CN221695273U - 一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，属于均一金属颗粒制备领域，主体的顶部设置有进料孔，主体的侧壁上对称开设有凹槽，凹槽内设置有永磁体；主体侧壁上开设有与凹槽垂直分布的电极孔，电极孔内设置有电极；主体的底部设置有喷头安装孔，喷头安装孔内设置有喷头。本实用新型的电磁扰动装置与现有的电磁扰动发生装置相比，体积缩小了数倍，能够在同一平台上安装多个本喷嘴，使生产效率提高数倍，同时，外置永磁体和电极可更换设计，便于安装和后期更换，解决了现有装置生产效率低，电磁射流扰动装置体积过大，安装和更换繁琐等问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及均一金属颗粒制备领域，尤其涉及一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴。
背景技术
均一金属颗粒在许多领域具有广泛的应用，如材料科学、催化剂、电子器件等。然而，传统的金属颗粒制备方法存在着颗粒尺寸不均匀、形状不规则、组成不纯等问题，限制了其在高端应用中的应用。为解决这一问题引入了射流扰动技术，射流扰动技术中的电磁射流扰动因容易实现无接触驱动，不会产生机械磨损，结构简单的特点被应用于高质量均一金属颗粒的生产中。
目前已公布的装置中的电磁扰动发生装置包括：不锈钢电极板，永磁铁提供的恒定磁场强度，扰动电磁力发生腔，在扰动电磁力发生腔的两相对的侧面各设有一个不锈钢电极板，两电极板平行相对，在扰动电磁力发生腔内两平行相对的不锈钢电极板之间加有永磁铁提供的恒定磁场，恒定磁场的磁场方向平行于不锈钢电极板。扰动电磁力发生腔外侧设有融化加热线圈。电磁扰动发生装置主体为扰动电磁力发生腔，其他部件安装设置在扰动电磁力发生腔内。在实际生产中存在着体积过大，安装更换部件过于繁琐，需要整体拆卸后再进行更换，同时一个平台只有一个喷嘴，生产效率难以大幅度提升，无法采用多喷嘴方案来提高生产效率。所以需要一种体积小巧，便于安装和更换的新型喷嘴。
目前，主要通过射流扰动技术生产均一焊球。中国专利CN202110174793.9公布了一种电磁扰动和流动聚焦制备芯片级封装用微焊球的装置，涉及一种射流扰动技术和流动聚焦技术的协同配合制备10-200um之间均一焊球的新技术。中国专利CN201911344572.0公开了一种压差调控与电磁扰动制备均一金属颗粒的试验装置，涉及一种射流模式的微喷装置。该装置提供适用于微焊球(如锡及其合金)及其它金属颗粒的高频高质。该装置利用电磁扰动发生器产生射流扰动断裂所需的均一扰动。中国专利CN201220401660.7公开了一种射流断裂法制球装置,它涉及一种制球装置，该装置利用电磁激振器产生射流扰动断裂所需的均一扰动。
上述现有设备中均存在单喷嘴生产效率低下，电磁射流扰动装置体积过大，不便于安装及更换等技术问题。基于此，本实用新型提出了一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，解决上述提到的问题。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
本实用新型一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，包括主体，所述主体的顶部设置有进料孔，所述主体的侧壁上对称开设有凹槽，所述凹槽内设置有永磁体；所述主体侧壁上开设有与所述凹槽垂直分布的电极孔，所述电极孔内设置有电极；所述主体的底部设置有喷头安装孔，所述喷头安装孔内设置有喷头。
进一步的，所述主体的内部为空腔结构。
进一步的，所述进料孔为外螺纹孔结构。
进一步的，所述电极孔和电极之间螺纹连接在一起。
进一步的，所述永磁体嵌入到所述凹槽内。
进一步的，所述喷头安装孔为内螺纹孔结构，所述喷头上设置有与所述喷头安装孔相配合的外螺纹结构。
与现有技术相比，本实用新型的有益技术效果：
该实用新型利用液态金属流道壁设置电磁扰动发生装置的设计，在主体外壁正对放置永磁体产生磁场，两电极孔连接的电极将高频脉冲电流传导给液态金属，构成了电磁扰动发生装置，以液态金属为介质将扰动传递至喷头处的射流液柱端头，使金属射流液柱端头断裂，形成均一的金属颗粒。本实用新型的电磁扰动装置与现有的电磁扰动发生装置相比，体积缩小了数倍，能够在同一平台上安装多个本喷嘴，使生产效率提高数倍，同时，外置永磁体和电极设置，便于后期的更换和安装，解决了现有装置生产效率低，电磁射流扰动装置体积过大，安装和更换繁琐等问题。
附图说明
下面结合附图说明对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型基于电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴结构示意图；
图2为主体剖视图；
图3为主体侧视图；
图4为喷头结构图；
附图标记说明：1、主体；101、进料孔；102、凹槽；103、电极孔；104、喷头安装孔；2、永磁体；3、电极；4、喷头。
具体实施方式
如图1-4所示，一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，包括主体1，所述主体1的顶部一体成型有进料孔101，所述主体1的侧壁上对称开设有凹槽102，所述凹槽102内安装有永磁体2。所述主体1侧壁上开设有与所述凹槽102垂直分布的电极孔103，所述电极孔103内安装有电极3。所述主体1的底部设置有喷头安装孔104，所述喷头安装孔104内安装有喷头4。
所述主体1的内部为空腔结构。
所述进料孔101为外螺纹孔结构。
所述电极孔103和电极3之间螺纹连接在一起。
所述永磁体2嵌入到所述凹槽102内。
所述喷头安装孔104为内螺纹孔结构，所述喷头4上设置有与所述喷头安装孔104相配合的外螺纹结构。
本实用新型的动作过程如下：
首先，液态金属由进料孔101进入主体1内，流经主体1流道构成的电磁扰动发生腔体，电磁扰动发生腔体内有两个永磁体2产生的磁场，两个电极3将高频脉冲电流传导给液态金属，以液态金属为介质在腔体内产生周期性变化的脉冲电磁扰动，产生的扰动作用在喷头4出口的射流液柱端头，使金属射流液柱端头断裂，形成均一的金属颗粒。
以上所述的实施例仅是对本实用新型的优选方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本实用新型权利要求书确定的保护范围内。
Claims (6)
1.一种电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：包括主体(1)，所述主体(1)的顶部设置有进料孔(101)，所述主体(1)的侧壁上对称开设有凹槽(102)，所述凹槽(102)内设置有永磁体(2)；所述主体(1)侧壁上开设有与所述凹槽(102)垂直分布的电极孔(103)，所述电极孔(103)内设置有电极(3)；所述主体(1)的底部设置有喷头安装孔(104)，所述喷头安装孔(104)内设置有喷头(4)。
2.根据权利要求1所述的电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：所述主体(1)的内部为空腔结构。
3.根据权利要求1所述的电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：所述进料孔(101)为外螺纹孔结构。
4.根据权利要求1所述的电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：所述电极孔(103)和电极(3)之间螺纹连接在一起。
5.根据权利要求1所述的电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：所述永磁体(2)嵌入到所述凹槽(102)内。
6.根据权利要求1所述的电磁射流扰动技术制备均一金属颗粒的磁流体喷嘴，其特征在于：所述喷头安装孔(104)为内螺纹孔结构，所述喷头(4)上设置有与所述喷头安装孔(104)相配合的外螺纹结构。
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