CN220698762U - 一种吸盘结构及一种上料机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及物件抓取领域，公开了一种吸盘结构及一种上料机构，包括盘体(1)，盘体(1)的下端设置有用于和码盘贴附的接触面(2)，盘体(1)的下侧设置有吸附孔(3)，真空压力可以通过吸附孔(3)将码盘吸附在接触面(2)上，盘体(1)的中部设置有图像采集孔(4)；码盘被吸附时，至少码盘标记圆(5)位于图像采集孔(4)投影的范围内。该结构具有结构紧凑，匹配程度高，适用范围广等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及物件抓取领域，尤其涉及了一种吸盘结构及一种上料机构。
背景技术
随着技术的发展，航空、航海及民用各种控制系统。如雷达定向导航、坐标变换、火炮控制、机床控制系统等，都对轴角(位移)测控系统提出了越来越高的要求。为满足对恶劣工况环境的适应能力、高测量精度、高稳定性、长的工作寿命的要求，对编码器主轴在旋转过程中的高旋转精度(更小的端向、径向游隙)，及编码器主轴的载荷能力提出了更高的要求。比如中国专利CN202010151017.2提供了一种编码器的形式，编码器数据的采集通过动光栅、光源、电路板来获取数据，动光栅与转轴连接同步转动，编码器根据码盘的转动来采集数据。为确保精度，该种结构对码盘与其安装的转轴或者安装座同轴度要求十分高，现有技术中一般采用人工在借助放大镜或者显微镜的条件下进行码盘安装，安装的精度取决于人工估算以及工人的熟练度，该种装配方式效率低，精度无法保证。
进行自动化设计时，因为码盘为透明结构，机器视觉需要采集码盘信息，现有的上料以及吸附机构会对码盘信息采集造成影响，而且过程无法控制，所以需要设计一种新型的上料结构去匹配自动化设计。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术中的缺点，提供了一种吸盘结构。
为了解决上述技术问题，本实用新型通过下述技术方案得以解决：
一种吸盘结构，包括盘体，盘体的下端设置有用于和码盘贴附的接触面，盘体的下侧设置有吸附孔，真空压力可以通过吸附孔将码盘吸附在接触面上，盘体的中部设置有图像采集孔；码盘被吸附时，至少码盘标记圆环位于图像采集孔投影的范围内。
作为优选，盘体内部设置有用于外接真空的气道，气道与吸附孔连通。
作为优选，吸附孔孔口所在平面与接触面平齐或者吸附孔位于接触面的上侧。
作为优选，还包括真空槽，真空槽槽口两侧的端面为接触面，吸附孔开设在真空槽内；码盘抵触在真空槽槽口位置时，真空槽为密闭空间。
作为优选，吸附孔开设在真空槽的底面上或者真空槽的侧面上。
作为优选，真空槽为环槽，图像采集孔位于真空槽内侧。
作为优选，真空槽为圆环状槽，图像采集孔为圆形孔，真空槽和图像采集孔同轴线设置。
一种上料机构，包括移动组件，以及安装在移动组件上的抓取组件，抓取组件包括上下方向运动的气缸一以及安装在气缸一上的真空吸盘，真空吸盘具有上述的码盘吸附结构，还包括真空组件，真空组件与吸附口通过气路相连。
作为优选，还包括用于控制对气缸一输入压力进行控制的压力控制单元，压力控制单元与气缸一连接。
作为优选，还包括上料平台，上料平台上设置有用于对码盘进行限位的上料槽，上料槽的侧面轮廓与码盘的外圆轮廓相适配。
本实用新型由于采用了以上技术方案，具有如下显著的技术效果：
本技术方案所设计的码盘吸附结构，其创造性的解决了码盘上料过程中，能够同时对码盘信息进行捕捉，而且该种码盘吸附结构具有结构紧凑，空间利用率高等优点，可以同时实现上料以及定位的操作，吸附结构本身不会对码盘造成干涉，同时上料过程中的下压力可控避免了码盘的磨损。
附图说明
图1是吸盘结构的整体结构示意图。
图2是吸盘结构底部视角的结构示意图。
图3是上料机构的结构示意图。
图4是码盘的结构示意图。
图中附图标记的技术名称为：1—盘体、2—接触面、3—吸附孔、4—图像采集孔、5—标记圆环、6—孔口、7—真空槽、8—抓取组件、10—真空吸盘、11—运动机构一、12—移动组件、13—上料平台、14—上料槽、15—控制单元一、16—气道。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步详细描述。
实施例1
一种吸盘结构，包括盘体1，盘体1的下端设置有用于和码盘贴附的接触面2，盘体1的下侧设置有吸附孔3，真空压力可以通过吸附孔3将码盘吸附在接触面2上，盘体1的中部设置有图像采集孔4；码盘被吸附时，至少码盘标记圆环5位于图像采集孔4投影的范围内。本实施例中码盘标记圆环为盘体上靠近内圈最宽的环体，采集时采集该环体的位置。为其中盘体1为非透光材质，非透光材质能够避免在后期光源照射中对码盘以及轴承数据采集造成干涉，盘体1从上方将码盘吸附，所以本方案中的接触面2以及吸附孔3均开设在下侧。
本方案经过多轮设计设计了图像采集孔4结构，该结构不是简单的孔形结构那么简单，该结构首先能够使光照穿过，码盘的部分会落入在图像采集孔4的投影区内，所以其不会出现干涉现象，同时该种图像采集孔4给码盘、轴承提供了装配以及检测空间。
本实施例中，盘体1内部设置有用于外接真空的气道16，气道16与吸附孔3连通。
本实施例中，吸附孔3孔口6所在平面与接触面2平齐或者吸附孔3位于接触面2的上侧。在本实施例中吸附孔3孔口6位于接触面2的上侧，即吸附口和接触面2之间存在一定的高度差。
具体的，还包括真空槽7，真空槽7槽口两侧的端面为接触面2，吸附孔3开设在真空槽7内；码盘抵触在真空槽7槽口位置时，真空槽7为密闭空间。该种吸附槽结构设计的目的在于保证码盘被吸附时各处受力基本相同，从而保证码盘在吸附过程中出现倾斜或者滑移的问题，尽可能的保证吸附时码盘各处被同时吸起。
所述的，吸附孔3开设在真空槽7的底面上或者真空槽7的侧面上，本实施例中吸附孔3开设在真空槽7的底面顶面上。在本方案中真空槽7为环槽，图像采集孔4位于真空槽7内侧。具体的真空槽7为圆环状槽，图像采集孔4为圆形孔，真空槽7和图像采集孔4同轴线设置，图像采集孔4被环形槽包围。
工作时整个盘体1落在码盘上，然后通入真空，通过真空槽7将码盘平稳的吸附在接触面2上，而且码盘的中间的图像采集孔4能够显示码盘靠近中心的记号圆环，不会对其造成阻挡，方便在机器视觉过程中采集码盘的中心，而且该过程中不需要将码盘卸料，保证调节过程中的稳定性。
实施例2
与实施例1不同之处在于：真空槽7为非环形槽，真空槽7为一个或者多个槽型结构组成，槽型结构可以为弧形槽或者直槽，真空槽7内通过直接吸附孔3通入真空或者通过吸附孔3间接通入真空。
实施例3
与实施例1不同之处在于：未设置真空槽7，吸附孔3设置在接触面2上，吸附孔3孔口6位置与接触面2平齐。
实施例4
本实施例与实施例1的区别之处在于：吸附孔3设置在真空槽7的侧面上。
实施例5
与实施例的区别之处在于：吸附孔3通过气路与真空槽7连通。
实施例6
一种上料机构，包括移动组件12，以及安装在移动组件12上的抓取组件8，抓取组件8包括上下抓取组件8包括真空吸盘10，真空吸盘10具有上述实施例中任意一种所述的吸盘结构，抓取组件8还包括上下运动机构一11，真空吸盘10安装在上下运动机构一11上并由上下运动机构一11带动进行运动，还包括真空组件，真空组件与吸附口通过气路相连。
本实施例中，上下运动机构一11为气缸，还包括用于控制对气缸一输入压力进行控制的压力控制单元，压力控制单元为压力阀，压力控制单元与气缸一连接。通过压力控制单元可以控制气缸一的下压力，从而控制吸盘对装载台的压力。本实施例中，移动组件12包括伺服电机和由伺服电机带动的滑台机构。
通过压力控制能够精确控制
实施例7
与实施例6相比，本实施例运动机构一11采用电缸来代替气缸实现上下方向运动的控制。电缸的压力控制通过控制器进行控制。
实施例8
本实施例在实施例6、实施例7的基础上提供一种上料平台13，上料平台13上设置有用于对码盘进行限位的上料槽14，上料槽14的侧面轮廓与码盘的外圆轮廓相适配。
Claims (10)
1.一种吸盘结构，其特征在于：包括盘体(1)，盘体(1)的下端设置有用于和码盘贴附的接触面(2)，盘体(1)的下侧设置有吸附孔(3)，真空压力可以通过吸附孔(3)将码盘吸附在接触面(2)上，盘体(1)的中部设置有图像采集孔(4)；码盘被吸附时，至少码盘标记圆(5)位于图像采集孔(4)投影的范围内。
2.根据权利要求1所述的一种吸盘结构，其特征在于：盘体(1)内部设置有用于外接真空的气道(16)，气道(16)与吸附孔(3)连通。
3.根据权利要求1所述的一种吸盘结构，其特征在于：吸附孔(3)孔口(6)所在平面与接触面(2)平齐或者吸附孔(3)位于接触面(2)的上侧。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种吸盘结构，其特征在于：还包括真空槽(7)，真空槽(7)槽口两侧的端面为接触面(2)，吸附孔(3)开设在真空槽(7)内；码盘抵触在真空槽(7)槽口位置时，真空槽(7)为密闭空间。
5.根据权利要求4所述的一种吸盘结构，其特征在于：吸附孔(3)开设在真空槽(7)的底面上或者真空槽(7)的侧面上。
6.根据权利要求4所述的一种吸盘结构，其特征在于：真空槽(7)为环槽，图像采集孔(4)位于真空槽(7)内侧。
7.根据权利要求6所述的一种吸盘结构，其特征在于：真空槽(7)为圆环状槽，图像采集孔(4)为圆形孔，真空槽(7)和图像采集孔(4)同轴线设置。
8.一种上料机构，其特征在于：包括移动组件(12)，以及安装在移动组件(12)上的抓取组件(8)，抓取组件(8)包括上下抓取组件(8)包括真空吸盘(10)，真空吸盘(10)具有权利要求1至7任意一种所述的吸盘结构，抓取组件(8)还包括上下运动机构一(11)，真空吸盘(10)安装在上下运动机构一(11)上并由上下运动机构一(11)带动进行运动，还包括真空组件，真空组件与吸附口通过气路相连。
9.根据权利要求8所述的一种上料机构，其特征在于：还包括用于控制上下运动机构一(11)下压力的控制单元一(15)；上下运动机构一(11)为气缸，控制单元一(15)为压力阀；
或上下运动机构一(11)为电缸，控制单元一(15)通过控制电缸电机的转动实现对上下运动机构一(11)下压力的控制。
10.根据权利要求8所述的一种上料机构，其特征在于：还包括上料平台(13)，上料平台(13)上设置有用于对码盘进行限位的上料槽(14)，上料槽(14)的侧面轮廓与码盘的外圆轮廓相适配；移动组件(12)包括伺服电机和由伺服电机带动的滑台机构。
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