CN220672531U - 干蚀刻装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种干蚀刻装置，涉及显示面板的制造技术领域。干蚀刻装置包括腔体、基座、上电极、下电极、分子泵和挡板，腔体的顶部设置有多个进气孔。基座通过支撑架设于腔体内；上电极设于腔体的顶部，下电极设于基座上，基板置于下电极上，上电极和下电极通电，气体自多个进气孔进入腔体内，在上电极和下电极之间形成电浆，以对基板进行蚀刻。分子泵设于腔体的下方，能将腔体内反应后的气体抽出。挡板围设于基座与腔体的底部之间，挡板的开度可调。通过调节挡板的开度，能够实现不同类型的显示面板的蚀刻速率，无需设置多个干蚀刻装置，或者多次拆装挡板，通用性更好，而且降低了成本。

Description

干蚀刻装置

技术领域

本实用新型涉及显示面板的制造技术领域，尤其涉及一种干蚀刻装置。

背景技术

基板的蚀刻是通过电浆蚀刻将显影后没有被光阻覆盖的薄膜去除，做出需要的线路图案，蚀刻工艺是显示面板制造过程中的一个重要工艺。蚀刻包括干蚀刻和湿式化学蚀刻，干蚀刻即将特定气体置于低压状态下施以电压，将其激发成电浆，对特定膜层加以化学性蚀刻或离子轰击，达到去除膜层的一种蚀刻方式。

现有技术中的干蚀刻装置通过在腔体的底部设置分子泵，腔体内设置有基座，腔体的顶部设置上电极，基座上设置下电极，基板设置于下电极上，气体进入腔体，通过对上电极和下电极施加电压，使得气体在上电极和下电极之间产生电浆对基板进行蚀刻，分子泵对腔体内的气体进行抽气排气，分子泵的抽气速率决定了蚀刻速率，而分子泵的抽气速率和方向无法人为控制，由于不同类型的显示面板要求的蚀刻速率不同，现有技术中，对于蚀刻速率要求较高的显示面板进行蚀刻时，通过在蚀刻装置的基座和腔体的底部之间设置挡板，使得气体在腔体内沿基座和挡板的外周聚集，不利于分子泵抽气，腔体内的气体浓度较高，提高了反应速度，进而提高蚀刻速率；而对于蚀刻速率要求较低的显示面板进行蚀刻时，不设置挡板，气体能向基座和腔体的底部之间迅速流动，分子泵抽气速率较高，腔体内的气体浓度较低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。这样导致需要设置多种干蚀刻装置，或者需要根据需求拆装挡板，以实现不同类型的显示面板的蚀刻要求，通用性差，成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种干蚀刻装置，该干蚀刻装置的通用性更好，能够适应不同类型的显示面板的蚀刻要求。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

干蚀刻装置，其包括：

腔体，所述腔体的顶部设置有多个进气孔；

基座，所述基座通过支撑架设于所述腔体内；

上电极，所述上电极设于所述腔体的顶部；

下电极，所述下电极设于所述基座上；

所述上电极和所述下电极通电，气体自多个所述进气孔进入所述腔体内，在所述上电极和所述下电极之间形成电浆，以对基板进行蚀刻；

分子泵，设于所述腔体的下方，能将所述腔体内反应后的气体抽出；

挡板，围设于所述基座与所述腔体的底部之间，所述挡板的开度可调，以调节所述基板的蚀刻速率。

进一步地，所述挡板包括框架和多个叶片，所述框架固定于所述基座，多个所述叶片沿所述框架的长度方向依次设置，通过控制所述叶片的转动角度控制所述挡板的开度。

进一步地，所述干蚀刻装置还包括驱动组件和传动组件，所述叶片通过转轴与所述框架转动连接，多个所述转轴通过所述传动组件与所述驱动组件连接，所述驱动组件通过所述传动组件带动多个所述转轴同时转动。

进一步地，所述传动组件包括第一齿条、第二齿轮和多个第一齿轮，每个所述转轴伸出所述框架远离所述基座的一端均连接有所述第一齿轮，所述第一齿条的相对两侧均设置有齿形结构，多个所述第一齿轮与其中一侧的所述齿形结构啮合传动，另一侧的所述齿形结构与所述第二齿轮啮合传动，所述驱动组件与所述第二齿轮连接，所述驱动组件驱动所述第二齿轮转动，所述第二齿轮通过所述第一齿条带动多个所述第一齿轮同时转动，以带动多个所述叶片同时转动。

进一步地，所述驱动组件包括手动驱动件和自动驱动件，所述第二齿轮能选择性地与所述手动驱动件或所述自动驱动件连接。

进一步地，所述驱动组件包括手动驱动件，所述手动驱动件与所述第二齿轮连接；或，所述驱动组件包括自动驱动件，所述自动驱动件与所述第二齿轮连接。

进一步地，所述手动驱动件为手动旋钮，所述自动驱动件为伺服马达。

进一步地，每个所述侧壁均对应设置有两个所述挡板，两个所述挡板上的所述叶片均通过一个所述伺服马达驱动。

进一步地，所述干蚀刻装置还包括连接组件，一个所述伺服马达通过所述连接组件同时驱动两个所述挡板上的所述叶片；

所述连接组件包括第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、第一连杆和第二连杆，所述伺服马达的主轴与所述第一锥形齿轮连接，所述第二锥形齿轮与所述第一锥形齿轮啮合传动，所述第二锥形齿轮通过连接轴与所述第一连杆的一端连接，所述第一连杆的另一端连接于所述第二连杆的中部，所述第二连杆的两端均转动连接有所述第二齿轮，所述伺服马达通过所述第一锥形齿轮带动所述第二锥形齿轮转动，所述第二锥形齿轮通过所述连接轴带动所述第一连杆转动，所述第一连杆通过所述第二连杆带动两个所述第二齿轮转动。

进一步地，所述干蚀刻装置还包括导流板，所述导流板设于所述下电极的四周，相邻两个所述导流板之间设置有导流空间，以使气体经所述导流空间导流至所述基座的下方。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供的干蚀刻装置，将挡板围设于基座和腔体的底部之间，将挡板的开度设置为可调，气体自腔体的顶部进入腔体，当挡板的开度为零时，腔体内反应后的气体流向基座和挡板的周向并聚集，不利于分子泵抽气，腔体内上电极和下电极之间的气体浓度较高，提高了反应速度，进而提高了蚀刻速率。当挡板的开度为全开时，腔体内反应后的气体向基座和腔体的底部之间迅速流动，分子泵的抽气速率较高，腔体内的气体浓度较低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。通过调节挡板的开度，能够实现不同类型的显示面板的蚀刻速率，无需设置多个干蚀刻装置，或者多次拆装挡板，通用性更好，而且降低了成本。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的干蚀刻装置的结构示意图；

图2是本实用新型具体实施方式提供的挡板通过传动组件与驱动组件连接的结构示意图。

图中：

100、基板；

1、腔体；2、基座；3、分子泵；4、挡板；5、导流板；6、陶瓷棒；7、连接组件；8、传动组件；10、控制器；

11、上电极；12、电浆；21、下电极；41、叶片；91、伺服马达；92、手动旋钮。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1是本实用新型具体实施方式提供的干蚀刻装置的结构示意图，图2是本实用新型具体实施方式提供的挡板通过传动组件与驱动组件连接的结构示意图，如图1和图2所示，本实施例提供的干蚀刻装置，包括腔体1、基座2、上电极11、下电极21、分子泵3和挡板4，腔体1的顶部设置有多个进气孔。基座2通过支撑架设于腔体1内；上电极11设于腔体1的顶部，下电极21设于基座2上，基板100置于下电极21上，上电极11和下电极21通电，气体自多个进气孔进入腔体1内，在上电极11和下电极21之间形成电浆12，以对基板100进行蚀刻。分子泵3设于腔体1的下方，能将腔体1内反应后的气体抽出。挡板4围设于基座2与腔体1的底部之间，挡板4的开度可调，以调节基板100的蚀刻速率。

本实施例提供的干蚀刻装置，将挡板4围设于基座2和腔体1的底部之间，将挡板4的开度设置为可调，气体自腔体1的顶部进入腔体1，当挡板4的开度为零时，腔体1内反应后的气体流向基座2和挡板4的周向并聚集，不利于分子泵3抽气，腔体1内上电极11和下电极21之间的气体浓度较高，提高了反应速度，进而提高了蚀刻速率。当挡板4的开度为全开时，腔体1内反应后的气体向基座2和腔体1的底部之间迅速流动，分子泵3的抽气速率较高，腔体1内的气体浓度较低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。通过调节挡板4的开度，能够实现不同类型的显示面板的蚀刻速率，无需设置多个干蚀刻装置，或者多次拆装挡板4，通用性更好，而且降低了成本。

具体地，干蚀刻装置还包括导流板5，导流板5设于下电极21的四周，相邻两个导流板5之间设置有导流空间，以使气体经导流空间导流至基座2的下方。若基座2和腔体1的底部之间的挡板4的开度为零，气体通过导流空间进入腔体1的四个角处，在四个角处聚集，不易通过分子泵3抽离排出。若基座2和腔体1的底部之间的挡板4的开度为全开，气体通过导流空间进入腔体1的四个角处后，会经挡板4进入基座2下方，便于分子泵3的抽离，腔体1内的气体浓度降低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。

在本实施例中，导流板5包括四个，四个导流板5均通过陶瓷棒6支撑于腔体1内。四个导流板5中，其中两个为长导流板，另外两个为短导流板，两个长导流板相对设置，两个短导流板相对设置，长导流板与短导流板之间形成有导流空间，基座2上部的气体通过四个导流空间进入基座2和挡板4的四周。

进一步地，挡板4包括框架和多个叶片41，框架固定于基座2上，多个叶片41沿框架的长度方向依次设置，通过控制叶片41的转动角度控制挡板4的开度。在调节挡板4的开度时，多个叶片41向相同方向转动，当挡板4的开度为零时，多个叶片41均旋转至与挡板4所在平面平行；当挡板4的开度为全开时，多个叶片41均旋转至与挡板4所在平面垂直。

在本实施例中，腔体1和基座2均为长方体形，基座2的底部设置为开口，挡板4设置有八个，基座2包括四个侧壁，每个侧壁均对应设置有两个挡板4。在其他实施例中，也可以每个侧壁对应设置一个挡板4，共设置四个挡板4；或，仅设置一个框架，该框架为与基座2相适配的长方体框架，在该长方体框架的四周均设置多个叶片41。挡板4可以连接于基座2的底部，也可以连接于基座2的侧壁。

当然，在其他实施例中，挡板4也可以包括框架和转动板，即基座2的每个侧壁对应设置一个转动板，转动板转动设置于框架内，也可以实现挡板4的开度调节。

为了实现挡板4中的多个叶片41的同时转动，干蚀刻装置还包括驱动组件和传动组件8，叶片41通过转轴与框架转动连接，多个转轴通过传动组件8与驱动组件连接，驱动组件通过传动组件8带动多个转轴同时转动，以实现一个驱动组件通过传动组件8带动挡板4上的多个叶片41同时转动，以调节挡板4的开度，使得多个叶片41的旋转角度的一致性，进而保证了挡板4的开度的一致性。

进一步地，驱动组件包括手动驱动件和/或自动驱动件，当驱动组件包括手动驱动件和自动驱动件两个驱动件时，第二齿轮能选择性地与手动驱动件或自动驱动件连接。当然，驱动组件也可以设置为一个，将驱动组件设置为手动驱动件，或将驱动组件设置为自动驱动件。

具体地，手动驱动件为手动旋钮92，通过人工转动手动旋钮92，手动旋钮92通过传动组件8带动多个叶片41转动，以调节挡板4的开度。

自动驱动件为伺服马达91，干蚀刻装置还包括控制器10，伺服马达91与控制器10电连接，通过控制器10控制伺服马达91的转速和功率，以实现精准控制叶片41的旋转角度，进而精准控制挡板4的开度。

具体地，传动组件8包括第一齿条、第二齿轮和多个第一齿轮，每个转轴伸出框架远离基座2的一端均连接有第一齿轮，第一齿条的相对两侧均设置有齿形结构，多个第一齿轮与其中一侧的齿形结构啮合传动，另一侧的齿形结构与第二齿轮啮合传动，驱动组件与第二齿轮连接，驱动组件驱动第二齿轮转动，第二齿轮通过第一齿条带动多个第一齿轮同时转动，以带动多个叶片41同时转动。驱动组件驱动第二齿轮转动，第二齿轮转动带动第一齿条沿直线方向移动，多个第一齿轮均与第一齿条配合，第一齿条沿直线方向移动能同时带动多个第一齿轮转动，进而驱动多个叶片41同时转动，以调节挡板4的开度。

具体地，手动驱动件与第二齿轮连接，或，自动驱动件与第二齿轮连接。手动驱动件通常用于在对一种类型的显示面板进行蚀刻之间，先将手动驱动件与第二齿轮连接，自动驱动件与第二齿轮解除连接，通过手动驱动件逐渐调节挡板4的开度，记录当蚀刻速率满足该类型的显示面板的蚀刻速率时挡板4的开度，然后根据该挡板4的开度计算伺服马达91的转速和功率，再将伺服马达91的转速和功率输入控制器10的控制程序中，最后将手动驱动件与第二齿轮脱离连接，自动驱动件与第二齿轮连接，通过自动驱动件控制挡板4的开度，实现该类型的显示面板的批量蚀刻。

在本实施例中，为了节约成本，位于基座2同一侧壁的两个挡板4上的叶片41均通过一个伺服马达91驱动。

具体地，干蚀刻装置还包括连接组件7，一个伺服马达91通过连接组件7同时驱动两个挡板4上的叶片41。连接组件7包括第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、第一连杆和第二连杆，伺服马达91的主轴与第一锥形齿轮连接，第二锥形齿轮与第一锥形齿轮啮合传动，第二锥形齿轮通过连接轴与第一连杆的一端连接，第一连杆的另一端连接于第二连杆的中部，第二连杆的两端均转动连接有第二齿轮，伺服马达91通过第一锥形齿轮带动第二锥形齿轮转动，第二锥形齿轮通过连接轴带动第一连杆转动，第一连杆通过第二连杆带动两个第二齿轮转动。

第一锥形齿轮和第二锥形齿轮配合，以改变伺服马达91的动力的传递方向，第二锥形齿轮通过连接轴带动第一连杆摆动，第一连杆带动第二连杆沿直线方向移动，第二连杆沿直线方向移动，带动两端的第二齿轮转动，从而将动力同时传递至两个挡板4上，实现两个挡板4的开度调节。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.干蚀刻装置，其特征在于，包括：

腔体(1)，所述腔体(1)的顶部设置有多个进气孔；

基座(2)，所述基座(2)通过支撑架设于所述腔体(1)内；

上电极(11)，所述上电极(11)设于所述腔体(1)的顶部；

下电极(21)，所述下电极(21)设于所述基座(2)上；

所述上电极(11)和所述下电极(21)通电，气体自多个所述进气孔进入所述腔体(1)内，在所述上电极(11)和所述下电极(21)之间形成电浆(12)，以对基板(100)进行蚀刻；

分子泵(3)，所述分子泵(3)设于所述腔体(1)的下方，能将所述腔体(1)内反应后的气体抽出；

挡板(4)，所述挡板(4)围设于所述基座(2)与所述腔体(1)的底部之间，所述挡板(4)的开度可调，以调节所述基板(100)的蚀刻速率。

2.根据权利要求1所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述挡板(4)包括框架和多个叶片(41)，所述框架固定于所述基座(2)，多个所述叶片(41)沿所述框架的长度方向依次设置，通过控制所述叶片(41)的转动角度控制所述挡板(4)的开度。

3.根据权利要求2所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括驱动组件和传动组件(8)，所述叶片(41)通过转轴与所述框架转动连接，多个所述转轴通过所述传动组件(8)与所述驱动组件连接，所述驱动组件通过所述传动组件(8)带动多个所述转轴同时转动。

4.根据权利要求3所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述传动组件(8)包括第一齿条、第二齿轮和多个第一齿轮，每个所述转轴伸出所述框架远离所述基座(2)的一端均连接有所述第一齿轮，所述第一齿条的相对两侧均设置有齿形结构，多个所述第一齿轮与其中一侧的所述齿形结构啮合传动，另一侧的所述齿形结构与所述第二齿轮啮合传动，所述驱动组件与所述第二齿轮连接，所述驱动组件驱动所述第二齿轮转动，所述第二齿轮通过所述第一齿条带动多个所述第一齿轮同时转动，以带动多个所述叶片(41)同时转动。

5.根据权利要求4所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述驱动组件包括手动驱动件和自动驱动件，所述第二齿轮能选择性地与所述手动驱动件或所述自动驱动件连接。

6.根据权利要求4所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述驱动组件包括手动驱动件，所述手动驱动件与所述第二齿轮连接；或，所述驱动组件包括自动驱动件，所述自动驱动件与所述第二齿轮连接。

7.根据权利要求5或6所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述手动驱动件为手动旋钮(92)，所述自动驱动件为伺服马达(91)。

8.根据权利要求7所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述基座(2)包括四个侧壁，每个所述侧壁均对应设置有两个所述挡板(4)，两个所述挡板(4)上的所述叶片(41)均通过一个所述伺服马达(91)驱动。

9.根据权利要求8所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括连接组件(7)，一个所述伺服马达(91)通过所述连接组件(7)同时驱动两个所述挡板(4)上的所述叶片(41)；

所述连接组件(7)包括第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、第一连杆和第二连杆，所述伺服马达(91)的主轴与所述第一锥形齿轮连接，所述第二锥形齿轮与所述第一锥形齿轮啮合传动，所述第二锥形齿轮通过连接轴与所述第一连杆的一端连接，所述第一连杆的另一端连接于所述第二连杆的中部，所述第二连杆的两端均转动连接有所述第二齿轮，所述伺服马达(91)通过所述第一锥形齿轮带动所述第二锥形齿轮转动，所述第二锥形齿轮通过所述连接轴带动所述第一连杆转动，所述第一连杆通过所述第二连杆带动两个所述第二齿轮转动。

10.根据权利要求1所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括导流板(5)，所述导流板(5)设于所述下电极(21)的四周，相邻两个所述导流板(5)之间设置有导流空间，以使气体经所述导流空间导流至所述基座(2)的下方。