CN220760330U - 一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，包括清洗箱以及装配于清洗箱下方的循环过滤组件，清洗箱底部设置安装槽，清洗箱底部固定装配下盖板；循环过滤组件固定装配于下盖板上。在循环过滤组件中，过滤槽、收集槽保持由内至外套设姿态，过滤槽的侧壁上均匀开设滤孔，过滤槽两端分别连通有布置于收集槽外侧的循环进管、沉积箱，螺旋输送叶装配于过滤槽中并与过滤槽内壁贴合，且螺旋输送叶动力连接有驱动电机，收集槽底部连通有循环出管，且循环出管上装配有加压泵，循环进管、循环出管分别与清洗箱两端连通。本实用新型能够将后浸剂中清洗后的杂质进行循环高效过滤以保证后浸剂的纯度，能够将过滤杂质收集并单独外排。

Description

一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统

技术领域

本实用新型涉及印制电路板处理技术领域，具体的说是一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统。

背景技术

印制电路板在生产处理中需要涉及到化镍金工艺，通过化学反应在印制电路板的铜层表面置换钯，再在钯核的基础上化学镀上一层镍磷合金层，然后再通过置换反应在镍的表面镀上一层金，以用来防止电路板表面的铜被氧化或腐蚀。

在印制电路板经过镍化金处理后，需要再后浸剂环境中进行超声清洗，以去除表面残余杂质，多为钯周围的有机络合物及还原剂，为保证印制电路板在生产流水线中进行高效批量的超声清洗，需要保证经过化镍金处理后的印制电路板在后浸剂中持续输送，需要将后浸剂中清洗后的杂质进行高效过滤以保证后浸剂的纯度，需要将过滤处理的后浸剂循环输入，需要将过滤杂质收集外排。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述不足之处，本实用新型目的是提供一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，能够将后浸剂中清洗后的杂质进行循环高效过滤以保证后浸剂的纯度，能够将过滤杂质收集并单独外排。

本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是：一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，包括清洗箱以及装配于清洗箱下方的循环过滤组件，所述清洗箱开口朝上布置，且清洗箱底部设置有开口朝下布置的安装槽，所述清洗箱底部固定装配有用于封堵安装槽的下盖板；所述循环过滤组件固定装配于下盖板上，且循环过滤组件包括过滤槽、收集槽、沉积箱、螺旋输送叶、加压泵，所述过滤槽、收集槽保持由内至外套设姿态固定安装于下盖板底部，且过滤槽的侧壁上均匀开设有滤孔，所述过滤槽两端分别连通有布置于收集槽外侧的循环进管、沉积箱，所述螺旋输送叶装配于过滤槽中并与过滤槽内壁贴合，且螺旋输送叶动力连接有驱动电机，所述收集槽底部连通有循环出管，且循环出管上装配有所述加压泵，所述循环进管、循环出管分别与清洗箱两端连通。

在其中一些实施中，为保证超声波发生器、超声波换能器能够在安装槽中稳定装配，保证下盖板能够在清洗箱底部稳定装配进而对安装槽底部开口进行封堵，以使超声波发生器、超声波换能器稳定运行不受干扰，保证清洗箱在工厂车间中稳定装配避免收集槽、沉积箱脱离地面，对此提供有如下技术方案。

所述安装槽的内壁固接有安装挂架，所述清洗箱外壁两侧固接有连接翼板，所述下盖板通过固定螺栓固定连接至连接翼板上。

在其中一些实施中，为保证循环进管、循环出管能够与清洗箱的两端稳定连接，保证循环进管能够与收集槽稳定连接，进而保证后浸剂在其中稳定输送，对此提供有如下技术方案。

所述清洗箱的两端分别装配有与清洗箱保持连通循环出口、循环进口，循环出口设置于清洗箱底部，循环进口设置于清洗箱顶部，所述循环进管、循环出管分别与循环出口、循环进口保持连通；所述过滤槽两端分别连接有贯穿收集槽布置的进口接管、杂质接管，且进口接管、杂质接管分别与循环进管、沉积箱保持连通。

在其中一些实施中，为保证螺旋输送叶在过滤槽中稳定装配，同时实现与驱动电机的稳定连接，保证驱动电机安装稳定性，对此提供有如下技术方案。

所述沉积箱固定安装于所述下盖板底部，所述沉积箱的外壁固接有安装座，所述螺旋输送叶固接至安装轴上，且安装轴转动安装于过滤槽中并贯穿所述杂质接管、沉积箱布置，所述驱动电机固定安装于安装座上，且驱动电机的输出轴与伸出沉积箱的安装轴通过联轴器相连。

在其中一些实施中，为方便观察沉积箱中收集杂质的状态，方便将沉积箱中收集的杂质外排，同时避免进入沉积箱中的后浸剂泄漏，对此提供有如下技术方案。

所述沉积箱底部设有导料斜坡，且沉积箱底部连通有布置于导料斜坡底部的排杂管，且排杂管上装配有控制阀门，所述沉积箱的侧壁上开设有竖向布置的观察窗，且观察窗上密封装配有透明玻璃。

本实用新型的有益效果：通过在清洗箱的底部架设安装槽以及安装挂架，能够保证超声波发生器、换能器在其中稳定装配；后浸剂在对清洗箱与循环过滤组件中的循环流动，通过过滤槽能够将后浸剂中的杂质拦截，并在螺旋输送叶的持续作用下输入沉积箱中，以实现过滤杂质的单独外排，通过收集槽将过滤的后浸剂收集并在加压泵加压下重新注入清洗箱，以实现后浸剂的循环使用。综上，本申请能够将后浸剂中清洗后的杂质进行循环高效过滤以保证后浸剂的纯度，能够将过滤杂质收集并单独外排。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型另一视角的结构示意图；

图3为清洗箱剖切状态的结构示意图；

图4为循环过滤组件的结构示意图 ；

图5为循环过滤组件的剖面图；

图6为沉积箱以及相连部件的结构示意图。

图中：1清洗箱、11安装槽、111安装挂架、12下盖板、13连接翼板、14循环出口、15循环进口、21过滤槽、211循环进管、212进口接管、213杂质接管、22收集槽、221循环出管、23沉积箱、231安装座、232导料斜坡、233排杂管、234控制阀门、235观察窗、24螺旋输送叶、241驱动电机、242安装轴、25加压泵。

实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-6，一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，包括清洗箱1以及装配于清洗箱1下方的循环过滤组件，清洗箱1开口朝上布置，且清洗箱1底部设置有开口朝下布置的安装槽11，清洗箱1底部固定装配有用于封堵安装槽11的下盖板12；循环过滤组件固定装配于下盖板12上，且循环过滤组件包括过滤槽21、收集槽22、沉积箱23、螺旋输送叶24、加压泵25，过滤槽21、收集槽22保持由内至外套设姿态固定安装于下盖板12底部，且过滤槽21的侧壁上均匀开设有滤孔，过滤槽21两端分别连通有布置于收集槽22外侧的循环进管211、沉积箱23，螺旋输送叶24装配于过滤槽21中并与过滤槽21内壁贴合，且螺旋输送叶24动力连接有驱动电机241，收集槽22底部连通有循环出管221，且循环出管221上装配有加压泵25，循环进管211、循环出管221分别与清洗箱1两端连通。

安装槽11的设置，方便将超声波发生器、超声波换能器装配于其中，使超声波换能器与安装槽11内壁贴合布置，在清洗箱1中注入后浸剂，后浸剂多为酸性溶液，比如稀硫酸，以在清洗箱1中生成超声波清洗环境。

在对经过化镍金处理后的印制电路板进行流水线式的后浸剂超声清洗时，需要再清洗箱1的上方装配传输设备，传输设备上均匀装设有夹具，以方便将印制电路板稳定夹取，传输设备在清洗箱1上方的部分采用下沉式设计，以保证进入清洗箱1中的印制电路板下沉至清洗箱1内部，由后浸剂将其淹没，并在超声波发生器、超声波换能器的作用下对进入清洗箱1中的印制电路板进行高效清洗，当印制电路板在传输设备带动下从清洗箱1的一端运行至另一端时完成后浸剂超声清洗工作。

在清洗过程中，印制电路板上的杂质洗入后浸剂中，清洗箱1中的后浸剂携带杂质由循环进管211自由输入过滤槽21中，由于螺旋输送叶24的设置，会对其中后浸剂造成减速效果，在螺旋输送叶24缓慢运行下带动后浸剂缓慢输送，在此过程中，后浸剂透过过滤槽21上的滤孔进入收集槽22中收集，而杂质会拦截至过滤槽21内壁，在螺旋输送叶24的持续作用下输送至沉积箱23中进行沉积，最终从沉积箱23外排，以保证过滤槽21能够持续高效的对后浸剂进行过滤处理，而加压泵25工作将经过过滤处理的后浸剂沿循环出管221重新输入清洗箱1，以保证清洗箱1中后浸剂的纯度。

为保证超声波发生器、超声波换能器能够在安装槽11中稳定装配，保证下盖板12能够在清洗箱1底部稳定装配进而对安装槽11底部开口进行封堵，以使超声波发生器、超声波换能器稳定运行不受干扰，保证清洗箱1在工厂车间中稳定装配避免收集槽22、沉积箱23脱离地面，对此提供有如下技术方案。

安装槽11的内壁固接有安装挂架，清洗箱1外壁两侧固接有连接翼板13，下盖板12通过固定螺栓固定连接至连接翼板13上。

安装挂架的设置能够保证装配于安装槽11中的超声波发生器、超声波换能器在安装挂架上稳定安装，连接箱清洗箱1两侧延伸，不仅方便将下盖板12在其上进行固定安装，也能够将安装支架固定装配于其上，由安装支架将清洗箱1稳定支撑并进行装配，同时将清洗箱1的安装高度抬高，把你面收集槽22、沉积箱23脱离地面以保证其稳定运行。

为保证循环进管211、循环出管221能够与清洗箱1的两端稳定连接，保证循环进管211能够与收集槽22稳定连接，进而保证后浸剂在其中稳定输送，对此提供有如下技术方案。

清洗箱1的两端分别装配有与清洗箱1保持连通循环出口14、循环进口15，循环出口14设置于清洗箱1底部，循环进口15设置于清洗箱1顶部，循环进管211、循环出管221分别与循环出口14、循环进口15保持连通；过滤槽21两端分别连接有贯穿收集槽22布置的进口接管212、杂质接管213，且进口接管212、杂质接管213分别与循环进管211、沉积箱23保持连通。

由于循环出口14装配于清洗箱1的底部，有水位落差能够保证清洗箱1中的后浸剂沿循环出口14、循环进管211、进口接管212输送至过滤槽21中，而收集槽22中所收集过滤后的后浸剂能够在加压泵25的作用下沿循环出管221、循环进口15输入清洗箱1中，以对清洗箱1中补充后浸剂。

进口接管212、杂质接管213伸出收集槽22外侧，方便实现循环进管211、沉积箱23与收集槽22的连通。

为保证螺旋输送叶24在过滤槽21中稳定装配，同时实现与驱动电机241的稳定连接，保证驱动电机241安装稳定性，对此提供有如下技术方案。

沉积箱23固定安装于下盖板12底部，沉积箱23的外壁固接有安装座231，螺旋输送叶24固接至安装轴242上，且安装轴242转动安装于过滤槽21中并贯穿杂质接管213、沉积箱23布置，驱动电机241固定安装于安装座231上，且驱动电机241的输出轴与伸出沉积箱23的安装轴242通过联轴器相连。

安装轴242的设置保证螺旋输送叶24在其上稳定安装，由驱动电机241工作带动安装轴242以及螺旋输送叶24稳定运转，进而将拦截的杂质沿过滤槽21稳定输送并最终收集在沉积箱23中，方便由沉积箱23将收集的杂质统一外排，安装座231的设置方便对驱动电机241进行安装。

为方便观察沉积箱23中收集杂质的状态，方便将沉积箱23中收集的杂质外排，同时避免进入沉积箱23中的后浸剂泄漏，对此提供有如下技术方案。

沉积箱23底部设有导料斜坡232，且沉积箱23底部连通有布置于导料斜坡232底部的排杂管233，且排杂管233上装配有控制阀门234，沉积箱23的侧壁上开设有竖向布置的观察窗235，且观察窗235上密封装配有透明玻璃。

在循环过滤组件运行过程中会有部分后浸剂进入沉积箱23中，由于进入沉积箱23中的后浸剂保持几乎静止的状态，进入沉积箱23中的杂质会快速沉积在沉积箱23底部，通过观察窗235查看沉积箱23中的杂质沉积量较多时，通过打开控制阀门234能够将其中杂质外排，在此过程中，由于后浸剂处于沉淀杂质的上方，并不会将后浸剂直接外排。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (5)

1.一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，其特征在于：包括清洗箱（1）以及装配于清洗箱（1）下方的循环过滤组件，所述清洗箱（1）开口朝上布置，且清洗箱（1）底部设置有开口朝下布置的安装槽（11），所述清洗箱（1）底部固定装配有用于封堵安装槽（11）的下盖板（12）；所述循环过滤组件固定装配于下盖板（12）上，且循环过滤组件包括过滤槽（21）、收集槽（22）、沉积箱（23）、螺旋输送叶（24）、加压泵（25），所述过滤槽（21）、收集槽（22）保持由内至外套设姿态固定安装于下盖板（12）底部，且过滤槽（21）的侧壁上均匀开设有滤孔，所述过滤槽（21）两端分别连通有布置于收集槽（22）外侧的循环进管（211）、沉积箱（23），所述螺旋输送叶（24）装配于过滤槽（21）中并与过滤槽（21）内壁贴合，且螺旋输送叶（24）动力连接有驱动电机（241），所述收集槽（22）底部连通有循环出管（221），且循环出管（221）上装配有所述加压泵（25），所述循环进管（211）、循环出管（221）分别与清洗箱（1）两端连通。

2.根据权利要求1所述的一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，其特征在于：所述安装槽（11）的内壁固接有安装挂架，所述清洗箱（1）外壁两侧固接有连接翼板（13），所述下盖板（12）通过固定螺栓固定连接至连接翼板（13）上。

3.根据权利要求1所述的一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，其特征在于：所述清洗箱（1）的两端分别装配有与清洗箱（1）保持连通循环出口（14）、循环进口（15），循环出口（14）设置于清洗箱（1）底部，循环进口（15）设置于清洗箱（1）顶部，所述循环进管（211）、循环出管（221）分别与循环出口（14）、循环进口（15）保持连通；所述过滤槽（21）两端分别连接有贯穿收集槽（22）布置的进口接管（212）、杂质接管（213），且进口接管（212）、杂质接管（213）分别与循环进管（211）、沉积箱（23）保持连通。

4.根据权利要求3所述的一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，其特征在于：所述沉积箱（23）固定安装于所述下盖板（12）底部，所述沉积箱（23）的外壁固接有安装座（231），所述螺旋输送叶（24）固接至安装轴（242）上，且安装轴（242）转动安装于过滤槽（21）中并贯穿所述杂质接管（213）、沉积箱（23）布置，所述驱动电机（241）固定安装于安装座（231）上，且驱动电机（241）的输出轴与伸出沉积箱（23）的安装轴（242）通过联轴器相连。

5.根据权利要求1所述的一种化镍金后浸剂中超声辅助清洗系统，其特征在于：所述沉积箱（23）底部设有导料斜坡（232），且沉积箱（23）底部连通有布置于导料斜坡（232）底部的排杂管（233），且排杂管（233）上装配有控制阀门（234），所述沉积箱（23）的侧壁上开设有竖向布置的观察窗（235），且观察窗（235）上密封装配有透明玻璃。