧结的平面磁控靶8等距离地放置在主传动辊7外圆周围，该平面磁控靶8的平面到主传动辊7外圆表面之间距离为60-80毫米，该距离可根据生产运行需要进行调节。该平面磁控靶8安装在真空室2内设置的支座上或者真空室2内壁上，并且与支座和真空室2内壁电绝缘。每个平面磁控靶8各连接一个三相桥式整流电源OC，对各平面磁控靶8单独供电、单独控制，具有过电压，过电流保护和RC自动弧功能。真空室2的通孔1设真空抽气机组是采用扩散泵作主泵的高真空抽气机组，将真空室2抽到10-3Pa后，充入工作气体氩气和反应气体氧气，真空室内总压力控制在10-1～1Pa，该平面磁控靶8(阴极)与阳极之间加直流电压290-360V，在镀膜过程中，对被镀基材5的加热温度进行控制，温度范围60°～90℃。
将所述的加热器6还可以改换成在主传动辊7内设夹层，在其夹层内通入传热介质(如导热油或者热水等)，用以在镀膜过程中，对连续传送的被镀基材，如聚酯薄膜进行加热。
将所述真空室2(卧式单室型)，可以改变成双室型，在真空室2内壁与主传动辊7外圆左右两侧之间设隔板，将所述的真空室2隔开成上下两个真空度不同的区域，在真空室2上下室通孔1各设置真空抽气机组，使收放卷和镀膜分别在这上、下两个室进行。所述的真空室2的横截面可为圆形或者方型或者长方形。
本实用新型的工作过程：在真空室2中将被镀基材5从放卷辊3经过主传动辊7和导辊、张力辊到收卷辊4上。该平面磁控靶8安装在真空室2内的支座上。将真空抽到一定的真空度，对被镀基材5进行加热、加热温度范围60～90℃，尽可能高些，充入工作气体(通常为氩气)和反应气体氧气，控制它们的流量及真空室内的总压力，启动各个靶电源，使该平面磁控靶8的溅射原子在低压气体中与氧气进行反应溅射，当连续传送的被镀基材5通过该平面磁控靶8的溅射区域时，在其上就沉积了170膜层。被镀基材的镀膜速度可根据真空室2内的氧气流量、气体总压力、靶电压和镀制的170膜层的透光率、电阻值进行改变。
Claims (6)
1．一种平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，是由真空抽气机组、真空室、真空室内设置的放卷辊、收卷辊、主传动辊、磁控溅射靶、加热器、充气系统组成。其特征是所述磁控溅射靶是铟一锡合金或者氧化铟锡烧结的平面磁控靶(8)，将1-4个该平面磁控靶(8)等距离地设置在主传动辊(7)外圆周围，每个平面磁控靶(8)各连接一个三相桥式整流电源。
2．根据权利要求1所述的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，其特征是：在放卷辊(3)、收卷辊(4)与主传动辊(7)的外圆上方之间，靠近被镀基材(5)设置加热器(6)。
3．根据权利要求1所述的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，其特征是：在两侧的平面磁控靶(8)的溅射区域外，靠近被镀基材(5)设置加热器(6)。
4．根据权利要求1所述的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，其特征是：在所述的主传动辊(7)内设夹层，在其夹层内装有传热介质。
5．根据权利要求1所述的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，其特征是：真空室(2)内壁与主传动辊(7)外圆左右两侧之间设隔板，将所述的真空室(2)隔开成上、下两个真空度不同的区域，在真空室(2)上下室通孔(1)各设置一套真空抽气机组。
6．根据权利要求1或5所述的平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机，其特征是：所述的真空室(2)的横截面可为圆形或者方型或者长方形。
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