CN221771685U - 一种过滤装置 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种具有过滤作用的元件或设备,尤其涉及一种过滤装置;过滤装置包括:腔体组件,包括至少一能够使待过滤的切割液输入并容纳的腔体结构;过滤组件,设置在腔体结构处,包括至少一层过滤网结构;其中,过滤网结构凸面设置,且其凸出的方向和切割液的流经方向相反。在切割液通过过滤网的过程中,由于固体颗粒和杂质受到流体的流向惯性,凸面的过滤网结构可使得固体颗粒和杂质不易于附着或停留在过滤网结构的弧面上;同时由于凸面结构的特点,切割液中较大的杂质会自动沿表面滑落的方式被滤在过滤网结构的边缘处;该现象有助于防止固体颗粒和杂质堵塞过滤网,从而保持过滤组件的过滤效果,提高过滤装置的可靠性。
Description
技术领域
本申请涉及一种具有过滤作用的元件或者设备,尤其涉及一种过滤装置。
背景技术
随着光伏行业的不断发展,硅片切割制造过程中,对薄片化要求不断加深,技术方面面临着切割硅片越薄,单刀切割液硅粉含量越高的现状。在硅片切割中,普遍需要对切割过程中的切割液(硅片切割过程中会加入液态流体)进行过滤,以实现切割液清洁程度或各种可循环利用物料的回收和再利用。
具体的,切割液是在硅片切割过程中使用的一种流体,为了防止切割过程出现堵塞溢液,现有技术一般使用过滤网对硅片切割过程中产生的切割液进行过滤,常见的过滤网为平面结构或者具有一定的凹陷结构。
然而,申请人在实践中认识到,由于随着硅片加工薄片化的加深,硅片在切割过程中,切割液中所含的杂质也会逐渐增多,如滤碎硅片,大硅泥块等。基于现有过滤网的结构所致,这些含有大量杂质的切割液在流经过滤网时,其很容易均匀地平铺吸附在过滤网上,或者在过滤网(凹陷结构形式)的最底部堆积,逐渐导致过滤网上不断积聚各种杂质,进一步阻止切割液的流动并形成堵塞,最终造成硅片切割中大量跳线、断线问题频繁出现。
发明内容
针对上述的技术问题,本申请的目的是通过提出一种过滤装置,以解决现有技术目前切割液在经过过滤网时,容易发生堵塞的技术问题。
在本申请的第一方面,提供一种过滤装置,用于半导体材料加工过程中切割液的过滤,包括:腔体组件,包括至少一能够使待过滤的切割液输入并容纳的腔体结构;过滤组件,设置在腔体结构处,包括至少一层过滤网结构;其中,过滤网结构凸面设置,且其凸出的方向和切割液的流经方向相反。
基于总实用新型构思,在本申请进一步的方案中,腔体组件包括沿切割液的流经方向上依次设置第一腔体结构和第二腔体结构;过滤组件包括第一过滤网结构和第二过滤网结构;第一过滤网结构设置在第一腔体结构处,第二过滤网结构设置在第二腔体结构处;第一过滤网结构包括多个第一过滤孔;第二过滤网结构包括多个第二过滤孔。
在本申请进一步的方案中,第一腔体结构从切割液的流经方向上,其截面先恒定再递减以呈漏斗形结构,漏斗形结构靠近第二腔体结构的一端设置有第一安装槽,第一过滤网结构设置在第一安装槽内。
在本申请进一步的方案中,第二腔体结构的靠近漏斗形结构的一端设置有第二安装槽,第二安装槽和第一安装槽相互匹配;第二过滤网结构设置在第二安装槽内。
在本申请进一步的方案中,第一过滤孔从第一过滤网结构的外周边沿至其凸起中心的孔径依次增大;或者,在第一过滤网结构的中心处设置一开口,开口的口径大于第一过滤孔的孔径。
在本申请进一步的方案中,第一过滤网结构包括:第一安装部,第一安装部的外缘和第一安装槽相互匹配,以将第一过滤网结构卡止在第一安装槽内;第一过滤部,设置在第一安装部内圈且相对第一安装部凸出设置,第一过滤孔设置在第一过滤部处;提手部,提手部设置在靠近所述第一腔体结构的一侧。
在本申请进一步的方案中,第一过滤网结构还包括:支撑部,设置在第一过滤部;第一过滤部的凹面设置有支撑部,支撑部使第一过滤网结构被分布成多个均分的区域,且同时使开口被分割成多个截面为扇形的孔。
在本申请进一步的方案中,过滤装置还包括磁力吸附结构,磁力吸附结构设置在第一安装部。
在本申请进一步的方案中,第二过滤网结构包括:第二安装部,第二安装部的外缘和第二安装槽相互匹配,以将述第二过滤网结构卡止在第二安装槽内;中心槽,设置在第二安装部的中心且向切割液的流经方向延伸;第二过滤部,设置在中心槽内或者中心槽远离第二安装部的端部,以对从第一过滤部流经进入中心槽的切割液进行二次过滤。
在本申请进一步的方案中,过滤装置还包括震动机构,震动机构设置在第二腔体结构的外壁上,以实现对第二过滤网结构进行振动。
在本申请进一步的方案中,第一过滤孔为150目至200目,和/或,第二过滤孔为70目至150目。
综上,本申请提供一种过滤装置,包括腔体组件和过滤组件;其中,腔体组件包括至少一能够使待过滤的切割液输入并容纳的腔体结构;过滤组件设置在腔体结构处,包括至少一层过滤网结构,过滤网结构凸面设置,且其凸出的方向和切割液的流经方向(需要说明的是,流经方向仅仅指代被过滤的切割液进入过滤装置的方向,是一种宏观方向指向,并不指代切割液具体的流动轨迹)相反;该凸面的过滤网结构相对于平面过滤网结构,在切割液通过过滤网时,可以增加过滤面积,提高过滤效率,且可防止过滤网结构堵塞;即在切割液通过过滤网的过程中,由于固体颗粒和杂质受到流体的流向惯性,和/或固体颗粒、杂质和切割液通常具有不同的质量;在切割液通过过滤网时,凸面的过滤网结构可使得固体颗粒和杂质不易于附着或者停留在过滤网结构的弧面上;同时由于凸面结构的特点,切割液中较大的杂质,会自动沿表面滑落的方式被滤在过滤网结构的边缘处;该现象有助于防止固体颗粒和杂质堵塞过滤网,从而保持过滤组件的过滤效果,提高过滤装置的可靠性。
本实用新型实施例的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以说明。
附图说明
为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施方式,对于本领域的技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例所提供的一种过滤装置的示意图;
图2为本实用新型一具体实施例所提供的过滤装置的爆炸图;
图3为本实用新型一具体实施例所提供的过滤装置的截面图;
图4为本实用新型一具体实施例所提供的第一过滤网结构和第二过滤网结构的结构示意图;
图5为本实用新型一具体实施例所提供的第一过滤网结构的俯视图;
图6为本实用新型一具体实施例所提供的第二过滤网结构的轴侧示意图。
附图标记说明:
100、过滤装置;
10、腔体组件;
11、第一腔体结构;12、第二腔体结构;
20、过滤组件;
201、过滤网结构;
21、第一过滤网结构;211、第一安装部;212、第一过滤部;213、提手部;214、支撑部;
22、第二过滤网结构;221、第二安装部;222、中心槽;223、第二过滤部;
A、第一过滤孔;B、第二过滤孔;C、第一安装槽;D、第二安装槽;E、开口。
具体实施方式
下文所出现的术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“底”、“内”、“外”、“周面”等指示方位或位置关系的描述,若无特殊的说明,则理解为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
另外,如出现限定有“第一”、“第二”仅用于描述目的的特征,不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该被限定的特征。如出现“多个”的描述,一般含义是至少包括两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,如出现“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语,应做广义理解。例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接,可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,如出现术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等,意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
参见附图1,图1表示本实用新型实施例所提供的一种过滤装置100的示意图。
该过滤装置100用于半导体材料加工过程中切割液的过滤,半导体材料可以为硅棒,硅片、硅化物、复合半导体材料等。
该实施例以硅棒切割为应用场景,在切割时需要使用切割液(一种可增加切割效率和质量的切割液),切割液循环利用,本过滤装置100安装于切割液的循环回路上。
需要说明是,在切割过程中的切割液并非为单纯的液体,而是混合有切割过程中产生的渣料的混合液,下文中过滤装置100所过滤的切割液指代该混合液。
该过滤装置100包括腔体组件10及过滤组件20;腔体组件10包括至少一能够使待过滤的切割液输入并容纳的腔体结构,过滤组件20封堵在腔体结构的内部,或者设置在腔体结构的出口处。
在本过滤装置100中,腔体组件10可引导切割液流动,且具备容纳待过滤切割液的功能。即可以在其中容纳一定量的切割液并控制其流向;将过滤组件20设置在腔体结构的内部可以使待过滤的切割液通过过滤元件进行过滤。
在本实用新型一总的构思中,过滤组件20包括至少一层过滤网结构201,且过滤网结构201凸面设置,其凸出的方向和切割液至过滤网结构201的流经方向相反。
该凸面的过滤网结构201相对于现有技术中的平面过滤网结构,在切割液通过过滤网时,凸面可以起到引导分流的作用;即在流体通过过滤网的过程中,由于固体颗粒和杂质受到流体的流向惯性,和/或固体颗粒和杂质和流体通常具有不同的质量;在切割液通过过滤网时,固体颗粒和杂质会倾向于顺着凸面的方向移动,即向过滤网的外周方向滑落,该现象有助于防止固体颗粒和杂质堵塞过滤网,从而保持过滤组件20的正常运行和过滤效果。
在一可行方案中,腔体组件10竖向设置,切割液从上至下流入腔体组件10,过滤网结构201封堵在腔体组件10内部,此时过滤网结构201设置在腔体组件10的底部并形成向上凸面,切割液沿腔体组件10的内壁至过滤网结构201的外周处向中心处流动;这种设计有助于实现从外部向内部的过滤过程,其中切割液中的固体颗粒和杂质被阻挡在过滤网结构201的外周处,而过滤后的切割液则可以进入中心区域,并通过过滤网结构201,从而实现过滤和分离。同时,由于固体颗粒和杂质在流体冲击或自身重力的作用下,在过滤过程中会置于过滤网结构201外周处沉积,避免其堆积在过滤网结构201上面,在此过程中可有效防止过滤网结构201堵塞。
综上,腔体组件10通过提供切割液输入输出、容纳、流体密封和结构稳固的空间,为待过滤的切割液的处理和操作提供了一个稳定、可靠的过滤区域。过滤组件20设置于腔体组件10内部,以对切割液进行过滤。过滤网结构201通过凸面设计,且凸出的方向和切割液的流经方向相反,从而使得切割液中的固体颗粒和杂质不易在凸面停留,降低过滤网结构201发生堵塞的风险,确保过滤装置10的正常运行,减少维护的频率和工作停机时间,节约维护成本。
本领域技术人员应当理解,图1所示的腔体组件10仅作为示例,根据使用场景的不同,过滤网结构201并不限于如图1所示的半球凸面,也可以是其他的弧面形状;腔体组件10也可以其他方向设置,过滤网结构201适应性的设置在腔体组件10内部,如腔体组件10横向设置,过滤网结构201竖向设置在腔体组件10内部,通过凸面的过滤网结构201使得切割液中的固体颗粒和杂质难以抵达过滤网结构201上部,即停留在过滤网结构201的底部,从而实现过滤网结构201防堵的效果;该方式同样属于本实用新型实施例所涵盖的保护范围内。
以下提供一个具体的实施例:
参见图2和图3,所示为本实用新型的优选实施例的一种过滤装置100的爆炸图和截面图。
该过滤装置100包括腔体组件10及过滤组件20。
腔体组件10包括沿切割液的流经方向上依次设置的第一腔体结构11和第二腔体结构12,过滤组件20包括第一过滤网结构21和第二过滤网结构22;其中,第一过滤网结构21设置在第一腔体结构11处,第二过滤网结构22设置在第二腔体结构12处;从图示中,通过第一腔体结构11设置在第二腔体结构12的上侧。切割液首先流经第一腔体结构11,再进入第二腔体结构12。由于第一腔体结构11和第二腔体结构12的设置,切割液在进入第二腔体结构12之前就可以对较大的颗粒物质进行预过滤,可以去除较大的颗粒和杂质,如加工过程中的硅片碎料、大块硅泥等,进而在第二过滤网结构22处再过滤较小的颗粒和杂质,从而实现分级过滤,可以降低整个过滤装置100的堵塞风险,延长其使用寿命。
同时,由于预过滤去除了大部分的较大颗粒物质,第二过滤网结构22的过滤效果更为细腻和精确,可以更好地满足对细小颗粒和杂质的过滤需求,提高切削液的洁净度。
进一步地,请结合图2至图3,并继续参阅图4至图6,图4为第一过滤网结构21和第二过滤网结构22的结构示意图;图5为第一过滤网结构21的俯视图,图6为第二过滤网结构22的轴侧示意图。
第一过滤网结构21包括多个第一过滤孔A;第二过滤网结构22包括多个第二过滤孔B;第一过滤网结构21和第二过滤网结构22中的过滤孔类型以及大小可以相同或者不同,如圆孔、槽孔或类似的通孔。这样的设计可以满足不同粒径的固体颗粒和杂质的过滤需求。
本申请可选的方案中,第一过滤孔的过滤目数为150目至200目,和/或,第二过滤孔的过滤目数为70目至150目。
继续参阅图2和图3,在本实用新型实施例中,第一腔体结构11从切割液的流经方向上,其截面先恒定再递减以呈漏斗形结构,上部为收集仓,用于收集循环中的切削液。下部为引流功能的漏斗腔,第一过滤网结构21设置在第一腔体结构11的底部,使得切割液从第一腔体结构11的内壁处至第一过滤网结构21,从而切割液中更多的较大颗粒物质和杂质滞留在第一过滤网结构21的外周处。
在本实用新型实施例中,第一腔体结构11中的收集仓和漏斗腔可分体设置或者一体化设计。
进一步,第一腔体结构11靠近第二腔体结构12的一端设置有第一安装槽C,第一过滤网结构21设置在第一安装槽C内;第二腔体结构12的靠近第一腔体结构11从的一端设置有第二安装槽D,第二安装槽D和第一安装槽C相互匹配;第二过滤网结构22设置在第二安装槽D内。通常来说,切割硅片运行一定的周期,第一过滤网结构21和第二过滤网结构22分别从第一安装槽C和第二安装槽D中拆装,通过第一过滤网结构21和第二过滤网结构22的可拆装设置,便于第一过滤网结构21和第二过滤网结构22的清洗和更换。
上述“第一安装槽C和第二安装槽D相互匹配”示意为,在第一腔体结构11和第二腔体结构12装配的情况下,第一安装槽C的尺寸可完全盖住第二安装槽,以使得第一过滤网结构21覆盖在第二过滤网结构22的上部。
在第一过滤网结构21和第一安装槽C的连接处,以及第二过滤网结构22和第二安装槽D的连接处,可设置有密封垫片,如橡胶垫圈,以使第一过滤网结构21和第二过滤网结构22和安装槽之间均为过盈连接,填补两者之间的间隙以实现密封,避免切割液泄漏。
更进一步地,第一过滤孔A从第一过滤网结构21的外周边沿至其凸起中心的孔径依次增大;或者在第一过滤网结构21的中心处设置一开口E,开口E的口径大于第一过滤孔A的孔径。
可理解,前者在于第一过滤孔A渐进式的从外围至中心逐渐增大,后者如图5所示,即第一过滤网A中间开设一开口E,其均可使得切割液中的颗粒物质和杂质,在第一过滤网结构21的外周处被孔径更小的第一过滤孔A过滤,随着切割液的增多和/或边缘处的第一过滤孔A发生堵塞,在第一腔体结构11中切割液的液位逐渐增高,切割液仍然可以从更大的第一过滤孔A或者开口E处流下,彻底避免了堵塞所引起切削液在循环中断流的现象,提高装置的可靠性。
继续参阅图2和图5,第一过滤网结构21包括第一安装部211、第一过滤部212及提手部213。具体地,第一安装部211为环状结构,其外缘和第一安装槽C相互匹配,以将第一过滤网结构21整个卡止在第一安装槽C内;第一过滤部212连接在第一安装部211内圈且相对第一安装部211凸出设置,第一过滤孔A设置在第一过滤部212处,即形成凸面的过滤网;提手部213设置在第一安装部211靠近所述第一腔体结构11的一侧,即第一安装部211的上表面,方便用户更换第一过滤网结构21。
进一步,第一过滤网结构21还包括支撑部214,支撑部214连接在第一安装部211上且设置在第一过滤部212背离第一腔体结构11的一侧;支撑部214使第一过滤网结构21被分布成多个均分的区域,且同时使开口E被分割成多个截面为扇形的孔。支撑部214一方面可保证第一过滤部212的支撑强度,增强其承载能力,避免固体颗粒和杂质的堆积,导致第一过滤部212变形塌陷;另一方面,支撑部214可还在开口E处起到一定拦截效果,避免固体物质直接从开口E处意外落下。
过滤装置100还包括磁力吸附结构(图未示出),如磁片、磁条等,磁力吸附结构设置在第一安装部211。在切割液循环过程中,切割液中的金属线头、会吸附在第一安装部211,避免其进入第二腔体结构12内部,同时也可更好地拆卸和清理。
参阅图6可知,第二过滤网结构22为一桶状结构,包括第二安装部221、中心槽222及第二过滤部223;其中,第二安装部221为环状,其外缘同样和第二安装槽D相互匹配,以将述第二过滤网结构22卡止在第二安装槽D内;中心槽222设置在第二安装部221的中心且向切割液的流经方向延伸;其中,中心槽222的直径小于第二安装部221的直径,以使得第二安装部221相对中心槽222的外壁凸出,以便和第二安装槽D卡止并实现更好地固定和密封效果。第二过滤部223设置在中心槽222内或者中心槽222远离第二安装部221的端部,以对从第一过滤部212流经进入中心槽222的切割液进行二次过滤。
可理解,在经由第一过滤网结构21过滤后的切割液,仅包含硅粉颗粒等一些细小杂质,通过第二过滤部223更小的第二过滤孔B实现对其二次过滤,使得切割液在循环过程中过滤的更为细化,侧面提高硅片切割质量及工艺精度。
在本实用新型实施例中,过滤装置100还包括震动机构(图未示出),震动机构设置在第二腔体结构12的外壁上,第二过滤网结构22在震动机构启动后产生细微振动,以将附着在第二过滤网B上的硅粉颗粒抖落,避免第二过滤网B发生堵塞。
在一种可选的方式中,震动机构采用震板,可利用法兰式震板紧密连接在第二腔体结构12的外壁上,将机械振动传递到第二腔体结构12中的第二过滤网结构22处,使其开始振动。通过振动可以增加过滤网的过滤效率,同时也有助于清除过滤网上的积聚物,如硅粉颗粒,从而进一步避免第二过滤网结构22发生堵塞,提高过滤效果。
综上,本实用新型实施例所提供一种针对于硅片切割制造中切割液循环的过滤装置100,包括第一腔体结构11和第二腔体结构12,第一腔体结构11内包括第一过滤网结构21,第二腔体结构12内包括第二过滤网结构22,采用双过滤网分级过滤,可提高过滤效果,同时第一过滤网结构21和第二过滤网结构22均为凸面设置,增加过滤面积提高过滤效率,且可防止切割液中的固体颗粒和杂质停留在过滤网面上,减少堵塞的风险。本过滤装置100在第一过滤网结构21处加入磁力吸附结构,可以吸附切割液中的金属铁质杂质,如钢线头等,防止其落入第二腔体结构12中。同时在第二腔体结构12的外壁上均增加震动机构,震动机构可以使第二过滤网结构22上的硅粉等颗粒松散,减少其在第二过滤网结构22的吸附情况,进一步避免第二过滤网结构22堵塞。
进一步,本领域技术人员应当理解,如果将本实用新型实施例所提供的过滤装置100各产品所涉及到的全部或部分子模块通过稠合、简单变化、互相变换等方式进行组合、替换,如各组件摆放移动位置,或者设计一种切割液循环系统、切割设备;或者可拆卸设计;或者将其所构成的产品一体设置,如第一腔体结构11和第二腔体结构12进行一体化设计;凡组合后的组件可以组成具有特定功能的设备/装置/系统,用这样的设备/装置/系统代替本实用新型相应组件同样落在本实用新型的保护范围内。
以上描述的各技术特征可以任意地组合。尽管未对这些技术特征的所有可能组合进行描述,但这些技术特征的任何组合都应当被认为由本说明书涵盖,只要这样的组合不存在矛盾。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明,本领域的技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行调节,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些调节或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种过滤装置,用于半导体材料加工过程中切割液的过滤,其特征在于,包括:
腔体组件(10),包括至少一能够使待过滤的切割液输入并容纳的腔体结构;
过滤组件(20),设置在所述腔体结构处,包括至少一层过滤网结构(201),其中,所述过滤网结构(201)凸面设置,且其凸出的方向和切割液的流经方向相反。
2.根据权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,所述腔体组件(10)包括沿切割液的流经方向上依次设置第一腔体结构(11)和第二腔体结构(12);所述过滤组件包括第一过滤网结构(21)和第二过滤网结构(22);
所述第一过滤网结构(21)设置在第一腔体结构(11)处,所述第二过滤网结构(22)设置在第二腔体结构(12)处;所述第一过滤网结构(21)包括多个第一过滤孔(A);所述第二过滤网结构(22)包括多个第二过滤孔(B)。
3.根据权利要求2所述的过滤装置,其特征在于,
所述第一腔体结构(11)从切割液的流经方向上,其截面先恒定再递减以呈漏斗形结构,所述第一腔体结构(11)靠近所述第二腔体结构(12)的一端设置有第一安装槽(C),所述第一过滤网结构(21)设置在所述第一安装槽(C)内;
所述第二腔体结构(12)靠近所述第一腔体结构(11)的一端设置有第二安装槽(D),所述第二腔体结构(12)靠近所述第一腔体结构(11)的一端,设置有对应所述第一安装槽(C)设置的第二安装槽(D),所述第二过滤网结构(22)设置在所述第二安装槽(D)内。
4.根据权利要求3所述的过滤装置,其特征在于,
所述第一过滤孔(A)从所述第一过滤网结构(21)的外周边沿至其凸起中心的孔径依次增大;或者;
在所述第一过滤网结构(21)的中心处设置一开口(E),所述开口(E)的口径大于所述第一过滤孔(A)的孔径。
5.根据权利要求4所述的过滤装置,其特征在于,所述第一过滤网结构(21)包括:
第一安装部(211),所述第一安装部(211)的外缘和所述第一安装槽(C)相互匹配,以将所述第一过滤网结构(21)卡止在所述第一安装槽(C)内;
第一过滤部(212),设置在所述第一安装部(211)内圈且相对所述第一安装部(211)凸出设置,所述第一过滤孔(A)设置在所述第一过滤部(212)处;
提手部(213),所述提手部(213)设置在所述第一安装部(211)靠近所述第一腔体结构(11)的一侧。
6.根据权利要求5所述的过滤装置,其特征在于,所述第一过滤网结构(21)还包括:
支撑部(214),连接在第一安装部(211)上且设置在所述第一过滤部(212)背离第一腔体结构(11)的一侧;
所述支撑部(214)使所述第一过滤网结构(21)被分布成多个均分的区域,且同时使所述开口(E)被分割成多个截面为扇形的孔。
7.根据权利要求5所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤装置还包括磁力吸附结构,所述磁力吸附结构设置在所述第一安装部(211)。
8.根据权利要求5所述的过滤装置,其特征在于,所述第二过滤网结构(22)包括:
第二安装部(221),所述第二安装部(221)的外缘和所述第二安装槽(D)相互匹配,以将述第二过滤网结构(22)卡止在所述第二安装槽(D)内;
中心槽(222),设置在所述第二安装部(221)的中心且向切割液的流经方向延伸;
第二过滤部(223),设置在所述中心槽(222)内或者所述中心槽(222)远离所述第二安装部(221)的端部,所述第二过滤孔(B)设置在所述第二过滤部(223),以对从所述第一过滤部(212)流经进入所述中心槽(222)的切割液进行二次过滤。
9.根据权利要求2-8任一项所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤装置还包括震动机构,所述震动机构设置在所述第二腔体结构(12)的外壁上。
10.根据权利要求9所述的过滤装置,其特征在于,所述第一过滤孔(A)为150目至200目,和/或,所述第二过滤孔(B)为70目至150目。
Priority Applications (1)
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CN202323103265.8U CN221771685U (zh) | 2023-11-16 | 2023-11-16 | 一种过滤装置 |
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CN221771685U true CN221771685U (zh) | 2024-09-27 |
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2023
- 2023-11-16 CN CN202323103265.8U patent/CN221771685U/zh active Active
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