CN220468117U - 一种高镀膜质量的镀膜仪 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高镀膜质量的镀膜仪,涉及真空镀膜仪技术领域,针对硅藻样品属于电子束敏感材料,需要镀上一层金属膜之后才能在电镜下观察表面微观,否则放入电镜会观察效果不好或者破坏部分甚至整个样品结构,若硅藻样品在镀膜设备中镀膜效果较差,在电镜下荷电现象明显,会影响样品观察的问题,现提出如下方案,包括主壳体,所述主壳体的顶部固定设置有顶盖板,所述主壳体内设有真空腔体,所述主壳体的后侧设置有电源线插头与外置泵插头。本实用新型设计合理,提供一种扫描电镜硅藻检验样品镀膜设备,镀膜效果较好,可满足扫描电镜硅藻检验样品及其他非导电样品高质量镀膜效果,值得推广使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜仪技术领域,尤其涉及一种高镀膜质量的镀膜仪。
背景技术
近年来法医病理学硅藻检验取得了不错的成绩,并且发布实施了新的行业标准《法庭科学硅藻检验技术规范微波消解-真空抽滤-显微镜法》。尤其是电镜硅藻检验灵敏度高,大幅提高了硅藻的检验效率和检出率,解决了行业难题。
但是,硅藻样品属于电子束敏感材料,需要镀上一层金属膜之后才能在电镜下观察表面微观,否则放入电镜会观察效果不好或者破坏部分甚至整个样品结构,若硅藻样品在镀膜设备中镀膜效果较差,在电镜下荷电现象明显,会影响样品观察。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决硅藻样品属于电子束敏感材料,需要镀上一层金属膜之后才能在电镜下观察表面微观,否则放入电镜会观察效果不好或者破坏部分甚至整个样品结构,若硅藻样品在镀膜设备中镀膜效果较差,在电镜下荷电现象明显,会影响样品观察的缺点,而提出的一种高镀膜质量的镀膜仪。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种高镀膜质量的镀膜仪,包括主壳体,所述主壳体的顶部固定设置有顶盖板,所述主壳体内设有真空腔体,所述主壳体的后侧设置有电源线插头与外置泵插头,所述主壳体的前侧设置有电源键以及调节旋钮,所述真空腔体内固定安装有短接头、真空规管、卡箍、电控板、电源板、电磁阀、KF转接头、气压调节阀以及智能控制板,所述调节旋钮与所述气压调节阀相适配,所述电源线插头以及所述外置泵插头均与所述电控板相适配;
所述顶盖板的顶部设置有真空工作腔室,所述真空工作腔室内装有玻璃罩,所述真空工作腔室的顶部设置有上铝盖,所述上铝盖的底部安装有上绝缘盖、下绝缘盖、磁铁压板、溅射头主体、靶材盖以及靶材护套,所述顶盖板的顶部固定设置有固定立柱,所述固定立柱内滑动设置有导杆,所述导杆的顶端固定设置有可活动立座。
在一个优选的实施方式中,所述智能控制板上设置有显示屏、工作指示灯、调节按钮,所述显示屏、所述工作指示灯以及所述调节按钮均位于所述主壳体的前侧。
在一个优选的实施方式中,所述真空工作腔室的底部设有底盖,所述底盖内设置有密封圈与圆环底板,所述圆环底板通过牙条杆与物料托盘相连接,所述底盖与所述顶盖板相接触。
在一个优选的实施方式中,所述可活动立座通过铰链与所述上铝盖铰接设置。
在一个优选的实施方式中,所述气压调节阀上固定连通有第一过气管与第二过气管,所述第一过气管用于吸收外界空气,所述第二过气管的顶端与所述真空工作腔室固定连通。
在一个优选的实施方式中,所述电磁阀上固定连通有第三过气管,所述第三过气管固定连通在所述真空腔体内。
本实用新型中,所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,首先接入外置泵,外置泵一端与KF转接头相接,外置泵一端还需通过电路与外置泵插头相接;还需要将电源线插头接入220V工作电源;此外还需将金属靶材放置在溅射头主体和靶材盖之间,将需镀膜样品放置在物料托盘上,将上铝盖盖上,使真空工作腔室形成一个密闭空间;
本实用新型中,所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,打开电源键后真空工作腔室会慢慢形成一个真空高压的环境,可通过调节按钮和调节旋钮调节镀膜时间及真空度使镀膜样品达到较好的镀膜效果;
本实用新型设计合理,提供一种扫描电镜硅藻检验样品镀膜设备,镀膜效果较好,可满足扫描电镜硅藻检验样品及其他非导电样品高质量镀膜效果,值得推广使用。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种高镀膜质量的镀膜仪的立体结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种高镀膜质量的镀膜仪的侧视的剖视结构示意图;
图3为本实用新型提出的一种高镀膜质量的镀膜仪的后视图;
图4为本实用新型提出的一种高镀膜质量的镀膜仪的俯视的剖视结构示意图。
图中:1、主壳体;2、顶盖板;3、电控板;4、电源线插头;5、外置泵插头;6、电源键;7、智能控制板;8、显示屏;9、工作指示灯;10、调节按钮;11、真空腔体;12、短接头;13、KF转接头;14、真空规管;15、卡箍;16、气压调节阀;19、调节旋钮;20、电磁阀;22、电源板;23、真空工作腔室;24、玻璃罩;25、上铝盖;29、溅射头主体;30、靶材盖;31、靶材护套;32、底盖;37、固定立柱;38、导杆;39、铰链;40、可活动立座。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-4,本方案提供的一种实施例:一种高镀膜质量的镀膜仪,包括主壳体1,主壳体1的顶部固定设置有顶盖板2,主壳体1内设有真空腔体11,主壳体1的后侧设置有电源线插头4与外置泵插头5,主壳体1的前侧设置有电源键6以及调节旋钮19,真空腔体11内固定安装有短接头12、真空规管14、卡箍15、电控板3、电源板22、电磁阀20、KF转接头13、气压调节阀16以及智能控制板7,调节旋钮19与气压调节阀16相适配,电源线插头4以及外置泵插头5均与电控板3相适配;
顶盖板2的顶部设置有真空工作腔室23,真空工作腔室23内装有玻璃罩24,真空工作腔室23的顶部设置有上铝盖25,上铝盖25的底部安装有上绝缘盖、下绝缘盖、磁铁压板、溅射头主体29、靶材盖30以及靶材护套31,顶盖板2的顶部固定设置有固定立柱37,固定立柱37内滑动设置有导杆38,导杆38的顶端固定设置有可活动立座40。
本实施例中,智能控制板7上设置有显示屏8、工作指示灯9、调节按钮10,显示屏8、工作指示灯9以及调节按钮10均位于主壳体1的前侧。
本实施例中,真空工作腔室23的底部设有底盖32,底盖32内设置有密封圈与圆环底板,圆环底板通过牙条杆与物料托盘相连接,底盖32与顶盖板2相接触。
本实施例中,可活动立座40通过铰链39与上铝盖25铰接设置。
本实施例中,气压调节阀16上固定连通有第一过气管与第二过气管,第一过气管用于吸收外界空气,第二过气管的顶端与真空工作腔室固定连通。
本实施例中,电磁阀20上固定连通有第三过气管,第三过气管固定连通在真空腔体内。
工作原理,首先接入外置泵,外置泵一端与KF转接头13相接,外置泵一端还需通过电路与外置泵插头5相接;还需要将电源线插头4接入220V工作电源;此外还需将金属靶材放置在溅射头主体29和靶材盖30之间。将需镀膜样品放置在物料托盘上,将上铝盖25盖上,使真空工作腔室23形成一个密闭空间;打开电源键6后真空工作腔室23会慢慢形成一个真空高压的环境,可通过调节按钮10和调节旋钮19调节镀膜时间及真空度使镀膜样品达到较好的镀膜效果。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (6)
1.一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于,包括:
主壳体(1),所述主壳体(1)的顶部固定设置有顶盖板(2),所述主壳体(1)内设有真空腔体(11),所述主壳体(1)的后侧设置有电源线插头(4)与外置泵插头(5),所述主壳体(1)的前侧设置有电源键(6)以及调节旋钮(19),所述真空腔体(11)内固定安装有短接头(12)、真空规管(14)、卡箍(15)、电控板(3)、电源板(22)、电磁阀(20)、KF转接头(13)、气压调节阀(16)以及智能控制板(7),所述调节旋钮(19)与所述气压调节阀(16)相适配,所述电源线插头(4)以及所述外置泵插头(5)均与所述电控板(3)相适配;
所述顶盖板(2)的顶部设置有真空工作腔室(23),所述真空工作腔室(23)内装有玻璃罩(24),所述真空工作腔室(23)的顶部设置有上铝盖(25),所述上铝盖(25)的底部安装有上绝缘盖、下绝缘盖、磁铁压板、溅射头主体(29)、靶材盖(30)以及靶材护套(31),所述顶盖板(2)的顶部固定设置有固定立柱(37),所述固定立柱(37)内滑动设置有导杆(38),所述导杆(38)的顶端固定设置有可活动立座(40)。
2.根据权利要求1所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于:所述智能控制板(7)上设置有显示屏(8)、工作指示灯(9)、调节按钮(10),所述显示屏(8)、所述工作指示灯(9)以及所述调节按钮(10)均位于所述主壳体(1)的前侧。
3.根据权利要求1所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于:所述真空工作腔室(23)的底部设有底盖(32),所述底盖(32)内设置有密封圈与圆环底板,所述圆环底板通过牙条杆与物料托盘相连接,所述底盖(32)与所述顶盖板(2)相接触。
4.根据权利要求1所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于:所述可活动立座(40)通过铰链(39)与所述上铝盖(25)铰接设置。
5.根据权利要求1所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于:所述气压调节阀(16)上固定连通有第一过气管与第二过气管,所述第一过气管用于吸收外界空气,所述第二过气管的顶端与所述真空工作腔室固定连通。
6.根据权利要求1所述的一种高镀膜质量的镀膜仪,其特征在于:所述电磁阀(20)上固定连通有第三过气管,所述第三过气管固定连通在所述真空腔体内。
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