CN220940598U - 均匀分布式填料塔 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及填料塔领域，尤其是均匀分布式填料塔。该填料塔包括塔体、喷淋头、排气口、进气口，塔体顶端设有排气口，塔体下方设有进气口，塔体内安装有喷淋头，所述进气口的出气口处连接有气体分布器，塔体内安装有填料框，填料框与塔体内壁之间固定有硅胶密封层，填料框顶部固定有过滤层。本实用新型通过气体分布器使得通入塔体内的废气分布的更加均匀，提高气液接触效率。通过硅胶密封层来避免填料框与塔体内壁之间有缝隙，而让气体从该缝隙通过。本申请提高了填料塔的气液反应效率低。
Description
技术领域
本实用新型涉及填料塔领域，尤其是均匀分布式填料塔。
背景技术
填料塔又称填充塔。填料塔以填料作为气、液接触和传质的基本构件，液体在填料表面呈膜状自上而下流动，气体呈连续相自下而上与液体作递向流动，并进行气、液两相间的传质和传热。两相的组分浓度和温度沿塔高连续变化。填料塔属于微分接触型的气、液传质设备。化工生产中常用的一类传质设备。主要由圆柱形的塔体和堆放在塔内的填料(各种形状的固体物，用于增加两相流体间的面积，增强两相间的传质)等组成。用于吸收、蒸馏、萃取等。但是现有的填料塔的气液反应效率低。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决背景技术中描述的技术问题，本实用新型提供了一种均匀分布式填料塔。通过气体分布器使得通入塔体内的废气分布的更加均匀，提高气液接触效率。通过硅胶密封层来避免填料框与塔体内壁之间有缝隙，而让气体从该缝隙通过。本申请提高了填料塔的气液反应效率低。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种均匀分布式填料塔，包括塔体、喷淋头、排气口、进气口，塔体顶端设有排气口，塔体下方设有进气口，塔体内安装有喷淋头，所述进气口的出气口处连接有气体分布器，塔体内安装有填料框，填料框与塔体内壁之间固定有硅胶密封层，填料框顶部固定有过滤层。
具体地，所述填料框上设有用于防腐蚀的石墨烯层。
具体地，所述过滤层为丝网层。
具体地，所述填料框包括支撑座、框体，支撑座固定连接在塔体上，框体配合在支撑座内，支撑座与塔体内壁之间固定有硅胶密封层。
具体地，所述支撑座通过螺栓固定连接在塔体内壁上。
具体地，所述塔体外壁上设有输水纳米层。
本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种均匀分布式填料塔。通过气体分布器使得通入塔体内的废气分布的更加均匀，提高气液接触效率。通过硅胶密封层来避免填料框与塔体内壁之间有缝隙，而让气体从该缝隙通过。本申请提高了填料塔的气液反应效率低。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图；
图中1.塔体，2.喷淋头，3.排气口，4.进气口，5.气体分布器,6.填料
框，7.过滤层，61.支撑座，62.框体。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
图1是本实用新型的结构示意图。
如附图1所示，一种均匀分布式填料塔，包括塔体1、喷淋头2、排气口3、进气口4，塔体1顶端设有排气口3，塔体1下方设有进气口4，塔体1内安装有喷淋头2，所述进气口4的出气口处连接有气体分布器5，塔体1内安装有填料框6，填料框6与塔体1内壁之间固定有硅胶密封层，填料框6顶部固定有过滤层7。
废气通过进气口4进入到塔体1内，通过气体分布器5将气体均匀分布到填料内，提高了气相接触效率。
填料框6上设有用于防腐蚀的石墨烯层。石墨烯层可以提高填料框6的耐腐蚀性，延长其使用寿命。
过滤层7为丝网层。过滤层7可以防止较大体积的污物进入到填料框6内。
填料框6包括支撑座61、框体62，支撑座61固定连接在塔体1上，框体62配合在支撑座61内，支撑座61与塔体1内壁之间固定有硅胶密封层。硅胶密封层可以提高填料框6与塔体1之间的密封性，避免气液从填料框6与塔体1之间的间隙通过。
支撑座61通过螺栓固定连接在塔体1内壁上。
塔体1外壁上设有输水纳米层。输水纳米层可以防止外部污水停留在塔体1上，避免塔体1腐蚀，延长了其使用寿命。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (6)
1.一种均匀分布式填料塔，包括塔体(1)、喷淋头(2)、排气口(3)、进气口(4)，塔体(1)顶端设有排气口(3)，塔体(1)下方设有进气口(4)，塔体(1)内安装有喷淋头(2)，其特征是，所述进气口(4)的出气口处连接有气体分布器(5)，塔体(1)内安装有填料框(6)，填料框(6)与塔体(1)内壁之间固定有硅胶密封层，填料框(6)顶部固定有过滤层(7)。
2.根据权利要求1所述的均匀分布式填料塔，其特征在于：所述填料框(6)上设有用于防腐蚀的石墨烯层。
3.根据权利要求1所述的均匀分布式填料塔，其特征在于：所述过滤层(7)为丝网层。
4.根据权利要求1所述的均匀分布式填料塔，其特征在于：所述填料框(6)包括支撑座(61)、框体(62)，支撑座(61)固定连接在塔体(1)上，框体(62)配合在支撑座(61)内，支撑座(61)与塔体(1)内壁之间固定有硅胶密封层。
5.根据权利要求4所述的均匀分布式填料塔，其特征在于：所述支撑座(61)通过螺栓固定连接在塔体(1)内壁上。
6.根据权利要求1所述的均匀分布式填料塔，其特征在于：所述塔体(1)外壁上设有输水纳米层。
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2023
- 2023-09-18 CN CN202322521686.6U patent/CN220940598U/zh active Active
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