CN220994145U - 一种实用性强的抛釉磨具 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及瓷砖抛釉领域，具体公开了一种实用性强的抛釉磨具，包括夹持头、缓冲垫、打磨块，缓冲垫固定于夹持头与打磨块之间，打磨块设置为圆台型结构，打磨块远离缓冲垫的一端设置有倒角部，打磨块设置有多排，打磨块的直径沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排减小，缓冲垫上相邻两排打磨块之间设置有第一排屑槽，每排上相邻两打磨块之间设置有第二排屑槽，第一排屑槽与第二排屑槽相互连通。通过本实用新型的技术方案，能够使多排打磨块同步消耗，进而能够使该磨具对瓷砖的抛光打磨效果更好更加均匀，能够使该磨具的抛光效率更高，并且能够有效避免相邻两个打磨块发生碰撞，进而能够有效避免瓷砖上出现划痕。

Description

一种实用性强的抛釉磨具

技术领域

本实用新型涉及瓷砖抛釉行业领域，特别涉及了一种实用性强的抛釉磨具。

背景技术

目前，抛釉磨具为釉面抛光的主要磨具，其安装在抛光机的磨头上，以用于对釉砖进行抛光。

现有的抛釉磨具，通常打磨块设置为矩形柱、菱形柱等形状结构，相邻两个打磨块容易发生碰撞，当磨具高速旋转磨抛时，被其抛光后的加工面上沿运动轨迹方向容易出现一道道的磨痕，从而影响磨抛的质量；另外，由于磨具需要随时改变角度打磨釉砖的表面或者边角等位置，磨具两边的打磨块较其中间的打磨块消耗较快，使得现有的抛釉磨具上，容易出现磨具上打磨块消耗不同步的现象，进而容易出现打磨效果不均匀的现象，并且影响磨具的抛光效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种实用性强的抛釉磨具，旨在解决现有技术中磨具高速旋转磨抛时加工面上沿运动轨迹方向容易出现磨痕、容易出现磨具上打磨块消耗不同步的现象、容易出现打磨效果不均匀的现象、影响磨具的抛光效率的问题。

为了达到上述的目的，本实用新型提供了一种实用性强的抛釉磨具，包括夹持头、缓冲垫、打磨块，缓冲垫固定于夹持头与打磨块之间，打磨块设置为圆台型结构，打磨块远离缓冲垫的一端设置有倒角部，打磨块设置有多排，打磨块的直径沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排减小，缓冲垫上相邻两排打磨块之间设置有第一排屑槽，每排上相邻两打磨块之间设置有第二排屑槽，第一排屑槽与第二排屑槽相互连通。

优选的，打磨块的分布密度沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排增加。

优选的，打磨块包括有三组，每组所述打磨块分别分布有两排，六排所述打磨块关于缓冲垫水平中轴线方向对称分布。

优选的，以夹持头为基础，第二排屑槽水平方向、竖直方向上均设置为倾斜方向，水平方向上、竖直方向上第二排屑槽的倾斜角度均为45°-85°。

优选的，水平方向上、竖直方向上第二排屑槽的倾斜角度均为80°。

优选的，缓冲垫朝向打磨块的一端面设置为凸起的弧形结构。

优选的，缓冲垫分别与夹持头、打磨块粘接连接。

本实用新型所提供的一种实用性强的抛釉磨具，能够使多排打磨块同步消耗，进而能够使该磨具对瓷砖的抛光打磨效果更好更加均匀，能够使该磨具的抛光效率更高，并且能够有效避免相邻两个打磨块发生碰撞，进而能够有效避免瓷砖上出现划痕。

附图说明

图1为本实用新型的一种实用性强的抛釉磨具的结构示意图；

图2为本实用新型的一种实用性强的抛釉磨具的打磨块的结构示意图；

图3为本实用新型的一种实用性强的抛釉磨具的局部剖视结构示意图。

附图标记说明：1、夹持头；2、缓冲垫；21、第一排屑槽；22、第二排屑槽；3、打磨块；31、倒角部。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本实用新型作详细说明。

在本实用新型中，除另有明确规定和限定，当出现术语如“设置在”、“相连”、“连接”时，这些术语应作广义去理解，例如，可以是固定连接、可拆卸连接或一体连接；可以是直接相连或通过一个或多个中间媒介相连。对于本领域技术人员而言，可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。对于本实用新型中所出现的方向词，是为了能更好地对特征的特点及特征间的关系进行说明，应当理解的是，当本实用新型的摆放方向发生改变时，特征的特点及特征间的关系的方向也对应发生改变，因此方向词不构成对特征的特点及特征间的关系在空间内的绝对限定作用，仅起到相对限定作用。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种实用性强的抛釉磨具技术方案：包括夹持头1、缓冲垫2、打磨块3，缓冲垫2固定于夹持头1与打磨块3之间，打磨块3设置为圆台型结构，打磨块3远离缓冲垫2的一端设置有倒角部31，打磨块3设置有多排，打磨块3的直径沿远离缓冲垫2的水平中轴线方向逐排减小，缓冲垫2上相邻两排打磨块3之间设置有第一排屑槽21，每排上相邻两打磨块3之间设置有第二排屑槽22，第一排屑槽21与第二排屑槽22相互连通。

通过采用上述技术方案，能够使多排打磨块3同步消耗，进而能够使该磨具对瓷砖的抛光打磨效果更好更加均匀，能够使该磨具的抛光效率更高，并且能够有效避免相邻两个打磨块3发生碰撞，进而能够有效避免瓷砖上出现划痕，使该磨具的实用性更强。

本实施例中，打磨块3的分布密度沿远离缓冲垫2的水平中轴线方向逐排增加。优选地，打磨块3包括有三组，每组所述打磨块3分别分布有两排，六排所述打磨块3关于缓冲垫2水平中轴线方向对称分布，能够使该磨具对瓷砖打磨的更均匀，并且能够提高该模具的抛光效率。

本实施例中，以夹持头1为基础，第二排屑槽22水平方向、竖直方向上均设置为倾斜方向，水平方向上、竖直方向上第二排屑槽22的倾斜角度均为45°-85°。优选地，水平方向上、竖直方向上第二排屑槽22的倾斜角度均为80°，实现该磨具抛光时的排屑，避免废屑在打磨块3与打磨块3之间的缝隙以及缓冲垫2表面堆积，并且能够有效避免因缓冲垫2弹性回缩出现漏抛的现象，并且能使该磨具具有一定的保水量，避免其过热。

本实施例中，缓冲垫2朝向打磨块3的一端面设置为凸起的弧形结构，能够使该磨具更好的与釉砖贴合，进而能够有效避免出现漏抛的现象，使该磨具的实用性更强。

本实施例中，缓冲垫2分别与夹持头1、打磨块3粘接连接，保证该磨具的实用性和牢固性。

在不冲突的情况下，上述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (7)

1.一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：包括夹持头、缓冲垫、打磨块，缓冲垫固定于夹持头与打磨块之间，打磨块设置为圆台型结构，打磨块远离缓冲垫的一端设置有倒角部，打磨块设置有多排，打磨块的直径沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排减小，缓冲垫上相邻两排打磨块之间设置有第一排屑槽，每排上相邻两打磨块之间设置有第二排屑槽，第一排屑槽与第二排屑槽相互连通。

2.根据权利要求1所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：打磨块的分布密度沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排增加。

3.根据权利要求2所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：打磨块包括有三组，每组所述打磨块分别分布有两排，六排所述打磨块关于缓冲垫水平中轴线方向对称分布。

4.根据权利要求1所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：以夹持头为基础，第二排屑槽水平方向、竖直方向上均设置为倾斜方向，水平方向上、竖直方向上第二排屑槽的倾斜角度均为45°-85°。

5.根据权利要求4所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：水平方向上、竖直方向上第二排屑槽的倾斜角度均为80°。

6.根据权利要求1所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：缓冲垫朝向打磨块的一端面设置为凸起的弧形结构。

7.根据权利要求1所述的一种实用性强的抛釉磨具，其特征在于：缓冲垫分别与夹持头、打磨块粘接连接。