CN221099824U - 一种介质辐射的料位测量装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种介质辐射的料位测量装置，该装置包括固定在被测装置上的放射源安装支架、料位探测器安装支架和介质辐射本底测量探测器安装支架。所述放射源安装支架上设有放射源；所述料位探测器安装支架上设有料位测量探测器；所述放射源与所述料位测量探测器分别安装在所述被测装置的两侧；所述介质辐射本底测量探测器安装支架上设有介质辐射本底测量探测器，该介质辐射本底测量探测器垂直安装于所述放射源与所述料位测量探测器连接而成的水平线；所述介质辐射本底测量探测器与所述料位测量探测器级联。本实用新型在避免介质本身辐射能量的干扰下可实现料位的精准测量。

Description

一种介质辐射的料位测量装置

技术领域

本实用新型涉及工业用放射性仪表领域，尤其涉及一种介质辐射的料位测量装置。

背景技术

工业用放射性仪表测量系统由两部分构成，第一部分为仪表测量当中的“能量发射源”，其由放射源及防护罐构成；第二部分为仪表测量当中的“能量接受端”，其由放射性仪表构成。在工业放射性料位计使用过程当中，放射性仪表通过接收放射源所发出的射线能量的大小，从而判断被测装置内部介质的实时料位。当被测装置内部无介质存在及空罐状态时，此时放射源所发出的射线由于没有内部介质的阻碍，放射性仪表接收到的射线能量最大；当装置内部有介质阻碍时，放射性仪表接收到的射线能量随着装置内部介质的多少而呈现一种线性变化，通过数据处理这一线性变化从而实时检测介质料位。

化工行业部分装置内的介质本身带有辐射能量，其介质自身所产生的射线能量与放射源所发出的射线能量会起冲突。放射性仪表实时接收射线能量，通过判断射线能量的大小而确定装置内部介质的料位，当装置内部无介质存在时，此时放射性仪表无干扰项存在可正常工作；当装置内部有介质存在时，按照放射性仪表的料位测量原理，由于介质对射线能量的阻碍作用，介质越多，放射性仪表接收到的射线能量越小，若介质本身带有辐射能量，此时介质越多，介质本身产生的辐射能量越大，放射性仪表接收到的射线能量越大，干扰放射性仪表对装置内部介质的料位精准测量，其此时的线性曲线与正常介质状态下的线性曲线呈现相反趋势。因此，当被测介质本身具有辐射能量存在时，必须重新设计测量方案。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种在避免介质本身辐射能量的干扰下实现料位精准测量的介质辐射的料位测量装置。

为解决上述问题，本实用新型所述的一种介质辐射的料位测量装置，其特征在于：该装置包括固定在被测装置上的放射源安装支架、料位探测器安装支架和介质辐射本底测量探测器安装支架；所述放射源安装支架上设有放射源；所述料位探测器安装支架上设有料位测量探测器；所述放射源与所述料位测量探测器分别安装在所述被测装置的两侧；所述介质辐射本底测量探测器安装支架上设有介质辐射本底测量探测器，该介质辐射本底测量探测器安装于所述放射源与所述料位测量探测器水平连线的垂直切线方向；所述介质辐射本底测量探测器与所述料位测量探测器级联。

所述放射源的射线发出方向与所述料位测量探测器在同一方向上。

所述放射源安装支架、所述料位探测器安装支架和所述介质辐射本底测量探测器安装支架均安装在所述被测装置的侧壁。

所述料位测量探测器和所述介质辐射本底测量探测器均为TH-2010型γ射线探测器。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点：

1、本实用新型在不改变仪表测量使用的放射源数量和测量效果的情况下，通过加装放射性仪表辅助测量仪表，在原有基础上改变放射性仪表测量系统，消除介质自身辐射能量的干扰，满足仪表测量要求，以最小的成本，从测量原理的根本上解决辐射介质的料位精准测量难题。

2、本实用新型通过在原有测量模式的基础之上添加介质辐射本底测量探测器，对介质本身所发出的射线能量实时检测，通过与料位测量探头级联的方式，将所测的介质本身射线能量数据传输于料位测量探头，并通过内部数据处理，将料位测量探头所测得的放射源发出的射线能量与介质本身的射线能量区分、辨别以及消除介质辐射本身的射线能量干扰，从而能够精准测量被测装置内部自带辐射能量的介质料位。

3、与传统放射性料位计相比，本实用新型外部测量系统的构成新增了一个介质辐射本底测量探测器；内部的测量原理逻辑上与以往多探头级联方式的料位直接测量对比，修改了运行级联探头与料位测量主探头的内部数据处理计算逻辑。

3、采用本实用新型装置，可消除介质本身所带有的辐射能量的干扰，以最低的成本使得仪表在避免介质本身辐射能量的干扰下，实现了料位的精准测量。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的安装示意图。

图3为本实用新型的安装俯视图。

图4为本实用新型的测试流程图。

图中：1—放射源；2—料位测量探测器；3—介质辐射本底测量探测器；4—放射源安装支架；5—料位探测器安装支架；6—介质辐射本底测量探测器安装支架。

具体实施方式

如图1~3所示，一种介质辐射的料位测量装置，该装置包括固定在被测装置上的放射源安装支架4、料位探测器安装支架5和介质辐射本底测量探测器安装支架6。放射源安装支架4上设有放射源1；料位探测器安装支架5上设有料位测量探测器2；放射源1与料位测量探测器2分别安装在被测装置的两侧；介质辐射本底测量探测器安装支架6上设有介质辐射本底测量探测器3，该介质辐射本底测量探测器3安装于放射源1与料位测量探测器2水平连线的垂直切线方向；介质辐射本底测量探测器3与料位测量探测器2级联。

其中：放射源1为整个测量系统的“能量发射源”，为料位测量探测器2提供能量来源。其功能是：发出辐射能量，穿透被测介质，从而为料位测量探测器2提供测量线性数据。安装时放射源1的射线发出方向与料位测量探测器2在同一方向上。

料位测量探测器2的功能是：①检测放射源1发出的辐射能量和介质本身发出的辐射能量；②接收介质辐射本底测量探测器3传输过来的电信号；③对检测到的辐射射线进行数据处理，对比接收到的介质辐射本底测量探测器3传输过来的数据，留存放射源1发出的辐射能量并将转换后的电信号传输至DCS。

介质辐射本底测量探测器3接收辐射介质本身所发出的射线能量。其功能是：①检测介质本身料位变化引起的辐射能量变化；②将检测到的介质本身辐射能量变化实时转化为电信号传输至料位测量探测器2。

料位测量探测器2和介质辐射本底测量探测器3均采用天华化工机械及自动化研究设计院有限公司生产的TH-2010型γ射线探测器。

放射源安装支架4、料位探测器安装支架5和介质辐射本底测量探测器安装支架6均安装在被测装置的侧壁。

本实用新型中，介质辐射本底测量探测器3作为料位测量探测器2的副探头，二者级联连接，介质辐射本底测量探测器3由于其安装位置不在放射源1所发出的射线方向上，故其实时检测设备内部介质本身的射线能量大小；料位测量探测器2实时检测放射源1通过被测介质后所剩余的射线能量，以及设备内部介质变化，由介质本身引起的射线能量。

本实用新型的测试流程如图4所示。首先，启动放射源1、料位测量探测器2和介质辐射本底测量探测器3；然后，放射源1和介质本身分别发出射线，料位测量探测器2分别检测放射源1和介质本身发出的射线，同时介质辐射本底测量探测器3检测介质本身发出的射线；通过将介质辐射本底测量探测器3所检测的数据级联传输于料位测量探测器2进行数据处理，实时比对、分化料位测量探测器2所检测到的射线能量数据，通过内部计算单元去除介质本身产生的射线能量，判断是否为真实液位：如不是，则重新进行数据处理；如是，则将实际设备内部的介质料位数据转换为电流信号传输于DCS显示。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种介质辐射的料位测量装置，其特征在于：该装置包括固定在被测装置上的放射源安装支架（4）、料位探测器安装支架（5）和介质辐射本底测量探测器安装支架（6）；所述放射源安装支架（4）上设有放射源（1）；所述料位探测器安装支架（5）上设有料位测量探测器（2）；所述放射源（1）与所述料位测量探测器（2）分别安装在所述被测装置的两侧；所述介质辐射本底测量探测器安装支架（6）上设有介质辐射本底测量探测器（3），该介质辐射本底测量探测器（3）安装于所述放射源（1）与所述料位测量探测器（2）水平连线的垂直切线方向；所述介质辐射本底测量探测器（3）与所述料位测量探测器（2）级联。

2.如权利要求1所述的一种介质辐射的料位测量装置，其特征在于：所述放射源（1）的射线发出方向与所述料位测量探测器（2）在同一方向上。

3.如权利要求1所述的一种介质辐射的料位测量装置，其特征在于：所述放射源安装支架（4）、所述料位探测器安装支架（5）和所述介质辐射本底测量探测器安装支架（6）均安装在所述被测装置的侧壁。

4.如权利要求1所述的一种介质辐射的料位测量装置，其特征在于：所述料位测量探测器（2）和所述介质辐射本底测量探测器（3）均为TH-2010型γ射线探测器。