CN220867505U - 一种镀膜设备的真空系统保护装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种镀膜设备的真空系统保护装置，涉及真空镀膜设备领域。该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵，所述真空系统保护装置包括磁性组件和过滤组件，磁性组件和过滤组件的双重作用有效去除粉尘从而保护分子泵，提高分子泵使用寿命，提高生产效率，从而有效的保护分子泵。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种镀膜设备的真空系统保护装置。
背景技术
真空镀膜机指需要在较高真空度下进行镀膜，由炉室、管道、分子泵等结构组成的设备，炉室顶部抽气口连接管道，管道前端连接真空室，后端连接分子泵抽气口，在设备进行镀膜过程中，高温气体和粉尘会进入分子泵，从而降低分子泵的寿命和功效，直接影响生产效率，增大生产成本。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种镀膜设备的真空系统保护装置，解决了目前真空镀膜机会损坏分子泵的问题。
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种镀膜设备的真空系统保护装置，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道设置的磁性组件和过滤组件。
优选的，磁性组件包括电磁控件，所述电磁控件的电流范围为0.1A~10A。
优选的，过滤组件包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目。
优选的，在磁性组件和过滤组件之间设置接口，实现磁性组件内收集的粉尘的清理。
优选的，过滤组件中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
优选的，所述真空系统保护装置还包括冷却组件，冷却组件位于炉室和磁性组件之间，设置于真空管道前端，冷却组件采用水冷系统，进水温度范围为18~22℃。
本实用新型公开了一种真空镀膜设备的除尘装置，其具备的有益效果如下：一种镀膜设备的真空系统保护装置，涉及真空镀膜设备领域。该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵，所述真空系统保护装置包括磁性组件和过滤组件，磁性组件和过滤组件的双重作用有效去除粉尘从而保护分子泵，提高分子泵使用寿命，提高生产效率，从而有效的保护分子泵。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一个实施例的装置的结构示意图；
图2为本实用新型另一个实施例的装置的结构示意图。
图中：1、炉室；2、真空管道；3、冷却组件；4、磁性组件；5、过滤组件；6、分子泵。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本申请实施例通过提供一种镀膜设备的真空系统保护装置，解决了目前真空镀膜机会损坏分子泵的问题。
为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
本实用新型实施例公开一种真空镀膜设备的除尘装置。
根据图1所示，本实用新型一个实施例提供一种镀膜设备的真空系统保护装置，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室1，所述炉室1的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道2，真空管道2前端位于炉室1的顶部，真空管道2末端连接分子泵6；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道2设置的磁性组件4和过滤组件5，磁性组件4和过滤组件5双重作用去除粉尘从而保护分子泵6。
在该实施例中，磁性组件4包括电磁控件，电磁控件例如可为环状，真空管道2从环状电磁控件中间穿过，所述电磁控件接入电源，可调节电流的大小从而控制磁性强度对所述真空管道2内的磁性粉尘进行除尘从而达到保护分子泵的目的，所述电磁控件的电流范围为0.1~10A。
在该实施例中，过滤组件5采用常见的过滤设备即可，包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目，可根据更换不同目数的过滤网，从而阻止粉尘进入分子泵。
在该实施例中，在磁性组件4和过滤组件5之间设置接口，实现磁性组件4内收集的粉尘的清理。
在该实施例中，过滤组件5中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
根据图2所示，本实用新型另一个实施例提供一种镀膜设备的真空系统保护装置，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室1，所述炉室1的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道2，真空管道2前端位于炉室1的顶部，真空管道2末端连接分子泵6；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道2设置的冷却组件3、磁性组件4和过滤组件5，冷却组件3用于冷却真空管道2内的气体温度，磁性组件4和过滤组件5双重作用去除粉尘从而保护分子泵6。
在该实施例中，磁性组件4包括电磁控件，电磁控件例如可为环状，真空管道2从环状电磁控件中间穿过，所述电磁控件可调节电流的大小从而控制磁性强度对所述真空管道2内的磁性粉尘进行除尘从而达到保护分子泵6的目的，所述电磁控件的电流范围为0.1~10A。
在该实施例中，过滤组件5采用常见的过滤设备即可，包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目，可根据更换不同目数的过滤网，从而阻止粉尘进入分子泵6。
在该实施例中，在磁性组件4和过滤组件5之间设置接口，实现磁性组件4内收集的粉尘的清理。
在该实施例中，过滤组件5中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
在该实施例中，冷却组件3采用水冷系统，例如可以通过缠绕的方式将水冷管布置在真空管道2管壁上，进水温度范围为18~22℃，主要用于冷却管道内的气体温度从而保护分子泵6。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道设置的磁性组件和过滤组件。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，磁性组件包括电磁控件，所述电磁控件的电流范围为0.1A~10A。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，过滤组件包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，在磁性组件和过滤组件之间设置接口，实现磁性组件内收集的粉尘的清理。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，过滤组件中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，所述真空系统保护装置还包括冷却组件，冷却组件位于炉室和磁性组件之间，设置于真空管道前端，冷却组件采用水冷系统，进水温度范围为18~22℃。
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